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etching rateの意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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etching rateとは 意味・読み方・使い方

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JST科学技術用語日英対訳辞書での「etching rate」の意味

etching rate


「etching rate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 872



例文

ETCHING RATE CONTROL MONITOR例文帳に追加

エッチングレート管理モニター - 特許庁

An estimated etching rate is calculated using the etching rate estimation equation.例文帳に追加

エッチングレート予測式を用いてエッチングレート予測値を算出する。 - 特許庁

To provide a dry etching method of carrying out etching having a uniform distribution of etching rate.例文帳に追加

均一な分布レートでエッチングするドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To improve a silicon etching rate.例文帳に追加

シリコンのエッチングレートを向上させる。 - 特許庁

Then, the additional etching time is calculated from the etching rate.例文帳に追加

続いて、このエッチングレートから追加エッチング時間を割り出す。 - 特許庁

To enable calculating etching rate accurately, and enable etching to a predetermined etching quantity and etching depth.例文帳に追加

精度良くエッチングレートを算出でき、所定のエッチング量やエッチング深さにエッチング処理を行う。 - 特許庁

例文

To provide an etching device and an etching method wherein a high etching rate is attained, and it is excellent in the in-plane uniformity of an etching rate.例文帳に追加

高いエッチングレートが得られ、且つ、エッチングレートの面内均一性に優れたエッチング装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

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Weblio専門用語対訳辞書での「etching rate」の意味

Etching Rate

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「etching rate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 872



例文

ETCHING RATE MEASURING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

エッチングレート測定装置および測定方法 - 特許庁

To provide an etching rate measuring technology capable of accurately measuring an etching rate during plasma etching operation.例文帳に追加

プラズマエッチング処理中に、高精度にエッチングレートを測定することのできるエッチングレート測定技術を提供する。 - 特許庁

MASK ETCHING PLASMA REACTOR WITH CATHODE OF UNIFORM ETCHING RATE DISTRIBUTION例文帳に追加

均一なエッチング速度分布の陰極を備えたマスクエッチングプラズマリアクタ - 特許庁

To provide an etching device which has high etching rate and perpendicular processability.例文帳に追加

エッチングレート及び垂直加工性が高いエッチング装置を提供する。 - 特許庁

ETCHING RATE MEASURING DEVICE AND METHOD OF MEASUREMENT THEREFOR例文帳に追加

エッチング速度測定装置および測定方法 - 特許庁

The etching rate or the dissolution rate of the second thin film 40 is lower than the etching rate or the dissolution rate of the third thin films 52, 50.例文帳に追加

そして、第二薄膜40のエッチング速度又は溶解速度は、第三薄膜52,50のエッチング速度又は溶解速度よりも低い。 - 特許庁

To a plasma etching trial method which can obtain etching parameters with a less-fluctuated etching rate.例文帳に追加

エッチング速度の変動が少ないエッチングパラメータが得られるプラズマエッチングの試行方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an etching method capable of performing etching at a high etching rate while avoiding notching.例文帳に追加

ノッチングを回避するとともに、高エッチングレートでのエッチングが可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

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