ECR ion sourceとは 意味・読み方・使い方

The ion implanting device 10 equipped with an ion source and an ion accelerating device accelerating ion from the ion source up to required energy is so structured to use an ECR ion source 20 as the ion source, and an IH type linear accelerator 30 as the ion accelerating device.例文帳に追加

イオン源と、イオン源からのイオンを所望のエネルギーに加速するイオン加速装置とを備えたイオン注入装置１０において、イオン源として、ＥＣＲイオン源２０を用い、かつ、イオン加速装置として、ＩＨ型線形加速器３０を用いるように構成した。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MIRROR FIELD FOR CONFINING PLASMA USED IN ECR ION SOURCE例文帳に追加

ＥＣＲイオン源に用いられるプラズマ閉じ込め用のミラー磁場発生装置及び方法 - 特許庁

The magnetic field strength is continuously kept at a constant value or higher (nonzero) from a cyclotron 50 to an ECR ion source (ion source) 20.例文帳に追加

サイクロトロン５０からＥＣＲイオン源（イオン源）２０までの磁場の強度が連続的に一定値以上に保たれている（零とならない）点である。 - 特許庁

As a result, the manufacturing costs are reduced to the specification change of the ECR ion source such as size increase of the plasma chamber.例文帳に追加

この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 - 特許庁

Specifically, an ion beam generation method forms a continuously distributed magnetic field along the central axis of a path for an ion beam passing from the ECR ion source 20 to the cyclotron 50.例文帳に追加

すなわち、このイオンビーム生成方法においては、ＥＣＲイオン源２０からサイクロトロン５０に至るまでのイオンビームが通過する経路の中心軸方向において、連続的に分布する磁場を形成する。 - 特許庁

In a mass spectrometer designed to analyze a mass by ionizing a molecule, separating an molecule ion generated by ionization, and detecting the separated molecule ion, an ion source to ionize the molecule is an ECR ion source in which ECR plasma having low energy suitable for the molecule weight of a macromolecule having a molecule weight of not less than 1,000 is generated by an electron cyclotron resonance phenomenon, and the macromolecule is ionized by the ECR plasma.例文帳に追加

分子をイオン化し、イオン化により生成した分子イオンを分離し、分離した分子イオンを検出して質量を分析するようにした質量分析装置において、分子をイオン化するイオン源が、電子サイクロトロン共鳴現象により分子量が１０００以上の高分子の分子量に適した低エネルギー電子を有するＥＣＲプラズマを発生させ、上記ＥＣＲプラズマにより上記高分子をイオン化するＥＣＲイオン源であるようにした。 - 特許庁

The ECR sputtering apparatus 1 comprises: an ECR sputtering source 2 which generates the plasma originating from the sputter target by using an electron cyclotron resonance mechanism and irradiates a substrate 10 with the generated plasma; and an ion beam source 3 which ionizes a supplied gas like the reactive gas and irradiates the substrate 10 with the ionized gas.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ装置１は、電子サイクロトロン共鳴によってスパッタターゲットのプラズマを発生し、発生したプラズマを基板１０に照射するＥＣＲスパッタ源２と、反応性ガス等の供給ガスをイオン化し、イオン化したガスを基板１０に照射するイオンビーム源３を備える。 - 特許庁

Namely, it becomes possible to cope with specification change of the ECR ion source without generating permanent magnets with different size or characteristics according to a new specification.例文帳に追加

つまり、ＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、新たな仕様に応じたサイズや特性の異なる永久磁石を作成することなく、仕様変更に対応可能となる。 - 特許庁