plasma concentrationとは 意味・読み方・使い方

To make uniform the concentration of a gas for exciting a plasma which is fed to a plasma generating region, while preventing the gas for exciting the plasma from being brought into a plasma before it is fed to the plasma generating region.例文帳に追加

プラズマ励起用ガスが供給前にプラズマ化することを防止しつつ，プラズマ生成領域に供給されるプラズマ励起用ガスの濃度を均一にする。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING DOPANT CONCENTRATION DURING PLASMA ION IMPLANTATION例文帳に追加

プラズマイオン注入中にドーパント濃度を測定するための方法 - 特許庁

In this plasma processing system, O2 concentration of the gas 8 is set at 0.8-2.0%.例文帳に追加

プラズマ生成用ガス８のＯ_2濃度を０．８〜２．０％に設定する。 - 特許庁

To provide a composition for inhibiting the elevation of plasma homocysteine concentration.例文帳に追加

血漿ホモシステイン濃度上昇抑制用組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a microwave applicator having impedance independent of plasma concentration, a plasma generator provided with the microwave applicator, and a plasma processor provided with the plasma generator.例文帳に追加

プラズマ密度に依存しないインピーダンスを有するマイクロ波導入器、これを備えたプラズマ発生装置及びこれを備えたプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

For each opening having the same opening width, etching (irradiation of methane/hydrogen plasma) is carried out, under the condition such that a hydrogen plasma concentration at a mask end becomes a predetermined concentration.例文帳に追加

開口部幅が同じ開口部毎に、マスク端での水素プラズマ濃度が所定の濃度となる条件でエッチング（メタン／水素プラズマ照射）を行う。 - 特許庁

Etching (methane/hydrogen plasma irradiation) is performed for each opening having the same opening width, in a condition where a hydrogen plasma concentration at a mask end becomes a predetermined concentration.例文帳に追加

開口部幅が同じ開口部毎に、マスク端での水素プラズマ濃度が所定の濃度となる条件でエッチング（メタン／水素プラズマ照射）を行う。 - 特許庁