phosphoric acid solutionとは 意味・読み方・使い方

Further, it is preferable that the phosphoric acid used for the phosphoric acid aqueous solution is H_3PO_4, and the temperature of the phosphoric acid aqueous solution is 20 to 40°C.例文帳に追加

また、前記リン酸水溶液に用いられるリン酸はＨ_３ＰＯ_４であり、前記リン酸水溶液の温度が、２０℃〜４０℃であることが好ましい。 - 特許庁

The concentration of phosphoric acid in the phosphoric acid aqueous solution is preferably controlled to 380 to 470 g/l.例文帳に追加

該リン酸水溶液のリン酸濃度は、３８０ｇ／ｌ〜４７０ｇ／ｌであることが好ましい。 - 特許庁

The concentration of phosphoric acid in the phosphoric acid aqueous solution is preferably 380 to 600 g/l.例文帳に追加

該リン酸水溶液のリン酸濃度は、３８０ｇ／ｌ〜６００ｇ／ｌであることが好ましい。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING REFINED PHOSPHORIC ACID FROM AQUEOUS PHOSPHORIC ACID SOLUTION CONTAINING A PLURALITY OF METAL IONS例文帳に追加

複数の金属イオンを含むリン酸水溶液から精製リン酸を得る方法及び装置 - 特許庁

In addition, the temperature of the solution containing phosphoric acid ions is 10-80°C, the solution containing phosphoric acid ions contains phosphoric acid ions of 1-30%, and the solution containing phosphoric acid ions is calcium hydrogenphosphate solution (CaHPO_4) or magnesium hydrogenphosphate solution (MgHPO_4).例文帳に追加

さらに、前記リン酸イオンを含む溶液が１０〜８０℃で、濃度１〜３０％のリン酸イオンを含み、また、前記リン酸イオンを含む溶液がリン酸カルシウム溶液（ＣａＨＰＯ_4）またはリン酸マグネシウム溶液（ＭｇＨＰＯ_4）であることを特徴とする。 - 特許庁

A solution containing hydrofluoric acid and phosphoric acid is dropped onto the silicon wafer.例文帳に追加

沸化水素酸と燐酸とを含む溶液をシリコンウェハ上に滴下する。 - 特許庁

In the process, a mixed solution of phosphoric acid and sulfuric acid is used as an etchant.例文帳に追加

このとき、エッチング液として、リン酸および硫酸の混合液を用いる。 - 特許庁

Furthermore, the solution may contain not less than one of the following acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid or phosphoric acid.例文帳に追加

また上記の溶解液が、塩酸、硫酸、硝酸またはリン酸の一種以上を含有してもよい。 - 特許庁