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「n cl」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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n clの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 40



例文

Especially, the comb-like electrode CL(1) is made the longest of all other electrodes CL(1) to CL(n).例文帳に追加

特に、櫛歯状電極CL(1)を櫛歯状電極CL(1)〜CL(n)の中で最も長くする。 - 特許庁

Gates of the N transistor N 17 and N transistor N 18 are commonly connected to a column line CL.例文帳に追加

NトランジスタN17のゲートおよびNトランジスタN18のゲートは,カラム線CLに共通接続されている。 - 特許庁

Detection units 20(1)-20(n) compare a reference voltage with cell voltages Vc(1)-Vc(n) of n battery cells CL(1)-CL(n) in series connection.例文帳に追加

検知ユニット20(1)〜20(n)は、直列接続されたn個の電池セルCL(1)〜CL(n)のセル電圧Vc(1)〜Vc(n)を判定電圧と比較する。 - 特許庁

More specifically, as shown in Fig.5, a comb-shaped electrode CL(1) is made longer than other comb-shaped electrodes CL(2) to CL(n).例文帳に追加

具体的には、図5に示すように、櫛歯状電極CL(1)をその他の櫛歯状電極CL(2)〜CL(n)よりも長くするように構成している。 - 特許庁

例文

The server SV transmits the N pieces of the intermediate keys to N units of client terminals CL without updating the N pieces of the intermediate keys, when the number of replacement of the secret keys S is N-1.例文帳に追加

サーバSVは、秘密鍵Sの置換回数がN−1回であるとき、N個の中間鍵を更新せずにN台のクライアント端末CLに送信する。 - 特許庁


例文

Therein, [M]^n+ is an n-valent cation; (n) is an integer of 1 to 4; R^F is a 1-6C perfluoroalkyl group or -Q^F-Cl; and Q^F is a 1-6C perfluoroalkylene group.例文帳に追加

ただし、[M]^n+はn価の陽イオンを、nは1〜4の整数を、R^Fは炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基または−Q^F−Clを、Q^Fは炭素数1〜6のペルフルオロアルキレン基を、示す。 - 特許庁

Zn, Se or O is used for a target metallic element and N, Cl or the like is used for the dopant.例文帳に追加

対象金属元素として、Zn、及びSe又はOを対象とし、ドーパントとしてN、Clなどを用いる。 - 特許庁

The formula (1) is SiH_nX_4-n [in the formula, (n) is an integer of 0-3, each of Xs expresses an atom selected from a group comprising F, Cl, Br and I.例文帳に追加

SiH_nX_4−n(1)[式中、nは0〜3の整数;Xは、F、Cl、Br及びIからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。 - 特許庁

A standard cell CL is provided in an n-type well 2n, and has a p^+-type diffusion layer 3p and an n^+-type diffusion layer 4n covered with a metal silicide film.例文帳に追加

スタンダードセルCLは、n型ウエル2nに設けられ、金属シリサイド膜で覆われたp^+型拡散層3pおよびn^+型拡散層4nを有している。 - 特許庁

例文

A monomer which emits light in a visible region upon excitation is represented by formula: M^n+(L)^n-(CL)_x, wherein n+ represents a valency of M, and (L) represents anion ligands having a total n- valent of 1 or 2 or more and at least one of the ligands has formula: Ch-X-Y.例文帳に追加

励起によって可視領域で発光する、次の一般式で表されるモノマーであって、(化1)M^n+(L)^n-(CL)_x、n+は、Mの価数を表し、(L)は、1又は2以上の総計n−価を有するアニオンリガンドを表し、前記リガンドの少なくとも1つは次の式を有する。 - 特許庁

例文

Alternatively, the BeMgZnSe clad layer or the ZnMgSSe clad layer is doped with Cl, Br, or I as an n-type dopant together with Li as a p-type dopant, wherein the ratio of Cl, Br, or I to Li is set at 0.1 to 0.7:1.例文帳に追加

またはp型ドーパントであるLiに、n型ドーパントのCl、Br、Iを0.1〜0.7の割合でBeMgZnSeクラッド層あるいはZnMgSSeクラッド層に共ドープする。 - 特許庁

The silica has ≤10 nm modal diameter (D_max) of pores and ≤10 ppm total concentration of S, Cl and N.例文帳に追加

細孔の最頻直径(D_max)が10nm以下であり、SとClとNの合計濃度が10ppm以下であるシリカ。 - 特許庁

Memory cells M of (m×n) pieces are allocated to corresponding control lines CL and corresponding bit lines BL respectively.例文帳に追加

(m×n)個のメモリセルMはそれぞれが対応する制御ラインCLおよび対応するビットラインBLに割り当てられている。 - 特許庁

Preferably, prior to the hot-dip galvanization process, a compound containing an element X which is at least one of S, Cl, Na, K, Ni, C, N, B, Se and Br is deposited on the sheet surface satisfying [X]≥(1/600)×[M], and the sheet is subjected to recrystallization annealing.例文帳に追加

好ましくは、溶融亜鉛めっき処理を施すに先立ち、まず、元素XとしてS、Cl、Na、K、Ni、C、N、B、Se、Brの少なくとも1種以上を含有する化合物を、下記(1)式を満足するように鋼板表面に付着させ、次いで、再結晶焼鈍する。 - 特許庁

This method for removing the carbon tetrachloride in the fluorocarbon represented by the formula: X(CF2)nCl [X is F, Cl or H; (n) is 1 to 20] is characterized by decomposing the carbon tetrachloride in the fluorocarbon with an antimony(V) compound, water, fuming sulfuric acid, a hydrazine compound or triphenylphosphine.例文帳に追加

式:X(CF_2)_nCl(式中、XはF、ClまたはHを示し、nは1〜20を示す。)で表されるフルオロカーボンに含まれる四塩化炭素を、アンチモン(V)化合物と水、発煙硫酸、ヒドラジン化合物またはトリフェニルホスフィンを用いて分解することを特徴とするフルオロカーボン中の四塩化炭素の除去方法。 - 特許庁

An ophthalmic device has a polymer, at least one heterocyclic compound having at least one N-Cl and/or N-Br bond, and the production method therefor.例文帳に追加

この発明は、ポリマーと、少なくとも1つのN−Cl結合および/またはN−Br結合を有する少なくとも1つの複素環式化合物とを備えた眼用器具およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an aqueous solution of an unsaturated quaternary ammonium salt of formula I by reacting N,N- dimethylaminoethyl acrylate(DAMEA) with an quaternizing agent of R-Cl (R is methyl or benzyl) in the presence of water.例文帳に追加

水の存在下でN,N−ジメチルアミノエチルアクリレートと、R−Cl(R=メチルまたはベンジル)の四級化剤とを反応させて式Iの不飽和第四級アンモニウム塩の水溶液を製造する方法。 - 特許庁

White line information WLD including the number of white lines continuing immediately before non-white line data CL are added to the predetermined number of N-storage region of a header side of the non-white line data CL in NRGB data before print data conversion.例文帳に追加

印刷データ変換前のNRGBデータにおいて非白ラインデータCLの先頭側所定個数のN格納領域に、その非白ラインデータCLの直前で連続する白ライン数を含む白ライン情報WLDを付加する。 - 特許庁

When an n^+-GaN layer 6 is selectively etched with respect to an n^+-AlGaN layer 5 in the manufacturing process of the GaN semiconductor device, dry etching is performed with gas plasma whose concentration of gas including Cl atom is set to be 60 to 90% by using gas including the Cl atom and gas including a F atom.例文帳に追加

GaN系半導体デバイスの製造工程において、n^+ −GaN層6をn^+ −AlGaN層5に対して選択的にエッチングを行う際に、Cl原子を含むガスとF原子を含むガスを用い、そのCl原子を含むガスの濃度を60〜90%としたガスプラズマにてドライエッチングを行う。 - 特許庁

An n-region CLL of a collector region CL of the bipolar transistor BT has an impurity density distribution identical to that of an n-channel forming region NC of a p-MOS transistor PT in the direction of thickness of the SOI layer SL.例文帳に追加

バイポーラトランジスタBTのコレクタ領域CLのn^-領域CLLは、SOI層SLの厚み方向に対してpMOSトランジスタPTのn^-チャネル形成領域NCと同じ不純物濃度分布を有している。 - 特許庁

Eu and D each range from 0.001 to about 0.5; D is an anion selected from F, Cl, Br, S and N; at least some of D anions replace oxygen in the host silicate lattice of the phosphor).例文帳に追加

Dは、F、Cl、Br、S及びNから選択されるアニオンであり、Dアニオンの少なくともいくつかが蛍光体のホストシリケート格子中の酸素に取って代わる。 - 特許庁

This 1-(tert-butoxyphenyl)-ω-haloalkane is represented by formula (1) (wherein X is Cl or Br; and (n) is an integer of 3 or 5-10).例文帳に追加

一般式(1) (式中、Xは、塩素原子または臭素原子であり、nは、3、5〜10の整数を示す。)で表される、1−(tert−ブトキシフェニル)−ω−ハロアルカン。 - 特許庁

(Wherein, R is a ≥4C alkyl; X and X' are each independently H, Cl or Br; and n is an integer of110 but ≤200).例文帳に追加

(式(1)中、Rは、炭素数4以上のアルキル基を表わし、X及びX’はそれぞれ独立に、水素原子、塩素原子又は臭素原子を表わし、nは、110以上、220以下の整数を表わす。) - 特許庁

In formula of chemical symbols, X represents Cl, I or Br, and n represents an integer of 1≤n≤5.例文帳に追加

)、CH_4、CH_3F、CH_2F_2、CHF_3、N_2、He、Ar、Ne、Krなど、または、CH_4、C_2H_2,C_2H_4,C_2H_6、C_3H_4、C_3H_6、C_3H_8、HI、HBr、HCl、CO、NO、NH_3、H_2など、または、CH_4、CH_3F、CH_2F_2、CHF_3の中から選ばれた少なくとも1種のガスを添加物として含むエッチングガス。 - 特許庁

This halogen-containing aromatic compound is characterized by having at least 2 (CH2)n(CX2)t-Bu groups [X is F or Cl, and in this case, Xs may be the same or different; t-Bu is tertiary butyl group; and (n) is 0-4].例文帳に追加

(CH_2)_n(CX_2)t−Bu基(XはFまたはClを表し、この際、Xは同一または異なるものであってもよく、 t−Buはターシャリーブチル基を表し、nは0〜4を表す)を少なくとも2個有することを特徴とする含ハロゲン芳香族化合物。 - 特許庁

The cationic surfactant containing two chains and two hydrophilic groups is expressed by general formula (m is an integer of 2-12; n is an integer of 10-20; R_1 and R_2 are each a lower alkyl or the like; and X is Cl or Br).例文帳に追加

下記一般式(mは2〜12の整数、nは10〜20の整数、R_1およびR_2は低級アルキル基等、XはClまたはBr)で表わされることを2鎖2親水基含有陽イオン界面活性剤。 - 特許庁

The bischloroformate is represented by formula 1: ClCO-(-O-Ar-O-CO-)_n-Cl and has an average number of monomers (n) of ≤1.99.例文帳に追加

疎水性有機溶媒を用い、下記式(化2)で表される2価フェノール性化合物と、ホスゲン系化合物と、脂肪族系第3級アミンとを混合して、下記式(化1)で表され、平均量体数(n)が1.99以下のビスクロロホーメートを製造する。 - 特許庁

The catalyst is characterized by using a cluster halide having the composition of (M_aZr_6Cl_xC)_n, wherein M is an alkali metal atom; Zr is a zirconium atom; Cl is a halogen atom; a is 0 or 1, x is 14-16; n is 4-10^6.例文帳に追加

(M_aZr_6Cl_xC)_nなる組成を有するクラスターハライド(但し、Mはアルカリ金属原子、Zrはジルコニウム原子、Clはハロゲン原子、aは0又は1、xは14〜16、またはnは4〜10^6 を示す。)を用いることを特徴とする重合触媒。 - 特許庁

The magnet 14 is shaped so as to have a predetermined thickness in a vertical direction at respective points on a reference curved surface CL forming a first surface serving as an N pole and a second surface serving as an S pole.例文帳に追加

磁石14は、N極となる第1の面と、S極となる第2の面とを形成する基準曲面CLに対して、その基準曲面のそれぞれの点において垂直方向に所定の厚みを有して形状が形成されている。 - 特許庁

In the cross section in the tread width direction section area, a fold back height XN parallel with a tire equator line CL from an inside end part X of a bead core 12 to a fold back end N of a carcass layer 20 where the bead core 12 is folded back is 35-65% for a tire height SH.例文帳に追加

また、トレッド幅方向断面において、ビードコア12の内側端部Xから、ビードコア12を折り返したカーカス層20の折返端Nまでタイヤ赤道線CLと平行な折り返し高さXNは、タイヤ高さSHに対して35〜65%である。 - 特許庁

When an automatic transmission AT is in the N range, an oil pump driving device drives a motor driven oil pump OP2 when the number of rotation of an input shaft of the automatic transmission AT is less than a predetermined threshold, or a first clutch CL is released (step S5, step S6).例文帳に追加

オイルポンプ駆動装置は、自動変速機ATのシフトレンジがNレンジである場合に、自動変速機ATの入力軸の回転数が所定のしきい値未満であるとき、又は第1クラッチCL1が開放しているときには、電動式オイルポンプOP2を駆動させる(ステップS5、ステップS6)。 - 特許庁

G is a scaffold-structure, X is a coupling group for a probe F or functional unit F, CL is a chelator-group with at least a metal-coordinative center, m is an integer and at least 1, and n is an integer and at least 2.例文帳に追加

Gは、足場構造であり、Xは、プローブFまたは官能性のユニットFに対するカップリング基であり、CLは、少なくとも1つの金属配位中心を有するキレーター基であり、mは、整数でありかつ少なくとも1であり、そしてnは、整数でありかつ少なくとも2である。 - 特許庁

A switch control section 3 controls section of output side accommodation section 2-1-2-n being a transfer destination for any transfer request for each same transfer request and outputs a switch control signal CL and outputs a transfer permission signal L1 to the input side accommodation section of a transfer source.例文帳に追加

スイッチ制御部3は、転送先となる出力側収容部2−1〜2−nが同一の転送要求毎にいずれかの転送要求を選択して、スイッチ制御信号CLを出力し、転送元の入力側収容部に対して転送許可信号LIを出力する。 - 特許庁

A new phosphor system is expressed by formula A_2SiO_4:Eu^2+D, where A is at least one divalent metal selected from a group consisting of Sr, Ca, Ba, Mg, Zn, and Cd; and D is a dopant selected from a group consisting of F, Cl, Br, I, S and N.例文帳に追加

式A_2SiO_4:Eu^2+Dで示され、式中、Aは、Sr、Ca、Ba、Mg、Zn及びCdからなる群より選択される二価金属の少なくとも一つであり、Dは、F、Cl、Br、I、S及びNからなる群より選択されるドーパントである、新規な蛍光体システム。 - 特許庁

Furthermore, collation is repeated by number (n) of prescribed times while changing the threshold Vr and Vc, the reliability C of each collation in the process of those collation is calculated, the maximum value is selected from among the reliabilities of the respective collation, and when the selected reliability is higher than the value CL, patterns may be decided as being 'matching'.例文帳に追加

なお、輝度閾値VrおよびVcを変更しながら所定回数n照合を繰り返し、その照合過程での各照合の信頼度Cを求め、この各照合の信頼度Cの中から最大値を選び出し、この選び出した信頼度が所定値CLよりも高い場合に「一致」と判定するようにしてもよい。 - 特許庁

On the other hand, when the automatic transmission AT is in the N range, the oil pump driving device does not drive the motor driven oil pump OP2 when the number of rotation of the input shaft of the automatic transmission T is equal to or more than the predetermined threshold, and the first clutch CL is engaged (step S1 to step S4).例文帳に追加

その一方で、オイルポンプ駆動装置は、自動変速機ATのシフトレンジがNレンジである場合に、自動変速機ATの入力軸の回転数が所定のしきい値以上であり、かつ第1クラッチCL1が締結しているときには、電動式オイルポンプOP2を駆動させない(ステップS1〜ステップS4)。 - 特許庁

In this scan test circuit device, an initialization reset means performs in a scan mode, initialization reset in the integrated circuit constituted of a combination circuit 11 and scan test circuits S1 to Sn+m, and D-FF-1 to D-FF-n+m, based on an initialization reset signal CL synchronized with a scan clock pulse CK for performing operation of a scan test.例文帳に追加

本発明のスキャンテスト回路装置では、初期化リセット手段は、スキャンテストの動作を行うスキャンクロックパルスCKと同期する初期化リセット信号CLに基づいて、組み合わせ回路11と、スキャンテスト回路S1〜Sn+mおよびD−FF−1〜D−FF−n+mにより構成される集積回路内の初期化リセットをスキャンモードにより行う。 - 特許庁

The amorphous carbon coated cutting tool and manufacturing method thereof are characterized in that in this amorphous carbon coated cutting tool coated with the amorphous carbon film, the amorphous carbon film contains at least one or more kinds of elements among B, Cl, S, P, F, O and N, and the content of the element ranges from 0.01 to 25%, both inclusive, by atomic%.例文帳に追加

非晶質カーボン皮膜を被覆した非晶質カーボン被覆切削工具において、該非晶質カーボン皮膜は、B、Cl、S、P、F、O、Nの少なくとも1種以上の元素を含有し、該元素の含有量は、原子%で、0.01%以上、25%以下であることを特徴とする非晶質カーボン被覆切削工具及びその製造方法である。 - 特許庁

This sputtering target, having10^-4 to 1.5×10^4 Ω.cm for electrical resistivity at 25°C, is obtained by sintering a raw material mixture, containing substantially ZnS and at least one dopant element selected from the group consisting of Al, In, Ag, Cu, N, Li, Na and Cl.例文帳に追加

実質的にZnSと、Al、In、Ag、Cu、N、Li、Na及びClからなる群から選択される少なくとも1種のドーパント元素とを含有する原料混合物を焼結して得られるターゲットであって、該ターゲットの25℃における電気抵抗率が1×10^−4〜1.5×10^4Ω・cmであることを特徴とする、DCスパッタリングの可能な光ディスク保護膜用スパッタリング・ターゲット、さらには、これらを用いて作成した光ディスク保護膜により提供。 - 特許庁

例文

The electroconductive polymer has a structure of formula (1) (wherein R is an alkyl group having ≥4 carbon atoms which is bound to the β-carbon in a thiophene ring; X and X' are each independently an element chosen from the group consisting of H, Cl and Br; and n is the repeating number of thiophene rings).例文帳に追加

下記一般式(1)で表される構造を有する導電性高分子であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.4以下であり、重量平均分子量(Mw)から求められるチオフェン環の平均繰り返し数(n)が30以上86以下であり、且つ、隣り合うアルキルチオフェン環同士の結合様式の92%以上が立体規則性を示すようにする。 - 特許庁




  
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