oxidatedとは 意味・読み方・使い方

A gate layer and a thermally oxidated film which is the gate layer are etched in order to expose a protruding portion of the diamond layer 103 being the emitter layer, and thereby a diamond emitter is formed.例文帳に追加

次にエミッタ層であるダイヤモンド層の凸部を露出させる為にゲート電極層、ゲート絶縁層である熱酸化膜を順次エッチングし、ダイヤモンドエミッタを形成する。 - 特許庁

Silicon carbide on a substrate is oxidated to form a silicon oxide, and the silicon oxide is then removed from the substrate to remove silicon carbide from the substrate.例文帳に追加

基板上の炭化珪素を酸化させてシリコン酸化物を形成し、その後にシリコン酸化物を基板から除去することによって、基板から炭化珪素を除去する。 - 特許庁

Quantity of fine particulates to be discharged from a combustion chamber 5 per unit hour is made less than quantity of fine particulates free to oxidate and remove which can be oxidated and removed without generating luminous flame per unit hour on the particulate filter, and consequently, fine particulates in exhaust gas is oxidated and removed without generating luminous flame when they flow in the particulate filter.例文帳に追加

単位時間当りに燃焼室５から排出される排出微粒子量をパティキュレートフィルタ上において単位時間当りに輝炎を発することなく酸化除去可能な酸化除去可能微粒子量よりも少なくし、それによって排気ガス中の微粒子をパティキュレートフィルタに流入すると輝炎を発することなく酸化除去せしめる。 - 特許庁

A thermally oxidated film 104 serving as a gate insulation layer is formed at an Si substrate 101, having a recessed portion 102 whose bottom is made sharp, and a diamond layer being an emitter layer is formed only in a mold.例文帳に追加

底部を尖らせた凹部１０２を有するＳｉ基板１０１にゲート絶縁層となる熱酸化膜１０４を形成し、エミッタ層となるダイヤモンド層１０３を鋳型内のみに形成する。 - 特許庁

The detecting element is provided with supporting legs 4.4 which support a diaphragm 3 that has a high refractive index film 42 and a second oxidated silicone film 32 on a diaphragm structure in a state where the diaphragm is separated from the semi-conductor board 2.例文帳に追加

高屈折率膜４２及び第２の酸化シリコン膜３２を有するダイアフラム３を半導体基板２から離間した状態のダイアフラム構造に支持する脚４・４を備える。 - 特許庁

As electrolyte the phosphoric acid type fuel cell uses phosphoric acid solution in which molybdic acid or oxidated molybdenum is contained previously, wherein the concentration of the molybdic acid or oxidated molybdenum in the solution in the initial period of operation is determined so that it becomes below the allowable value when the cumulated operating time has attained the target time even in the case the concentration rises in the course of operation.例文帳に追加

モリブデン酸又は酸化モリブデンを予め含有させたリン酸溶液を電解質として備え、リン酸溶液に含有されるモリブデン酸又は酸化モリブデンの含有濃度が、運転経過に伴って上昇しても、積算運転時間が目標時間に達した時点においては許容値以下になるように、運転初期における含有濃度が定められている。 - 特許庁

In a CVD oxide film annealing process carried out under a temperature of 900°C or higher, the phosphorus glass film gets into a fluidic reflow state, which thus functions as a buffering material between the thermally oxidated film and the CVD oxide film.例文帳に追加

９００℃以上で行われるＣＶＤ酸化膜のアニール処理時には、リンガラス膜がリフロー流動状態となり、熱酸化膜とＣＶＤ酸化膜と間で緩衝材として機能する。 - 特許庁

To realize a semiconductor device superior in reliability which has a stacked capacitor element structure, and prevents plugs from being oxidated at a high temperature heat treatment in an oxygen atmosphere.例文帳に追加

スタック型の容量素子構造を有する半導体装置において、酸素雰囲気における高温熱処理の際にプラグの酸化を防止し、信頼性に優れた半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁