| 意味 | 例文 (937件) |
G-substrateとは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「G-substrate」の意味 |
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G-substrate
| human | 遺伝子名 | G-substrate |
| 同義語（エイリアス） | chromosome 7 open reading frame 16; C7orf16; GSBS | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:O96001 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:10842 | |
| その他のDBのID | HGNC:16973 |
| mouse | 遺伝子名 | G-substrate |
| 同義語（エイリアス） | Ppp1r2; G substrate; Gsbs | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:19051 | |
| その他のDBのID | MGI:1333876 |
| rat | 遺伝子名 | G substrate |
| 同義語（エイリアス） | Gsbs | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:266705 | |
| その他のDBのID | RGD:628647 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「G-substrate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 937件
The substrate surface is covered with an insulating film (g).例文帳に追加
(g)基板表面を、絶縁膜で覆う。 - 特許庁
The mass W(g) of the scintillator panel satisfies expression (1) W(g)<0.31(g/cm^2)×S(cm^2) with respect to the area S(cm^2) of the radiolucent substrate.例文帳に追加
式（１） Ｗ（ｇ）＜０．３１（ｇ／ｃｍ^２）×Ｓ（ｃｍ^２） - 特許庁
The area S (cm^2) of the radiation transmissive substrate and the mass W (g) of the scintillator panel establish the relation of expression (1): W(g) <0.31 (g/cm^2) × S (cm^2).例文帳に追加
式（１） Ｗ（ｇ）＜０．３１（ｇ／ｃｍ^2）×Ｓ（ｃｍ^2） - 特許庁
The substrate flotation device includes a stage part 2 for discharging air to the substrate G, a detection part 3 for detecting the floating state of the substrate G by contacting with the substrate G.例文帳に追加
基板（Ｇ）に対しエアを吐出するステージ部２と、基板（Ｇ）の浮上状態を、基板（Ｇ）に接触することで検知する検知部（３）と、を備える構成とする。 - 特許庁
By this cooling from the back side of the substrate G, a resist coating film on the substrate G is cooled from the lower surface.例文帳に追加
この基板裏側からの冷却によって、基板Ｇ上のレジスト塗布膜は下面から冷やされる。 - 特許庁
While the substrate G is held by a holding plate 41 and not moved substantially, the coating treatment of the development solution for the substrate G, the cut-off treatment of development solution by slanting the substrate G, the rinse treatment of the rinsing solution for the substrate G, and the drying treatment of the substrate G are carried out.例文帳に追加
基板Ｇに対する現像液の塗布処理、基板Ｇを傾斜させる現像液の液切り処理、基板Ｇのリンス液によるリンス処理、基板Ｇの乾燥処理を、基板Ｇが保持プレート４１に保持された実質的に移動しない状態で行う。 - 特許庁
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「G-substrate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 937件
A reflecting plate 124 is formed on the substrate G to reflect the longitudinal wave reflected on the substrate onto the substrate G once again.例文帳に追加
基板Ｇ上には，基板Ｇ上で反射した前記縦波を再度基板Ｇに向けて反射する反射板１２４が設けられる。 - 特許庁
In this substrate treatment device, a substrate G is cleaned as a pretreatment in a pretreatment chamber CM.例文帳に追加
基板Ｇは、前処理室ＣＭにて前処理としてクリーニングされている。 - 特許庁
The substrate G is received by the stopper member 194 and liquid Q on the substrate G slips gravitationally rearward on the inclining face of the substrate and drops to the outside of the substrate.例文帳に追加
基板Ｇはストッパ部材１９４に受け止められ、基板Ｇ上の液Ｑは重力で基板傾斜面を後方へ滑り落ちて、基板の外へ落下する。 - 特許庁
While a glass substrate G is carried by a carrier belt 2, a grindstone 3 is made to run in parallel with the glass substrate G in the carrying direction, and the glass substrate G is subjected to corner removing.例文帳に追加
搬送ベルト２でガラス基板Ｇを搬送しながら、その搬送方向にガラス基板Ｇとともに砥石３を並走させてガラス基板Ｇに角取り加工を施す。 - 特許庁
A treater is constituted in a structure that an LCD substrate G received from a main arm 10a is held by a spin chuck 21 and after a developing liquid is fed to the surface of the substrate G, the substrate G is rotated, and at the same time a rinsing liquid is fed to the surface of the substrate G to perform a rinsing treatment of the substrate G.例文帳に追加
メインアーム１０ａから受け取ったＬＣＤ基板Ｇをスピンチャック２１により保持し、ＬＣＤ基板Ｇの表面に現像液を供給した後、ＬＣＤ基板Ｇを回転させると共に、ＬＣＤ基板Ｇの表面にリンス液を供給してリンス処理を行う。 - 特許庁
The organic molecule blown from the blowing device 110 is absorbed by a substrate (G) to form a thin film on the substrate (G).例文帳に追加
吹き出された有機分子は、基板Ｇ上に吸着し、これにより基板Ｇ上に薄膜が形成される。 - 特許庁
When holding a glass substrate G, a suction cup 14 is smoothly pressed against the glass substrate G by each conveying arm 12, air between a suction face and the glass substrate G is sucked, and the suction face is sucked to the glass substrate G.例文帳に追加
ガラス基板Ｇを保持する場合、各搬送アーム１２により吸盤１４がガラス基板Ｇに静かに押し付けられ、吸着面とガラス基板Ｇとの間の空気が抜き取られ、吸着面がガラス基板Ｇに吸着する。 - 特許庁
Heat is restrained from being released from the surface of the substrate G by the frame 5 to keep the temperature of the substrate G more uniform through its surface.例文帳に追加
この枠体５により基板側面からの放熱が抑えられ、基板温度の面内均一性が向上する。 - 特許庁
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