MOS processとは 意味・読み方・使い方

PROCESS OF FORMING MOS GATE DEVICE HAVING SELF-ALIGNED TRENCH例文帳に追加

自己整列トレンチを有するＭＯＳゲートデバイスを形成するプロセス - 特許庁

GRADE-TYPE/STEP-TYPE SILICIDE PROCESS FOR IMPROVING MOS TRANSISTOR例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタを改善するための勾配型／階段型シリサイドプロセス - 特許庁

The gate oxide film of the MOS transistor 12 is formed by using a process other than a process of forming the gate oxide film of the MOS transistor 11, and the thickness of the gate oxide film of the MOS transistor 12 is formed thinner than the thickness of the gate oxide film of the MOS transistor 11.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタ１２のゲート酸化膜を、ＭＯＳトランジスタ１１のゲート酸化膜を形成するプロセスとは別のプロセスで形成し、ＭＯＳトランジスタ１２のゲート酸化膜をＭＯＳトランジスタ１１のゲート酸化膜より薄くする。 - 特許庁

By using actually measured data for which thresholds to a plurality of the MOS FETs of different gate lengths manufactured under the same process condition are actually measured and the analysis model of the threshold of the MOS FET, the impurity density distribution within the substrate of the channel surface of the MOS FET is calculated.例文帳に追加

同一プロセス条件で製造されたゲート長の異なる複数のMOS FET に対する閾値を実測した実測データとMOS FET の閾値の解析モデルを用いて、MOSFET のチヤネル表面の基板内不純物濃度分布を算出する。 - 特許庁

To provide a recess gate type MOS transistor structure suitable for a high integration semiconductor memory, and to provide its forming process.例文帳に追加

高集積半導体メモリに適合したリセスゲートタイプのMOSトランジスタ構造及びその形成方法を提供するにある。 - 特許庁

The subsequent gate-forming process is implemented by the same process as a MOS transistor forming process other than DMOS.例文帳に追加

これにより、その後のゲート形成工程は、ＤＭＯＳ以外の他のＭＯＳトランジスタ形成工程と同一工程で達成する。 - 特許庁

To obtain a high performance MOS transistor formed by a simple manufacturing process.例文帳に追加

簡便な製造プロセスで形成される高性能なＭＯＳトランジスタを実現する。 - 特許庁

PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTRODE FILM, MOS TRANSISTOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の製造方法、電極膜、ＭＯＳトランジスタ、及び半導体装置 - 特許庁