no Tiとは 意味・読み方・使い方

[1] There's no particular limitations as metal ions, and ions such as Mg, Al, Ca, Ti, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn and the like can be named.例文帳に追加

［１］金属イオンとしては、特に制限はないが、Ｍｇ，Ａｌ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ等のイオンが挙げられる。 - 特許庁

The chemical conversion film contains no organic component and the silica component selected from silica sol and fumed silica, in addition to the oxide and hydroxide of the valve metal such as Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo or W.例文帳に追加

化成皮膜は、有機成分を全く含まず、Ti，Zr，Hf，V，Nb，Ta，Mo，W等のバルブメタルの水酸化物，酸化物に加えてシリカゾル，フュームドシリカから選ばれたシリカ成分を含んでいる。 - 特許庁

The cold rolled steel sheet which requires no annealing before the cold rolling by the effect of the control of the C content and the composite addition of Ti and B, and is provided with required quality by the process of hot rolling-pickling-cold rolling (at a draft of ≥50%) can be obtained.例文帳に追加

C量規制とTi，B複合添加の効果として、冷延前の焼鈍を必要とせず、熱延−酸洗−冷延（圧下率≧50%）の工程により所要品質を備えた冷延鋼板を得る。 - 特許庁

Visual-point converted images TI not affected by the attachment error of the camera 30 can be generated, and even if an entire oven wall image WI is synthesized, joints of the visual-point converted images TI generate no discrepancy.例文帳に追加

カメラ３０の取り付け誤差の影響のない視点変換画像ＴＩを生成することができ、炉壁全体画像ＷＩの合成を行っても視点変換画像ＴＩの繋ぎ目で不一致が生じることがない。 - 特許庁

As a result, on the SiO_2 substrate 100, a carbon nanowall does not grow up in a region in which SiO_2 is exposed with no Ti film 101 formed, and a carbon nanowall 102 is formed only on the Ti film 101.例文帳に追加

その結果、ＳｉＯ_2 基板１００上のうち、Ｔｉ膜１０１が形成されずにＳｉＯ_2 が露出している領域にはカーボンナノウォールが成長せず、Ｔｉ膜１０１上にのみ、カーボンナノウォール１０２が形成された。 - 特許庁

To provide a timepiece exterior component having high hardness not generating a flaw caused by impact and generating no corrosion, and its manufacturing method, concerning the timepiece exterior component comprising a material such as stainless steel, Ti or a Ti alloy, or brass.例文帳に追加

ステンレス、ＴｉまたはＴｉ合金、黄銅などの材料からなる時計外装部品に対し、衝撃によるキズを発生せず高硬度で、腐蝕が発生しない時計外装部品とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The high frequency wave porcelain contains Al, Ti and Mn as metal elements, found no Al2TiO5 phase by X-ray diffraction analysis and baked at 1310°C or less.例文帳に追加

金属元素としてＡｌ、ＴｉおよびＭｎを含み、Ｘ線回折分析によりＡｌ_2ＴｉＯ_5相が認められず、１３１０℃以下で焼成される。 - 特許庁

The electrode metal layer consists of a metal element, Cr, Ti, Mo, W, Ta, etc., which has good adhesion to the glass and forms no compound with the solder within an in-use temperature range.例文帳に追加

電極金属層は、ガラスと密着がよく、使用される温度範囲で、ハンダとの化合物を形成しない金属元素、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａなどで構成される。 - 特許庁