anodic depositionとは 意味・読み方・使い方

Preferably, the metallic porous body is manufactured by a vapor deposition process, and the oxide film is formed by anodic oxidation process.例文帳に追加

金属多孔質体は、気相法で作製し、酸化膜は、陽極酸化法により形成することが望ましい。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for anodic oxidation surface treatment of an aluminum substrate whereby deposition of metallic copper can be reduced.例文帳に追加

金属銅の付着を低減できるアルミニウム基板の陽極酸化表面処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a minute device capable of preventing deposition of alkaline metal ion on a glass substrate when forming an anodic bond during producing the minute device.例文帳に追加

微小デバイス形成時において陽極接合が行われるときにガラス基板にアルカリ金属イオンが析出することを防止できる微小デバイスを提供すること。 - 特許庁

As a result, an electrostatic attractive force is generated between the movable electrode 4 and the fixed electrode 5 by a voltage applied when the anodic bonding is performed, so that the troubles such as deposition are prevented.例文帳に追加

これにより、陽極接合を行う際に印加電圧によって可動電極４と固定電極５との間に静電吸引力が発生することにより、溶着等の不具合が発生することを防止できる。 - 特許庁

The layer of the electrode active material is formed by an anodic deposition method to produce the multiple oxide which comprises Sn occupying 0.1-3 mol% in cations, Mo and (/or) W occupying 0.2-20 mol% in cations and the balance the oxide of the platinum group metal.例文帳に追加

電極活物質の層は、Ｓｎが陽イオンの０．１〜３モル％、Ｍｏおよび（または）Ｗが陽イオンの０．２〜２０モル％を占め、陽イオンの残部がＭｎからなる複酸化物を、陽極析出法により形成する。 - 特許庁

The electrode is obtained by covering the surface of an electrode base body made from titanium with IrO_2 and forming a multiple oxide comprising Mn-Mo-Sn, Mn-W-Sn or Mn-Mo-W-Sn as cation thereon using an anodic deposition method.例文帳に追加

チタンで製作した電極基体の表面をＩｒＯ_2で被覆し、その上に、陽イオンが、Ｍｎ−Ｍｏ−Ｓｎ、Ｍｎ−Ｗ−ＳｎまたはＭｎ−Ｍｏ−Ｗ−Ｓｎからなる複酸化物を、陽極析出法により生成させてなる電極。 - 特許庁

A bipolar photo-electrochemical process is disclosed for electroless deposition (referred to as photo Bi-OCD) of a metallic compound onto the top surface of a semiconducting substrate whereby differential illumination of the front side of the substrate versus the back side of the substrate provides a driving force to separate the cathodic and anodic partial reactions leading to high yield deposition of the metallic compound.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属化合物を無電解析出（光Ｂｉ−ＯＣＤとよばれる）させるバイポーラ光電気化学プロセスであって、基板の表側と基板の裏側の異なった照度が、カソード反応とアノード反応とを分離する駆動力を形成し、高歩留まりの金属化合物の析出が得られるプロセスが開示されている。 - 特許庁