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tegsの意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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tegsとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 tegの複数形。トロンボエラストグラフィー

tegsの
文法情報

tegs」は名詞「teg」の複数形です

Wiktionary英語版での「tegs」の意味

tegs

名詞

tegs

  1. plural of teg

アナグラム


「tegs」を含む例文一覧

該当件数 : 13



例文

The TEGs constituting the TEG group 300 are TEGs for optical beam induced resistance change (OBRICH).例文帳に追加

本実施形態において、TEG群300を構成するTEGは、OBRICH(Optical Beam Induced Resistance Change)用のTEGである。 - 特許庁

To ensure enough regions for TEGs so as to cope with a number of inspection items without being restricted in size of electronic devices to be products by formation of the TEGs, and leave the TEGs with a maker side without damaging them.例文帳に追加

TEGの形成により製品となる電子デバイスの大きさに制約を受けることがなく、多くの検査項目に対応できるようTEGの領域を十分に確保することができ、TEGを破損することなくメーカ側に残すこと。 - 特許庁

The two TEGs 14 adjacent with each other on each scribing line region 13 are arranged spaced in a longitudinal directions of the scribing line region 13.例文帳に追加

各スクライブ線領域13上で隣接する2つのTEG14は、スクライブ線領域13の長手方向に離間して配置される。 - 特許庁

To prevent dicing precision in manufacture of a semiconductor chip from becoming worse, and to completely prevent execution of measurements using TEGs after circulation.例文帳に追加

半導体チップを製造する際のダイシング精度の悪化を防止するとともに、流通後のTEGを用いた測定の実行を完全に防止する。 - 特許庁

A pattern of the same shape as that of the semiconductor element in the regions 12 and the same shape as each other is formed in each of the TEGs 14.例文帳に追加

各TEG14には、素子形成領域12内の半導体素子のパターンと同じ形状で、且つ、相互に同一形状のパターンが形成される。 - 特許庁

In the semiconductor device, characteristics of TEGs 30 can be measured in a state where a current less than a predetermined current is applied to the sense wirings 36a and 38a.例文帳に追加

半導体装置では、センス配線36a、38aに所定電流以下の電流が印加された状態でTEG30の特性を測定することができる。 - 特許庁

例文

In a semiconductor device comprising a TEG group composed of one or more TEGs each having wiring 141, 142;151, 152;161 and 162 at ground potential and wiring 11, 12 and 13 at floating potential, the width and interval of the wiring are identical in each TEG, but one of the width and interval is different between different TEGs.例文帳に追加

接地電位にある配線141、142;151、152;161,162;とフローティング電位にある配線11、12、13とを有する2つ以上のTEGからなるTEG群を備えた半導体装置は、それぞれのTEGにおいては配線の線幅及び間隔を同一とし、異なるTEG間では配線の線幅と間隔のうちのいずれか一方が互いに異なる。 - 特許庁

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「tegs」を含む例文一覧

該当件数 : 13



例文

In a semiconductor device comprising a TEG group composed of one or more TEGs each having wiring 162_1, 162_2 and 162_3 at ground potential and wiring 161_1, 161_2 and 161_3 at floating potential, the width and interval of the wiring are identical in each TEG, but one of the width and interval is different between different TEGs.例文帳に追加

接地電位にある配線162_1、162_2、162_3とフローティング電位にある配線161_1、161_2、161_3とを有する2つ以上のTEGからなるTEG群を備えた半導体装置は、それぞれのTEGにおいては配線の線幅及び間隔を同一とし、異なるTEG間では配線の線幅と間隔のうちのいずれか一方が互いに異なる。 - 特許庁

A TEG group 300 includes a pad 310 for first test, a pad 312 for second test, and a plurality of TEGs (for example, a first TEG 320, a second TEG 340, and a third TEG 360).例文帳に追加

TEG群300は、第1テスト用パッド310、第2テスト用パッド312、及び複数のTEG(例えば第1TEG320、第2TEG340、及び第3TEG360)を有している。 - 特許庁

The TEGs 14 each having not more than 1/2 of the width of the scribing line region 13 are formed on the scribing line region 13 of four corners of each of the reticle shots 11 and on the center scribing line region 13 thereof.例文帳に追加

各レチクルショット11の4隅のスクライブ線領域13上、及び、中央のスクライブ線領域13上に、スクライブ線領域13の幅の1/2以下の寸法を有するTEG14を形成する。 - 特許庁

From a circuit viewpoint, the plurality of TEGs are located between the pad 310 for first test and the pad 312 for second test, are arranged in series or in parallel to one another, and are not overlapped to one another in a plan view.例文帳に追加

複数のTEGは、電気回路上、第1テスト用パッド310と第2テスト用パッド312の間に位置し、互いに直列又は並列に配置されており、かつ平面視で互いに重なっていない。 - 特許庁

For example, a measurement system measures two or more types of matrix array TEGs included in each of a plurality of chips on a wafer, while changing their address one by one, and generates a measurement result file F21 for each chip.例文帳に追加

例えば、測定システムが、ウエハ上の複数のチップのそれぞれに含まれる複数種類の行列型配置TEGを対象としてアドレスを順次変更しながら測定を行い、チップ毎に測定結果ファイルF21を生成する。 - 特許庁

例文

When four semiconductor chips 2a-2d are exposed in a one-shot region SA at exposure time, TEGs 4a-4d are formed in the parts of a scribe region 3 near the respective corners of the one-shot region SA and a TEG 4e is formed in the part of the scribe region 3 at the center of the one-shot region SA.例文帳に追加

露光時の1ショット領域SAにおいて、4つの半導体チップ2a〜2dが照射される場合、1ショット領域SAにおける各々のコーナ部近傍のスクライブエリア3には、TEG4a〜4dがそれぞれ形成され、1ショット領域SAの中心部におけるスクライブエリア3にはTEG4eが形成される。 - 特許庁

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