pattern Sとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 patternの三人称単数現在。patternの複数形。(思考・行動・文などの)型、 様式、 パターン
「pattern S」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 416件
pattern with '%s' for index name発音を聞く 例文帳に追加
インデックス名における '%s' に使用するパターン。 - PEAR
s/ regexp / replacement / Attempt to match regexp against the pattern space.発音を聞く 例文帳に追加
s/ regexp / replacement /パターンスペースに対してregexpのマッチを試みる。 - JM
pattern with '%s' for auto generated savepoint names発音を聞く 例文帳に追加
自動生成されるセーブポイント名における '%s'に使用するパターン。 - PEAR
An in-database frequency p(s) calculation part 2 computes ratios of the occurrence frequency of a state sequence pattern s to the occurrence frequencies of "elements t of T[s]" of pattern subsets T[s] of the state sequence pattern s.例文帳に追加
データベース内度数ｐ（ｓ）の計算部２は、状態列パターンｓの部分パターン集合Ｔ〔ｓ〕の要素ｔ∈Ｔ〔ｓ〕の出現頻度に対する状態列パターンｓの出現頻度の比を求める。 - 特許庁
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「pattern S」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 416件
A layer of a resin laminate (1) is provided on a surface of a substrate S to form a pattern.例文帳に追加
基板(S) 面に樹脂積層体(1) の層を設けてパターンを形成する。 - 特許庁
To enhance the resolution and contrast of the L/S pattern of a photoresist pattern.例文帳に追加
フォトレジストパターンのＬ／Ｓパターンの解像度及び対照比を向上させる。 - 特許庁
The L/S pattern includes an L/S pattern of a period P_1 satisfying λ/NA<P_1<2λ<NA and an L/S pattern of a period P_2 satisfying 1.2P_1<P_2<1.6P_1.例文帳に追加
Ｌ／Ｓパターンには、λ／ＮＡ＜Ｐ_１＜２λ／ＮＡを満たす周期Ｐ_１のＬ／Ｓパターンと、１．２Ｐ_１＜Ｐ_２＜１．６Ｐ_１を満たす周期Ｐ_２のＬ／Ｓパターンとが含まれる。 - 特許庁
To provide a pattern inspection device enhanced in S/N ratio, and a pattern inspection method.例文帳に追加
Ｓ／Ｎ比が高いパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。 - 特許庁
A tetragonal lattice pattern 9 is formed in a photoresist by carrying out first exposure through an L/S pattern and a second exposure through an L/S pattern inclined from the above L/S pattern by 90° with an optical exposure system.例文帳に追加
光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁
DESCRIPTION Output pieces of FILE separated by PATTERN(s) to files `xx01', `xx02', .発音を聞く 例文帳に追加
pattern引き数で指定される行が入力ファイルに存在しない場合はエラーとなる。 - JM
The candidate information S includes a pattern specified by a pattern specifying command.例文帳に追加
この候補情報Ｓは、図柄指定コマンドで指定された図柄を含んで構成されている。 - 特許庁
Whether mask pattern data are right or not is verified by comparing the L/S obtained by measuring a dimension in each line pattern group with a L/S pattern specification table.例文帳に追加
各線パターン集合を測長して得られるＬ／Ｓと、Ｌ／Ｓパターン仕様テーブルと、を比較することによって、マスクパターンデータが正しいかどうかを検証する。 - 特許庁
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