variation of latitudeとは 意味・読み方・使い方

To provide a heat developable photosensitive material having excellent storage stability, a high maximum density, little fog, a good silver tone and large latitude to variation of environmental humidity conditions, and to provide an image recording method for the material.例文帳に追加

保存性に優れ、最高濃度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好で、かつ環境湿度条件の変動に対する許容度が大きい熱現像感光材料及びその画像記録方法の提供。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material excellent in preservability and having high maximum density, little fog, a good silver tone and considerable latitude to a variation of heat development conditions, and to provide an image recording method for the same.例文帳に追加

保存性に優れ、最高濃度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好であり、かつ熱現像条件の変動に対する許容度の大きい熱現像感光材料、及びそれに対する画像記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material excellent in preservability and having high maximum density, little fog, a good silver tone and considerable latitude to a variation of heat development conditions and to provide an image recording method for the same.例文帳に追加

保存性に優れ、最高濃度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好であり、かつ熱現像条件の変動に対する許容度の大きい熱現像感光材料、及びそれに対する画像記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative-tone development, of which variation of line width (LWR), exposure latitude (EL), and degree of focal margin (DOF) are excellent, in order to more stably form a highly precise fine pattern for manufacturing a highly integrated and highly precise electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition which contains a compound good also in compatibility with other components, can optimally control radiation transmittance particularly as a chemically amplified positive resist effectively sensitive to far-ultraviolet radiation, in particular, can effectively suppress a linewidth change of a resist pattern due to a thickness variation of a resist film on a highly reflecting substrate, and excels also in depth of focus latitude.例文帳に追加

他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁