Bosch processとは 意味・読み方・使い方

a method of synthesizing ammonia, called the Haber-Bosch process発音を聞く 例文帳に追加

ハーバーボッシュ法というアンモニア合成法 - EDR日英対訳辞書

To provide a plasma processed shape simulating device and program capable of estimating a processed shape formed by the Bosch process.例文帳に追加

ボッシュプロセスにより形成される加工形状を予測することができる、プラズマ加工形状シミュレーション装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide an ammonia synthesis method from nitrogen and hydrogen in place of Harber Bosch process under high pressure and an apparatus therefor.例文帳に追加

本発明は、高圧を必要とするハーバーボッシュ法に変わる窒素と水素からアンモニアの合成方法とその装置を提案するものである。 - 特許庁

First, a first trench 7a is formed at the upper surface side of a silicon substrate 1 with a first insulating film 3 as a mask member by using, for example, a Bosch process.例文帳に追加

まず、第１の絶縁膜３をマスク部材としてシリコン基板１の上面側に第１のトレンチ７ａを例えばボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having a via hole formed with the use of a Bosch process with a uniform film formed in the via hole.例文帳に追加

ボッシュプロセスを利用して形成されたビアホールを有する半導体装置の製造方法において、ビアホール内での均一な成膜を達成することを目的とする。 - 特許庁

Then, a second trench 7b communicating with the first trench 7a is formed at the back side of the silicon substrate 1 with a second insulating film 5 as a mask member by using the Bosch process.例文帳に追加

次に、第２の絶縁膜５をマスク部材としてシリコン基板１の裏面側に、第１のトレンチ７ａに連通する第２のトレンチ７ｂを同じくボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁

The via hole 3 penetrating through the predetermined region of a semiconductor substrate 1 is formed by etching from one surface to another surface of the semiconductor substrate 1 in applying the Bosch process with the use of a mask layer 2 as a mask.例文帳に追加

マスク層２をマスクとし、ボッシュプロセスを利用して半導体基板１の一方の面から他方の面方向へエッチングし、当該半導体基板１の所定領域を貫通するビアホール３を形成する。 - 特許庁