n clとは 意味・読み方・使い方

The formula (1) is SiH_nX_4-n [in the formula, (n) is an integer of 0-3, each of Xs expresses an atom selected from a group comprising F, Cl, Br and I.例文帳に追加

ＳｉＨ_ｎＸ_４−ｎ（１）［式中、ｎは０〜３の整数；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。 - 特許庁

A standard cell CL is provided in an n-type well 2n, and has a p^+-type diffusion layer 3p and an n^+-type diffusion layer 4n covered with a metal silicide film.例文帳に追加

スタンダードセルＣＬは、ｎ型ウエル２ｎに設けられ、金属シリサイド膜で覆われたｐ^＋型拡散層３ｐおよびｎ^＋型拡散層４ｎを有している。 - 特許庁

A monomer which emits light in a visible region upon excitation is represented by formula: M^n+(L)^n-(CL)_x, wherein n+ represents a valency of M, and (L) represents anion ligands having a total n- valent of 1 or 2 or more and at least one of the ligands has formula: Ch-X-Y.例文帳に追加

励起によって可視領域で発光する、次の一般式で表されるモノマーであって、(化１)Ｍ^n+（Ｌ）^n-（ＣＬ）_x、ｎ+は、Ｍの価数を表し、（Ｌ）は、１又は２以上の総計ｎ−価を有するアニオンリガンドを表し、前記リガンドの少なくとも１つは次の式を有する。 - 特許庁

Alternatively, the BeMgZnSe clad layer or the ZnMgSSe clad layer is doped with Cl, Br, or I as an n-type dopant together with Li as a p-type dopant, wherein the ratio of Cl, Br, or I to Li is set at 0.1 to 0.7:1.例文帳に追加

またはｐ型ドーパントであるＬｉに、ｎ型ドーパントのＣｌ、Ｂｒ、Ｉを０．１〜０．７の割合でＢｅＭｇＺｎＳｅクラッド層あるいはＺｎＭｇＳＳｅクラッド層に共ドープする。 - 特許庁

The silica has ≤10 nm modal diameter (D_max) of pores and ≤10 ppm total concentration of S, Cl and N.例文帳に追加

細孔の最頻直径（Ｄ_max）が１０ｎｍ以下であり、ＳとＣｌとＮの合計濃度が１０ｐｐｍ以下であるシリカ。 - 特許庁

Memory cells M of (m×n) pieces are allocated to corresponding control lines CL and corresponding bit lines BL respectively.例文帳に追加

（ｍ×ｎ）個のメモリセルＭはそれぞれが対応する制御ラインＣＬおよび対応するビットラインＢＬに割り当てられている。 - 特許庁

Preferably, prior to the hot-dip galvanization process, a compound containing an element X which is at least one of S, Cl, Na, K, Ni, C, N, B, Se and Br is deposited on the sheet surface satisfying [X]≥(1/600)×[M], and the sheet is subjected to recrystallization annealing.例文帳に追加

好ましくは、溶融亜鉛めっき処理を施すに先立ち、まず、元素XとしてS、Cl、Na、K、Ni、C、N、B、Se、Brの少なくとも１種以上を含有する化合物を、下記（１）式を満足するように鋼板表面に付着させ、次いで、再結晶焼鈍する。 - 特許庁

This method for removing the carbon tetrachloride in the fluorocarbon represented by the formula: X(CF2)nCl [X is F, Cl or H; (n) is 1 to 20] is characterized by decomposing the carbon tetrachloride in the fluorocarbon with an antimony(V) compound, water, fuming sulfuric acid, a hydrazine compound or triphenylphosphine.例文帳に追加

式：X(CF_2)_nCl（式中、XはF、ClまたはHを示し、nは1〜20を示す。）で表されるフルオロカーボンに含まれる四塩化炭素を、アンチモン(V)化合物と水、発煙硫酸、ヒドラジン化合物またはトリフェニルホスフィンを用いて分解することを特徴とするフルオロカーボン中の四塩化炭素の除去方法。 - 特許庁