pouring chamberとは 意味・読み方・使い方

The rotor 3 is cylindrical and has an inner space divided into a discharge raw material chamber 20 at the inner peripheral side and a pouring raw material chamber 21 at the outer peripheral side by a raw material guide pipe 20.例文帳に追加

そして、前記ロータ３を、筒状で、内部空間を原料誘導管１３により、内周側の排出用原料室２０と、外周側の注入用原料室２１とに区画した構成とする。 - 特許庁

A detergent pouring part 44 protrudes from a side wall 7b of a cleaning chamber 7 and, at the front end, a detergent introduction port 44a through which a liquid detergent W is poured into the washing chamber 7, is provided.例文帳に追加

洗剤注入部４４は、洗浄室７の側壁７ｂから突出し、その先端に液体洗剤Ｗを洗浄室７内に注入する洗剤導入口４４ａが設けられている。 - 特許庁

This server is constituted of a beverage pouring chamber 11 for filling a beverage in the mounted cup C, and a cup-cleaning chamber 21, having a cleaning nozzle N for injecting a cleaning liquid to the mounted cup.例文帳に追加

載置されたカップＣに飲料を注入する飲料注入室１１と、載置されたカップに洗浄液を噴射する洗浄ノズルＮを有したカップ洗浄室２１とを備えた構成とされている。 - 特許庁

In the tundish, a communication path 4 having a longitudinal direction is provided, and also, the vertical cross-section to the longitudinal direction of the communication path 4 is formed so as to be gradually widen from a receiving chamber 3 toward a molten metal pouring chamber 5.例文帳に追加

長手方向を有する連通路４が設けられ、かつその連通路４の長手方向に対する垂直断面が、受容室３から注湯室５に向かって徐々に広がって形成されている、タンディッシュ。 - 特許庁

The cylinder for pouring frozen dessert works as follows: a piston 13 rises up to compress a pack B when a brine is supplied into a pressuring chamber 24 of a fluid pressure cylinder 11 to pressurize the brine, and thereby ice cream is poured.例文帳に追加

流体圧シリンダ１１の圧力室２４内にブラインが供給されて加圧されると、ピストン１３が上昇してパックＢが圧縮され、アイスクリームが注出される。 - 特許庁

A mold cooling material 7 composed of a good heat conductive material, is filled up in the casting chamber 1 at the outer periphery of the hollow mold 2 just before pouring the molten metal ML.例文帳に追加

金属溶湯ＭＬの注湯直前に中空鋳型２外周の鋳込みチャンバ１内に熱伝導性良好な材料からなる鋳型冷却材３を充填する。 - 特許庁

A formed precursor film is heat-treated in a heat-treatment chamber 5 at a substrate temperature of approximately 550°C while pouring Se vapor on the precursor film using a Se evaporation source 25.例文帳に追加

形成した前駆体膜を、熱処理室５にて、Ｓｅ蒸着源２５を用いてＳｅ蒸気を前駆体膜上へ照射しながら、基板温度約５５０℃で熱処理する。 - 特許庁

The apparatus is further provided with a watering apparatus to supply water to a suction chamber before charging the raw material slurry into the forming mold to prevent the dehydration of the slurry simultaneously with the pouring of the slurry into the mold.例文帳に追加

原料スラリーを成形型に投入する前に吸引室に給水する注水装置を設けて、スラリー注入と同時に脱水が生じるのを防ぐ。 - 特許庁