or p-i-nとは 意味・読み方・使い方

To crystal-grow an n- or i-type group III nitride semiconductor on the surface of a p-type group III nitride semiconductor, and to expose the surface of the p-type group III nitride semiconductor without etching a part of the n- or i-type group III nitride semiconductor.例文帳に追加

ｐ型のIII族窒化物半導体の表面に、ｎ型またはｉ型のIII族窒化物半導体を結晶成長するとともに、ｎ型またはｉ型のIII族窒化物半導体の一部をエッチングしないでｐ型のIII族窒化物半導体の表面を露出させる - 特許庁

To provide an organic-inorganic hybrid junction type photoelectric transducer of high sensitivity, which has signal gain G and has a visible-ultraviolet optical wave band having superior response and low dark current property such as a p-i-n or Schottky type.例文帳に追加

信号利得Ｇを有しかつ、p-ｉ-nやショットキー型のような優れた応答性と低い暗電流性を備えた可視−紫外光波帯の高感度の有機−無機ハイブリッド接合型光電変換素子を提供する。 - 特許庁

The two or more wiring patterns Ni are disposed at increasingly distant positions from the wiring pattern N1 as the value i increases, and they include at least one or more wiring patterns Np (2≤p<N) and at least one or more wiring patterns Nq (p<q≤N).例文帳に追加

二つ以上の配線パターンＮｉはｉの値が大きいほど配線パターンＮ１から離れた位置に配置され、二つ以上の配線パターンＮｉは少なくとも一つ以上のパターンＮｐ（２≦ｐ＜Ｎ）と少なくとも一つ以上の配線パターンＮｑ（ｐ＜ｑ≦Ｎ）を含む。 - 特許庁

Since no grain boundary exists in these p-n junction and p-i-n junction or in the channel region, the concentration of the catalytic substance is lowered and a diode or a transistor having characteristics close to those attained by using a single crystal can be manufactured.例文帳に追加

この場合、これらのｐ−ｎ接合やｐ−ｉ−ｎ接合領域またはチャネル領域内に結晶粒界がなく、触媒物質濃度が低くなり、単結晶を用いた場合に近い特性のダイオードやトランジスタを作製することができる。 - 特許庁

To provide an oxide semiconductor device for ensuring stability in device characteristics by suppressing device characteristic deterioration, with the passage of time, caused by diffusion of 1A base elements on a p/n bonding interface or p/i/n bonding interface.例文帳に追加

ｐ／ｎ接合界面又はｐ／ｉ／ｎ接合界面における１Ａ族元素の拡散による素子特性の経時的劣化を抑制し、素子特性の安定性を確保することを目的とした酸化物半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a photovoltaic device, which is a lamination of a plurality of unit elements having p-n or p-i-n structures made of a silicon-based non-single crystal semiconductor material, with its photovoltaic efficiency enhanced by stabilizing the p/n interface structures for improvement on interfacial characteristics and in film adhesion.例文帳に追加

シリコン系非単結晶半導体材料からなるｐｎ又はｐｉｎ構造を有する複数の単位素子を積層した光起電力素子において、ｐ／ｎ界面の構造を安定させ、界面特性および膜密着性を向上させることにより、光電変換効率の高い光起電力素子を提供する。 - 特許庁

The fourth region has one of either (i) a p-type semiconductor which is formed between the first region and the third region which is highly doped, or (ii) an n-type semiconductor which is formed between the first region and second region which is highly doped.例文帳に追加

前記第4領域は、(i)前記第1領域と前記第3領域との間に形成される高濃度ドーピングされたp型半導体、又は(ii)前記第1領域と前記第2領域との間に形成される高濃度ドーピングされたn型半導体のうちの1つを有する。 - 特許庁

The channel region is n-type or i-type, is in contact with a surface of the p-type region, and provided with a first channel region and a second channel region.例文帳に追加

チャネル領域は、ｎ型またはｉ型であり、ｐ型領域の表面に接しており、第１チャネル領域と第２チャネル領域を有している。 - 特許庁