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rewiringsの意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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rewiringsとは 意味・読み方・使い方

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Wiktionary英語版での「rewirings」の意味

rewirings

出典:『Wiktionary』 (2010/09/06 22:41 UTC 版)

名詞

rewirings

  1. Plural form of rewiring.

「rewirings」を含む例文一覧

該当件数 : 17



例文

In this case, the depth of the recesses 7 is made larger than the thickness of the rewirings 8.例文帳に追加

この場合、凹部7の深さは再配線8の厚さよりも深くなっている。 - 特許庁

Columnar electrodes 10, consisting of copper, are provided on the upper surfaces of connecting pads for the rewirings 8.例文帳に追加

再配線8の接続パッド部上面には銅からなる柱状電極10が設けられている。 - 特許庁

Rewirings 8, consisting of copper, are provided in recesses 7 provided on the upper surface of the protective film 5.例文帳に追加

保護膜5の上面に設けられた凹部7内には銅からなる再配線8が設けられている。 - 特許庁

A sealing film 11, consisting of epoxy resin, is provided on the upper surface of the protective film 5 comprising the rewirings 8.例文帳に追加

再配線8を含む保護膜5の上面にはエポキシ系樹脂からなる封止膜11が設けられている。 - 特許庁

The protective film 5, which is higher than the upper surfaces of the rewirings 8, exists between the rewirings 8 comprising the lower parts of the column type electrodes 10, whereby the short circuit due to the so-called ion migration can be less likely caused.例文帳に追加

そして、柱状電極10の下部を含む再配線8間に再配線8の上面よりも高い保護膜5が存在することにより、いわゆるイオンマイグレーションによるショートが発生しにくいようにすることができる。 - 特許庁

The semiconductor device includes a base structure, a passivation film, at least two adjacent rewirings 135 and an insulating film.例文帳に追加

半導体装置は、下部構造物、パシベーション膜、少なくとも2つの隣接する再配線135、及び絶縁膜を有する。 - 特許庁

例文

In this case, the base metal layers 31, 35 are formed by sputtering, and the rewirings 32, 36 are formed by electrolytic plating.例文帳に追加

この場合、下地金属層31、35はスパッタにより形成し、再配線32、36は電解メッキにより形成する。 - 特許庁

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「rewirings」を含む例文一覧

該当件数 : 17



例文

The insulating film is arranged on the passivation film and has voids 145 which are extended in directions of the at least two adjacent rewirings 135 respectively.例文帳に追加

絶縁膜は、パシベーション膜上に配置され、少なくとも2つの隣接する再配線135間で延長されるボイド145を具備する。 - 特許庁

In this case, the first and second base metal layers 33 and 37 are formed by sputtering, first and second rewirings 34 and 38 are formed by electroplating.例文帳に追加

この場合、第1、第2の下地金属層33、37はスパッタにより形成し、第1、第2の再配線34、38は電解メッキにより形成する。 - 特許庁

Thus, it is unnecessary to form openings for connecting the upper and lower rewirings in the interlayer insulation films 9, 12, 14, and 17 by means of photolithographic method.例文帳に追加

これにより、各層間絶縁膜9、12、14、17に、その上下の再配線を接続するための開口部をフォトリソグラフィ法により形成する必要はない。 - 特許庁

At least two adjacent rewirings 135 are mutually separately arranged on the passivation film and are connected with the chip pads 105 through the corresponding first apertures respectively.例文帳に追加

少なくとも2つの隣接する再配線135は、パシベーション膜上に互いに離隔配置され、対応する第1開口を通じてチップパッド105とそれぞれ連結される。 - 特許庁

Insulating films 26, 39, base metal layers 31, 32, rewirings 32, 36, salient poles 33, 37 and the solder ball 38 are formed in batch for a plurality of the chips 21.例文帳に追加

そして、複数の半導体チップ21に対して、絶縁膜26、39、下地金属層31、32、再配線32、36、突起電極33、37および半田ボール38の形成を一括して行う。 - 特許庁

Electrodes 12, which are used exclusively for applying electrical stress, are connected with the respective electrodes which are used for burn-in test out of the electrodes 11 by using rewirings 13 and led out to a central region side of the chip.例文帳に追加

電気的ストレス印加専用電極12は、電極11のうちバーンイン試験に利用される各電極に再配線13を用いて結線され、チップの中央領域側に導出されている。 - 特許庁

Moreover, since two or more interconnection bumps are offered in a pair of rewirings which are arranged on the upper and lower rewiring chips respectively, the inductance and resistance on the transmission route of an electrical signal are reduced.例文帳に追加

しかもそれぞれ上下再配線チップ上に配置される一対の再配線内に2つ以上の相互接続バンプが提供されることによって、電気信号の伝達経路上のインダクタンス及び抵抗が低減される。 - 特許庁

例文

A semiconductor chip 20 has: first external electrodes 23B to 23D with rewirings; and a second external electrode 23A which has a lower end extended to below a virtual line Lh and a right end extended to or beyond a right end of a virtual line Lv.例文帳に追加

半導体チップ20には、再配線を持つ第1の外部電極23B〜23Dと、下端は、仮想線Lhの下まで、右端は、仮想線Lvの右端またはそれを超えるように延在されている。 - 特許庁

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「rewirings」の意味に関連した用語

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