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silicon burningとは 意味・読み方・使い方
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「silicon burning」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 29件
A burning catalyst layer 15 is provided in a fine meandering flow passage 14 formed on the other surface of a burning silicon substrate 12 is covered with a burning glass base plate 18.例文帳に追加
燃焼用シリコン基板12の他面に形成された蛇行した微小な流路14内には燃焼触媒層15が設けられ、燃焼用ガラス基板18で覆われている。 - 特許庁
The method of manufacturing silicon carbide powder, the carbon source of which is xylene based resin, includes burning mixture containing at least silicon source and carbon source.例文帳に追加
ケイ素源と炭素源とを少なくとも含有する混合物を焼成することを含み、該炭素源がキシレン系樹脂である炭化ケイ素粉末の製造方法である。 - 特許庁
To provide an optical fiber connector component using a silicon nitride composite having extremely low burning shrinkage and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
焼成収縮が極めて小さい窒化珪素コンポジットを用いた光ファイバーコネクター部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a baking container for silicon nitride-based ceramic in which a silicon nitride-based molded article, especially, a honeycomb molded article containing metal silicon particles and/or silicon nitride particles can be subjected to thermal treatment such as nitrization and burning without any deformation and defect, with accuracy in shape, high quality and high efficiency.例文帳に追加
窒化ケイ素質成形体、特に金属ケイ素粒子および/または窒化ケイ素粒子を含むハニカム成形体を、変形や欠陥等なく形状精度よく、高品質で高効率に、窒化、焼成などの熱処理ができる窒化ケイ素質セラミックス用焼成容器の提供。 - 特許庁
In the silicon carbide powder, the surface is covered with an oxide coating with thickness of 10-500 nm produced by burning.例文帳に追加
表面が、焼成によって設けられた、厚みが10nm〜500nmの酸化物被膜によって被覆されてなることを特徴とする炭化ケイ素粉体。 - 特許庁
The method for producing the artificial zeolite comprises pulverizing the FRP waste material after burning organic substances contained in the FRP waste material or pulverizing the FRP waste material into particles having particle diameters of ≤200 μm without burning the organic substances, then adding a silicon source and sodium hydroxide, and reacting the resulting mixture at a prescribed temperature.例文帳に追加
FRP廃材の含有有機物を燃焼させた後に粉砕処理し、或いは燃焼させずに200ミクロン以下に粉砕し、ケイ酸源と水酸化ナトリウムとを添加して所定温度で反応させる。 - 特許庁
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「silicon burning」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 29件
A surface of the separator is instantaneously hydrophilized by a combustion chemical vapor phase deposition method for spraying a gas containing a silicon compound to the separator surface while burning it and thereby forming a nano-order silicon oxide coating layer on the surface by fine particles of silicon oxide generated by the combustion.例文帳に追加
珪素化合物を含む気体を、燃焼させながらセパレータ表面に吹き付けることによって、燃焼によって生じる酸化珪素の微粒子が表面にナノオーダーの酸化珪素皮膜層を形成する燃焼化学気相蒸着法により、瞬間的にセパレータ表面を親水化する。 - 特許庁
The conductor paste for forming through conductors 10 suppresses burning shrinkage while assuring high conductivity by using silver powder having the small burning shrinkage of 35% or less, and by adding silicon nitride powder thereto.例文帳に追加
貫通導体10を形成するための導電ペーストは、焼成収縮率が35(%)以下と小さい銀粉末が用いられると共に、これに窒化珪素粉末が添加されていることから、高い導電性を確保しつつ焼成収縮が抑制される。 - 特許庁
A surface treatment is applied on the surface of the molding 1 obtained by burning and spraying a gas containing a reforming agent compound including a silicon compound or an aluminum compound.例文帳に追加
得られた成形体1の表面に、ケイ素化合物又はアルミニウム化合物を含む改質剤化合物を含む気体を燃焼させながら吹き付ける表面処理を施す。 - 特許庁
The solar cell element has an aluminum electrode layer 8 formed by applying the paste composition having the above feature onto the p-type silicon semiconductor substrate 1 for burning.例文帳に追加
太陽電池素子は、上述の特徴を有するペースト組成物をp型シリコン半導体基板1の上に塗布した後、焼成することにより形成したアルミニウム電極層8を備える。 - 特許庁
This photovoltaic cell manufacturing method comprises the first process for printing the paste electrode materials on the silicon substrate 10, the second process for forming electrodes by burning a silicon substrate with electrode materials printed, and the third process for flowing current through the electrodes.例文帳に追加
シリコン基板10に、ペースト状の電極材料を印刷する第1工程と、電極材料が印刷されたシリコン基板を焼成して電極を形成する第2工程と、電極に電流を流す第3工程とを有する太陽電池セルの製造方法である。 - 特許庁
This burned body for fuel efficiency improvement is manufactured by kneading silicon or germanium, zinc oxide, nickel, and magnesium with silver zeolite and sodium silicate and forming and burning them at 600°C to 1,400°C.例文帳に追加
シリコンまたはゲルマニウムと、酸化亜鉛、ニッケルおよびマグネシウムとを、銀ゼオライトおよび珪酸ナトリウムに混練および成形して、600℃から1400℃の温度で焼成してなる燃料効率改善用焼成体。 - 特許庁
Heat treatment at 800 to 1,000°C is executed for several minutes to several hours to a silicon oxide film 7 and a BPSG film 10 in an oxidation atmosphere containing oxygen or steam (oxygen and hydrogen mixed burning).例文帳に追加
シリコン酸化膜7及びBPSG膜10に対し、酸素もしくは水蒸気(酸素,水素混合燃焼)を含む酸化雰囲気中で800〜1000℃の熱処理を数分〜数時間加える。 - 特許庁
To provide a condensation-reaction material solution capable of forming an insulating film having a prolonged pot life, less curing shrinkage rate when burning to obtain a silicon oxide, excellent cracking resistance and less variation of withstand voltage.例文帳に追加
ポットライフが長く、焼成してシリコン酸化物としたときの硬化収縮率が小さく、更にクラック耐性に優れかつ耐電圧のばらつきが小さい絶縁膜を形成できる縮合反応物溶液の提供。 - 特許庁
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