oxidation semiconductorとは 意味・読み方・使い方

FORMATION OF CAPACITOR FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT USING HIGH-TEMPERATURE OXIDATION例文帳に追加

高温酸化を用いた半導体素子のキャパシタ形成方法 - 特許庁

OXIDATION TREATMENT METHOD OF SILICON-BASED TREATMENT OBJECT, OXIDATION TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

シリコン系被処理物の酸化処理方法、酸化処理装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA OXIDATION TREATMENT METHOD例文帳に追加

半導体装置の作製方法及びプラズマ酸化処理方法 - 特許庁

To provide a surface light emitting semiconductor laser that individually controls the oxidation of a plurality of selective oxidation layers.例文帳に追加

複数の選択酸化層の酸化を個々に制御可能な面発光型半導体レーザを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMATION OF THERMAL OXIDATION FILM AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

熱酸化膜の形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

A semiconductor wafer is disposed in a chamber of a thermal oxidation device (S1).例文帳に追加

熱酸化装置のチャンバ内に半導体ウエハを配置する（Ｓ１）。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SYSTEM FOR CONVEYING SEMICONDUCTOR DEVICE AND IN-CONVEYANCE CONTAINER OXIDATION DEVICE例文帳に追加

半導体装置の製造方法、半導体装置の搬送システム及び搬送容器内酸化装置 - 特許庁

Next, heat treatment with oxidation is performed to the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

次に、半導体基板１に対して酸化を伴う熱処理を行う。 - 特許庁