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wet processesとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 湿式処理
「wet processes」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
the technique of extracting metals through a wet processes, called {hydrometallurgy}発音を聞く 例文帳に追加
湿式精錬という,金属の精錬法 - EDR日英対訳辞書
Vertical nano circuits (100 and 300) are manufactured by such known standard processes as Damascene, wet etching, and reactive etching.例文帳に追加
縦型ナノ回路(100,300)は、Damascene、ウェットエッチング、反応性エッチング等の標準的な既知のプロセスを用いて作製される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a low resistance metal wiring, consisting of only wet-type film forming process with few etching processes.例文帳に追加
湿式成膜プロセスのみから成ってエッチングプロセスが少なく低抵抗な金属配線の製造方法を提供する。 - 特許庁
These formed layers are etched by multistage dry and wet processes to form a high precision integrated circuit.例文帳に追加
形成されたこれらの層は多段階のドライおよびウエット・プロセスの組合せによってエッチされ、高精度な集積回路キャパシタが形成される。 - 特許庁
When implementing the respective processes, the processes are implemented by a wet system of passing the film through a liquid substance in the state of immersing the film therein, and drawing up the film after immersing the film into the washing water while washing the film with washing water.例文帳に追加
各工程を実施する時，フィルムを液状物質に浸漬させた状態で通過させ，洗浄水で洗浄させながら洗浄水に浸漬してから引き出す湿式方法によって実施する。 - 特許庁
To provide a printing device and method for rapidly producing printed images with minimal waste of print media without using wet chemical processes.例文帳に追加
湿式化学処理を用いずに焼付け像を迅速に生成し焼付け媒体の浪費を最小とする焼付け方法と装置を提供する。 - 特許庁
To provide an element isolation film forming method for a semiconductor device, in which two times of wet etching processes are applied to recover damages duet to a CMP process.例文帳に追加
２次に亘るウェットエッチング工程により、ＣＭＰ工程により発生する損傷を回復される半導体素子の素子分離膜形成方法を提供する。 - 特許庁
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「wet processes」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
To provide a semiconductor device in which the reliability of manufacturing processes can be ensured even when wet etching is performed, and bonding strength between a substrate and a chip is enhanced, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
ウェットエッチングを行っても、製造工程の信頼性が確保でき、基板とチップの接合強度を高めた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a wiring board by which a wiring board of high quality can be manufactured at low costs by reducing processes of wet processing to be required for manufacturing the wiring board.例文帳に追加
配線基板の製造に要する湿式加工の工程を削減させ、高品質かつ低コストで配線基板を製造する配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
Since the second wet etching can be performed without forming the fresh photoresist layer, the one member can be worked to the structure having the step with the fewer processes.例文帳に追加
新たなフォトレジスト層を形成することなく第２のエッチングを行うことができるから、少ない工程で、一つの部材を段差のある構造に加工することが可能となる。 - 特許庁
To provide a method for effectively, economically and equally processing an object with one or more types of liquid and particularly, a method capable of performing a plurality of wet processes without moving the object.例文帳に追加
１種以上の溶液で物品を効果的、経済的かつ均一に処理する方法、特に物品を移動させずに複数の湿式処理ができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide an adhesive composition for semiconductors, which excels in package reliability and adhesiveness in the case through severe wet heat conditions and reflow processes even after storage for certain fixed period.例文帳に追加
一定期間保管した後においても、厳しい熱湿条件およびリフロー工程を経た場合のパッケージ信頼性や接着性に優れた半導体用接着剤組成物等を提供する。 - 特許庁
To provide a color display device which is easy to manufacture, achieves high yields, and reduces restrictions in selecting material by mixing a wet process with dry processes, and also to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加
製造が簡単で歩留まりが高く、ドライプロセス以外にウエットプロセスを混在させて材料選定の制限を少なくすることができるカラー表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate drying apparatus capable of easily eliminating pure water and moisture existing on the surface of a substrate after a wet process by way of drying processes, and to provide a substrate drying method utilizing the same.例文帳に追加
湿式工程後に基板表面に存在する純水や湿気を乾燥工程を通じて容易にとり除くことが可能な基板乾燥装置及びこれを利用した基板乾燥方法を提供する。 - 特許庁
The subject water treating system for a manufacturing device of the electronic parts and members possesses a plurality of ultrapure water supplying systems each supplying independent ultrapure water as ultrapure water of an optimum grade to a plurality of wet processes different in purpose in the water treating system for the manufacturing device of the electronic parts and members including a plurality of wet processes different in purpose of using ultrapure water.例文帳に追加
超純水を使用する目的の異なる複数のウェットプロセスを含む電子部品部材類製造装置における水処理システムにおいて、前記目的の異なる複数のウェットプロセスに対し、各々独立して超純水をそれぞれ最適なグレードの超純水として供給する複数の超純水供給系を有することを特徴とする電子部品部材類製造装置用水処理システム。 - 特許庁
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