particulate contaminationとは 意味・読み方・使い方

To provide a cleaning apparatus and a method thereof which can remove particulate contamination substance of a sufficiently small size, even if the substance has a shape of a high aspect ratio.例文帳に追加

アスペクト比が高い形状であっても、十分に小さいサイズの粒子状汚染物質を除去できる洗浄装置、方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for improving the accuracy in centering a wafer with respect to a chuck and retaining ring while suppressing the breakage and particulate contamination of the wafer to a minimal extent.例文帳に追加

ウェーハの破損と粒子汚染を最小限に抑えつつチャックおよびリテーナリングへのウェーハのセンタリング精度を改善する装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, its throughput is increased by the reduced pumping flow rate and the exhaust flow rate, which leads to a reduction in the probability of substrate contamination due to particulate and condensation.例文帳に追加

更に、高処理能力はポンプ流量と排気流量の減少で可能になり、微粒子や凝縮による基板汚染確率の低下に対応する。 - 特許庁

The water contamination preventive device for a pure-dora water tank solidifies fine particulate excrement causing contamination by fresh fish by the reaction of magnetism, forms a hardly dissolvable state and turns to easily removable matter, to keep freshness of fish.例文帳に追加

ピュアド−ラ水槽用の水の汚れ防止装置は、鮮魚による汚染しやすい微粒子排泄物等を磁力の反応により固形化し、溶解しにくい状態を創り除去しやすい物体に形成するため鮮魚の保持に役立つ。 - 特許庁

To provide a production method of a powder mixture for production of a particulate sintered hard alloy, wherein contamination with constituents etc., of the inner walls of the apparatus is hardly caused.例文帳に追加

微粒超硬合金を製造するための混合粉の製造方法であり、混合装置の内壁構成成分等で汚染することが少ない製造方法を提供する。 - 特許庁

Hermetic sealing and electrical connection of the seal part 6 become possible by using plastic deformation of the metallic glass thin film, without restrictions, such as irregularity and warp of the substrates, and particulate contamination.例文帳に追加

金属ガラス薄膜の塑性変形を利用して、基板の凹凸、反り、微粒子汚染等の制約を受けずに、シール部６の気密封止と電気的接続が可能になる。 - 特許庁

Thus, plasma resistance and preventing particulate contamination can be improved.例文帳に追加

そして、異常粒子成長を抑制させ小さい粒子で構成させることで発塵によるパーティクル汚染を低減させることが可能となり、耐プラズマ性と耐パーティルクル特性を向上できる。 - 特許庁

To provide a washing device capable of being applied to the washing of an electronic material requested to have high cleanliness such as a silicon substrate for a semiconductor, a glass substrate for a liquid crystal or a quartz substrate for a photomask and simultaneously eliminating organic material contamination and particulate contamination.例文帳に追加

半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、フォトマスク用石英基板などの高い清浄度を要求される電子材料の洗浄に適用し、有機物汚染と微粒子汚染を同時に除去することができる洗浄装置を提供する。 - 特許庁