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Fermi surfaceとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 フェルミ面、Fermi面
「Fermi surface」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
Depending on position of the Fermi surface, the sign of the Hall coefficient varies.例文帳に追加
フェルミ面の位置によってホール係数の符合が変わる。 - 特許庁
On the basis of the vacuum level, (I) the Fermi level in the vicinity of the bonded face of the titanium dioxide layer 212 is greater than the Fermi level in the vicinity of the surface of the titanium dioxide layer 212, and (II) the Fermi level of the conductor 211 is greater than the Fermi level in the vicinity of the bonded face of the titanium dioxide layer 212.例文帳に追加
真空準位を基準として、(I)酸化チタン層212の接合面近傍領域のフェルミ準位が、酸化チタン層212の表面近傍領域のフェルミ準位よりも大きく、かつ、(II)導電体211のフェルミ準位が、酸化チタン層212の接合面近傍領域のフェルミ準位よりも大きい。 - 特許庁
One embodiment is a Schottky barrier diode (10) made from GaN based material whose Fermi level (or surface potential) is not pinned.例文帳に追加
本発明の一実施形態は、そのフェルミ準位(または表面ポテンシャル)がピン止めされないGaN系材料から作成されたショットキー障壁ダイオード(10)である。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for measuring surface carrier recombination speed capable of obtaining surface Fermi level even from FK oscillation influenced by probe light having relatively large intensity and at the same time capable of determining surface recombination speed.例文帳に追加
比較的強度の強いプローブ光の影響を受けたFK振動からであっても表面フェルミ準位を求めることができると同時に表面再結合速度を決定できる表面キャリア再結合速度の測定方法及び測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a (group Mn-V) co-added group IV magnetic semiconductor whose spin polarized carrier density near the Fermi surface can be increased, whose Curie temperature is high, and which is preferably applied as a basic material for spin electronics.例文帳に追加
フェルミ面付近のスピン偏極したキャリア密度を増加でき、キュリー温度が高く、スピンエレクトロニクスの基本材料に適用が好ましい(Mn−V族)共添加IV族磁性半導体を提供すること - 特許庁
Layers of a material having higher Fermi energy than that of a metal or magnesium oxide are laminated diagonally in a protection membrane, so that even if a surface of the protection membrane is removed due to long use, the material having higher Fermi energy than that of a metal or magnesium oxide is always exposed to outside to maintain the effect of discharge start voltage drop.例文帳に追加
保護膜中に、金属もしくは酸化マグネシウムのフェルミエネルギーより高いフェルミエネルギーを持つ材料の層を斜めに積層することにより、長時間使用により保護膜表面が削れても、金属もしくは酸化マグネシウムのフェルミエネルギーより高いフェルミエネルギーを持つ材料が常に表出するので、放電開始電圧低下の効果を維持できる。 - 特許庁
The state density has a characteristic as shown in Fig. 2, and it is seen from the 0-point (Fermi surface) of the horizontal axis that the state density is metallic in majority-spin and semiconductor-like and half-metallic in minority-spin.例文帳に追加
状態密度は図2に示すような特性となり、横軸の0点(フェルミ面)を見ると、majority−spinでは金属的、minority−spinでは半導体的でありハーフメタルになっている。 - 特許庁
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Wiktionary英語版での「Fermi surface」の意味 |
Fermi surface
出典:『Wiktionary』 (2017/04/22 14:56 UTC 版)
語源
For Enrico Fermi, Italian physicist.
名詞
Fermi surface (複数形 Fermi surfaces)
- (physics) An abstract boundary, of constant energy, useful for predicting the thermal, electrical, magnetic, and optical properties of metals, semimetals, and doped semiconductors.
「Fermi surface」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
When the average constraint energy is determined to be E_int based on the Fermi level of platinum in the boundary of core particles and the platinum shell layer; that is, platinum 5d orbital electrons on the outermost surface of the platinum shell, core particles contain an element with E_out≥3.0 eV.例文帳に追加
コア粒子と白金シェル層の界面の白金、白金シェルの最外表面の白金5d軌道電子の、フェルミ準位を基準とした平均束縛エネルギーをE_intとする時、コア粒子は、E_out≧3.0eVとなる元素を含有する。 - 特許庁
The adjustment film 250 is formed on an area excluding the area connected to the contact plug 240 on the surface of the graphene film 230, while a Dirac point position is adjusted in the same direction as the area connected to the contact plug 240 with reference to the Fermi level.例文帳に追加
調整膜は、前記グラフェン膜表面のうち、前記コンタクトプラグと接続する領域以外の領域上に形成され、ディラック点位置をフェルミ準位に対してコンタクトプラグと接続する領域と同方向に調整する。 - 特許庁
Prior to the crystallization by laser, at least one kind of impurity is doped into at least the entire surface of a thin film semiconductor layer so that the ratio of Quasi-Fermi levels in the regions for forming each conductive type transistor therein is limited to 0.5-2.例文帳に追加
レーザによる結晶化の前に少なくとも薄膜半導体層全面に少なくとも一種類以上の不純物が導入され両導電型のトランジスタ形成領域の疑フェルミレベルの比を0.5〜2の範囲に収める。 - 特許庁
Only surface modifications of an electrode and an insulating film are selectively changed, without changing TFT materials, by using a mathematical expression values of differences in Fermi energy on a semiconductor-electrode interface and a semiconductor-gate insulator interface to actualize n-type and p-type TFTs.例文帳に追加
半導体−電極界面、および、半導体−ゲート絶縁体界面におけるフェルミエネルギーの差の大きさを与える数式を用いて、TFT材料を変えずに電極および絶縁膜の表面修飾だけを選択的に変化してn型とp型のTFTを実現する。 - 特許庁
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