reference notchとは 意味・読み方・使い方

Consequently, a position of a notch is detected with a detection part by grasping the wafer 3 mounted on the delivery arm 20 by the holding clamper 30 to perform one rotation, and the notch is moved to a reference rotation position.例文帳に追加

これによって、受け渡しアーム部２０に載置されたウェハ３を、保持クランパ３０で把持して１回転することによって検出部でノッチの位置を検出して、ノッチを基準回転位置に移動する。 - 特許庁

A carriage reference line is interposed between the two sensors 150 separated from each other by a space wider than the width of the notch 12 of the wafer 10.例文帳に追加

二つのセンサー１５０は搬送基準軸を挟んでウエハ１０のノッチ１２の幅より広い間隔を置いて配置されている。 - 特許庁

The semiconductor laser stack 1 includes a first notch N1 and a second notch N2 (both the ends of a detecting reference) formed at both the end sides of the emitter E of the end face of an active layer including the emitter (light emitting part) E.例文帳に追加

半導体レーザスタック１は、エミッタ（発光部）Ｅを含む活性層の端面のうちのそれぞれのエミッタＥの両端側に第１ノッチＮ１及び第２ノッチＮ２（検出基準両端部）を形成している。 - 特許庁

A reference notch 44ae and a notch 44be are formed at one end of the press plate P and it is carried to the recording drum 5 in the state that the end and the rotary axis 5N of the recording drum 5 are inclined at an angle U.例文帳に追加

刷版Ｐは、その一方端に基準切り欠き４４ａｅと切り欠き４４ｂｅとが形成され、上記一方端と記録ドラム５の回転軸５Ｎとは角度Ｕ傾いた状態で記録ドラム５に搬送される。 - 特許庁

The press plate P is positioned in a direction Y shown in the figure to the recording drum 5 by fitting the reference notch 44ae and a positioning pin 51a first.例文帳に追加

刷版Ｐは、まず基準切り欠き４４ａｅと位置決めピン５１ａが嵌合することにより、記録ドラム５に対して図示Ｙ方向の位置決めが行われる。 - 特許庁

The substrate center with respect to the reference position, and the notch position in a rotational direction are extracted from an image acquired in the surface inspection or the reverse face inspection.例文帳に追加

表面検査又は裏面検査で取得した画像からは、基準位置に対する基板中心と、回転方向におけるノッチ位置を抽出する。 - 特許庁

The bottom parts of the protection hole 46 and the protection notch part 54 are finished on the same plane as that of the main surface 40 and flat, constituting a first reference surface 48 and a second reference surface 56 as the height-direction positioning references of the case 16.例文帳に追加

保護孔４６、保護切欠き部５４の底部は、それぞれ主面４０と面一かつ平坦に仕上げられており、ケース１６の高さ方向の位置決め基準である第１基準面４８、第２基準面５６とされている。 - 特許庁

When the tip part of the distance sensor 14 is allowed to abut on a notch N of the wafer W and the wafer W is pressed into the reference pieces 11A and 11B to position the notch N, the distance sensor 14 is vibrated to provide vibration to the wafer W through the distance sensor 14.例文帳に追加

この距離センサ１４の先端部をウェーハＷにおけるノッチＮに当接させてウェーハＷを基準片１１Ａ，１１Ｂに押し込んでノッチＮの位置決めを行なう際、距離センサ１４を振動させて、距離センサ１４を介してウェーハＷに振動を与える。 - 特許庁