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CG2の意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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CG2とは 意味・読み方・使い方

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遺伝子名称シソーラスでの「CG2」の意味

CG2

fly遺伝子名CG2
同義語(エイリアス)pairing failure-2; Complementation group 2; pf-2
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのIDEntrezGene:250769
その他のDBのIDFlyBase:FBgn0043864
human遺伝子名CG2
同義語(エイリアス)chromosome 9 open reading frame 5; Protein CG-2; CG-2; C9orf5; Protein C9orf5; FLJ23668
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:Q9H330
EntrezGeneのIDEntrezGene:23731
その他のDBのIDHGNC:1363
human遺伝子名CG2
同義語(エイリアス)XLMTM; MTMX; myotubular myopathy 1; MTM1; myotubularin 1; Myotubularin; CNM
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:Q13496
EntrezGeneのIDEntrezGene:4534
その他のDBのIDHGNC:7448

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
FlyBase
米英大学のショウジョウバエ研究者などにより運営されるショウジョウバエ生態遺伝子情報に関するデータベース
HGNC
HUGO遺伝子命名法委員会により運営されるヒト遺伝子に関するデータベース

「CG2」を含む例文一覧

該当件数 : 18



例文

The charger CG2 is connected to charge the secondary battery E2.例文帳に追加

充電器CG2は、二次電池E2を充電するように接続されている。 - 特許庁

Third semiconductor areas SR1 are arranged in the second areas CG2.例文帳に追加

第3半導体領域SR1は、第2領域CG2に配置されている。 - 特許庁

A distance between the upper portion WG-U and the second gate electrodes CG1, CG2 is larger than that between the lower portion WG-L and the second gate electrodes CG1, CG2.例文帳に追加

上方部WG−Uと第2ゲート電極CG1、CG2との間隔は、下方部WG−Lと第2ゲート電極CG1、CG2との間隔より大きい。 - 特許庁

Also the respective control gates CG1 and CG2 are stacked up in the height direction of a memory cell MC, while insulating them from each other.例文帳に追加

また、各コントロールゲートCG1、CG2を相互に絶縁しつつメモリセルMCの高さ方向に積み重ねている。 - 特許庁

The third semiconductor areas SR1 enhance potential in the second areas CG2 more than potential in the first areas CG1.例文帳に追加

第3半導体領域SR1は、第2領域CG2側でのポテンシャルを第1領域CG1でのポテンシャルよりも高めている。 - 特許庁

Further, not only the memory gate electrodes MG1, MG2 and MG, but also control gate electrodes CG1, CG2 and CG are formed in a sidewall shape.例文帳に追加

さらに、メモリゲート電極MG1、MG2、MGだけでなく、コントロールゲート電極CG1、CG2、CGもサイドウォール形状にする。 - 特許庁

例文

Gasified gas fuel CG2 is supplied with a very small amount of nitrogen oxides and air or oxygen to a fuel reform device 4, utilizing a catalyst to dissolve the nitrogen oxides in the gasified gas fuel CG2 and the nitrogen oxides supplied by the fuel reform device 4 into nitrogen.例文帳に追加

触媒を用いる燃料改質装置4に微量の窒素酸化物と空気または酸素と共に、ガス化ガス燃料CG2を供給し、ガス化ガス燃料CG2中の窒素化合物と燃料改質装置4にて供給した窒素酸化物を窒素に分解する。 - 特許庁

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「CG2」を含む例文一覧

該当件数 : 18



例文

Various voltages VM are generated at a floating gate FG, corresponding to the combination of the voltages V1 and V2 which are applied to two control gates CG1 and CG2.例文帳に追加

2つのコントロールゲートCG1、CG2に印加される電圧V1、V2の組合せにしたがってフローティングゲートFGに種々の電圧V_Mを生じさせる。 - 特許庁

A coil L3 is provided with a rectification circuit comprising a diode D2 and a capacitor C2, and a charger CG2 is provided to the output of the rectification circuit.例文帳に追加

巻き線L3には、ダイオードD2およびコンデンサC2から構成される整流回路が設けられ、その整流回路の出力に充電器CG2が設けられている。 - 特許庁

The discharge holes of the row CM1 of the middle discharge holes in a set CG1 of the rows of the discharge holes are offset by 1/2 pitch to the discharge holes of the row CM2 of the middle discharge holes in a set CG2 of the rows of the discharge holes.例文帳に追加

吐出口列組CG1における中吐出口列CM1の吐出口は吐出口列組CG2における中吐出口列CM2の吐出口と1/2ピッチオフセットしている。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor memory includes: a semiconductor substrate 1; a first gate electrode WG formed on the semiconductor substrate 1 through a gate insulating film 10; second gate electrodes CG1, CG2 formed in a side direction of the first gate electrode WG and electrically insulated from the first gate electrode WG; and an electric charge trapping film 30 formed at least between the semiconductor substrate 1 and the second gate electrodes CG1, CG2.例文帳に追加

不揮発性半導体メモリは、半導体基板1と、半導体基板1上にゲート絶縁膜10を介して形成された第1ゲート電極WGと、第1ゲート電極WGの側方に形成され第1ゲート電極WGから電気的に絶縁された第2ゲート電極CG1、CG2と、半導体基板1と第2ゲート電極CG1、CG2との間に少なくとも形成された電荷トラップ膜30と、を備える。 - 特許庁

An area immediately below the photo-gate electrode PG includes first areas CG1 located between the semiconductor areas FD1 and FD2 facing in the first direction and second areas CG2 sandwiched between the first areas CG1 in the second direction.例文帳に追加

フォトゲート電極PGの直下の領域は、第1方向で対向する半導体領域FD1,FD2の間に位置する第1領域CG1と、第1領域CG1に第2方向で挟まれる第2領域CG2と、を含む。 - 特許庁

Gate terminals of the n-type MIS transistors M1 and M2 are connected to the output node OUTT and OUTB through coupling capacitors CG1 and CG2, respectively, and a bias voltage VBIAS is applied through resistors RG1 and RG2.例文帳に追加

n型MISトランジスタM1及びM2のゲート端子は、それぞれ結合容量CG1及びCG2を介して出力ノードOUTT及びOUTBと接続され、抵抗CG1及びCG2を介してバイアス電圧VBIASが印加される。 - 特許庁

The first control gate electrode CG1, the first interpoly insulation film IPD1, the floating gate electrodes FG, the second interpoly insulation film IPD2 and the second control gate electrode CG2 are stacked in the direction vertical to the main plane of the semiconductor substrate.例文帳に追加

第1コントロールゲート電極CG1、第1インターポリ絶縁膜IPD1、フローティングゲート電極FG、第2インターポリ絶縁膜IPD2、および第2コントロールゲート電極CG2は、半導体基板の主平面に対して垂直方向に積層されている。 - 特許庁

例文

The transimpedance amplifier is equipped with a MOS transistor Q1 whose gate is grounded via a capacitor CG1 for an alternate current and a MOS transistor Q2 that is subjected to cascode connection with the MOS transistor Q1, whose gate is grounded via a capacitor CG2 for the alternate current, and further whose drain is connected to a load resistor RL.例文帳に追加

この発明は、ゲートをコンデンサCG1で交流的に接地させたMOSトランジスタQ1と、このMOSトランジスタQ1とカスコード接続され、ゲートをコンデンサCG2で交流的に接地させるとともにドレインに負荷抵抗RLを接続させたMOSトランジスタQ2とを備えている。 - 特許庁

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「CG2」の意味に関連した用語

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