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The coating fluid for the positive resist restrained from occurrence of defects is prepared by dissolving a polymer having hydroxystyrene units having the hydroxyl groups protected with acid-dissociable groups and having the nonprotected hydroxy groups and an acid generator into a solvent mixture comprising propyleneglycol monoalkyl ether acetate and an excess amount of hydroxyl organic solvent having a boiling point of 80-200°C.例文帳に追加
（Ａ）水酸基が酸解離性基で保護されたヒドロキシスチレン単位と水酸基が保護されていないヒドロキシスチレン単位とを有する重合体及び（Ｂ）酸発生剤を、（Ｃ）プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートと過剰量の沸点８０〜２００℃のヒドロキシル系有機溶剤とからなる混合溶剤に溶解させて、ディフェクト抑制ポジ型レジスト塗布液とする。 - 特許庁
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