sputter ion sourceとは 意味・読み方・使い方

Ions contained in the plasma generated from the sputter source of HIPIMS are subjected to TOF mass spectroscopy, and distribution of ion generation is detected.例文帳に追加

ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源で発生したプラズマに含まれるイオンをＴＯＦ質量分析にかけて、イオンの生成分布を検出する。 - 特許庁

To prevent generation of gas molecules and sputter particles generated by impact of other gas ions except sputtered metal ions on the inner wall of a wave guide in an ion accelerator equipped with a sputter type ion source and a mass separation mechanism to reduce the mixing of impurities on the downstream side.例文帳に追加

スパッタ型イオン源と質量分離機構を備えたイオン加速器において、スパッタさせた金属イオン以外のガスイオンがウェーブガイドの内壁に衝突することにより発生するガス分子やスパッタ粒子の発生を抑制して下流側での不純物の混人を低滅できるようにする。 - 特許庁

In this plasma sputter type negative ion source generating plasma 13 inside the hermetic chamber 1, sputtering a sputter target 6 by the plasma 13, and emitting ions of a target atom, multiple kinds of sputter targets 6 including a predetermined target element are arranged inside the hermetic chamber 1, and positive ions inside the plasma 13 are guided to one target selected from multiple kinds of sputter targets 6.例文帳に追加

気密チャンバ１中にプラズマ１３を発生させ、該プラズマ１３によりスパッタターゲット６をスパッタリングし、ターゲット原子のイオンを射出するプラズマスパッタ型負イオン源において、気密チャンバ１内に、所定の目的元素を含むスパッタターゲット６が複数種類配置され、複数種類のスパッタターゲット６の中から選択された一つのスパッタターゲットにプラズマ１３中の正イオンを誘導する。 - 特許庁

For the ion accelerator equipped with a sputter type ion source and a mass separation mechanism and adapted to implant metal ions in a target to be irradiated, a layer of active metals such as Ti+Ta is provided on the inner wall of a wave guide of the mass separation mechanism.例文帳に追加

スパッタ型イオン源と質量分離機構を備え、金属イオンを被照射体に注入するようにしたイオン加速器において、質量分離機構のウェーブガイドの内壁にＴｉ＋Ｔａ等の活性な金属層を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The ECR sputtering apparatus 1 comprises: an ECR sputtering source 2 which generates the plasma originating from the sputter target by using an electron cyclotron resonance mechanism and irradiates a substrate 10 with the generated plasma; and an ion beam source 3 which ionizes a supplied gas like the reactive gas and irradiates the substrate 10 with the ionized gas.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ装置１は、電子サイクロトロン共鳴によってスパッタターゲットのプラズマを発生し、発生したプラズマを基板１０に照射するＥＣＲスパッタ源２と、反応性ガス等の供給ガスをイオン化し、イオン化したガスを基板１０に照射するイオンビーム源３を備える。 - 特許庁