L/S ratioとは 意味・読み方・使い方

The ratio L/S of width L of the projection-shaped magnetic layer pattern in the circumferential direction thereof to an interval S between the projection-shaped magnetic layer patterns in the circumferential direction thereof is defined as L/S <1.例文帳に追加

突起状磁性層パターンの円周方向の幅Ｌと、突起状磁性層パターン同士の円周方向の間隔Ｓとの比Ｌ／ＳをＬ／Ｓ＜１とする。 - 特許庁

A ratio of a minimum sectional area of the space part 20 and a maximum sectional area S of the screw 13 is made 0.04≤L/S≤0.20.例文帳に追加

空間部２０の最小断面積Ｌとスクリュー１３の最大断面積Ｓとの比率を０．０４≦Ｌ／Ｓ≦０．２０とする。 - 特許庁

This nonaqueous lithium type electricity storage element is structured such that an edge rate (L/S) being a ratio of the total length L (cm) of an visible outline in a plan view to a plane area S (cm^2) of the negative electrode active material layer satisfies 0.10<L/S<1.00.例文帳に追加

負極活物質層の平面積Ｓ（ｃｍ^2）に対する平面視における外形線の全長Ｌ（ｃｍ）の比率であるエッジ率（Ｌ／Ｓ）が、０．１０＜Ｌ／Ｓ＜１．００を満たすように構成する。 - 特許庁

The etching shifting amount E in an L&S pattern and the density difference Δ between etching shifts ((the etching shift in an isolated pattern)-(the etching shift in the L&S pattern)) can be expressed by the function of OE and SO_2 (wherein, OE and SO_2 respectively denote an over etching amount and an SO_2/O_2 flow ratio).例文帳に追加

評価値として、Ｌ＆Ｓパターンにおけるエッチングシフト量をＥ、エッチシフトの疎密差（（孤立パターンにおけるエッチングシフト）−（Ｌ＆Ｓパターンにおけるエッチングシフト））をΔ、オーバーエッチング量をＯＥ、ＳＯ_２／Ｏ_２流量比をＳＯ_２とすると、Ｅ及びΔはＯＥ及びＳＯ_２の関数で表すことができる。 - 特許庁

A length L of a liquid column formed by a gap between an ink supply needle 7 and a porous material 12 is set so that a ratio L/S with respect to a cross section S of the liquid column is not larger than 1/2, thereby making an inertance of the liquid column as small as possible.例文帳に追加

インク供給針７と多孔質材１２との間隙により形成される液柱の長さＬを、液柱の断面積Ｓとの比Ｌ／Ｓが１／２以下とし、液柱のイナータンスを可及的に小さくする。 - 特許庁

At least one of specified diffraction grating line which is formed by arranging prescribed information as the hidden information into a column of rugged shape is set to have the same L/S ratio as that of the other diffraction grating group and, thereby, a diffractive image without fluctuation or irregularity is obtained.例文帳に追加

隠し情報である所定の情報を一列の凹凸形状としてなる少なくとも一本の特定回折格子線を、他の回折格子線群と同一のＬ／Ｓとすることで、そのバラツキやムラのない回折画像を得る。 - 特許庁

To provide a magnetic transfer master body which maintains vertical symmetry of magnetic transfer waveform without changing L/S ratio of a magnetic pattern when microfabricating the magnetic transfer body, to provide a magnetic transfer unit thereof, magnetic recording medium manufactured by using the magnetic transfer unit, and magnetic recording system using the magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに磁気転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写装置、この磁気転写装置を用いてつくられる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁