autorotateとは 意味・読み方・使い方

To provide a fluid jetting apparatus to autorotate and revolve the jetting device by oscillation movement, which prevents the dissipation of droplet from the gap of the jetting device and an influx chamber to store the same.例文帳に追加

噴出体を首振り運動させて自転及び公転させる流体噴出装置において、この噴出体とこれを収納する流入室との間隙から飛沫が飛散することを防止する流体噴出装置を提供する。 - 特許庁

Since the plurality of substrates 10 for the magnetic recording disk autorotate on the substrate holder 300 while forming the film, the deviation of the film thickness of the thin film is not generated in the radial direction of the targets 231, 232 and 233 on the substrates 10 for the magnetic recording disk.例文帳に追加

複数枚の磁気記録ディスク用基板１０は成膜中、基板ホルダ３００上で自転するため、磁気記録ディスク用基板１０では、ターゲット２３１、２３２および２３３の半径方向において薄膜の膜厚に偏りが発生しない。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition apparatus which can make a wafer autorotate freely irrespective of the presence or absence of revolution of a susceptor, and moreover can perform vapor phase growth without influencing the rotation of the wafer even if vapor phase growth conditions change in order to make variation in a film thickness of an epitaxial wafer still smaller than before.例文帳に追加

エピタキシャルウエーハの膜厚のばらつきを従来より更に小さくするために、サセプタの公転の有無に拘らずウエーハを自由に自転させることができ、また気相成長条件が変動してもウエーハの自転に影響を出さずに気相成長を行うことができる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

When performing heating in the state of making four heater surfaces 440 face four substrates 10 for the magnetic recording disk, four heater blocks 410 are rotated around the center position of the surface facing the substrate 10 for the magnetic recording disk of the heating device 400, and each of the four heater blocks 410 is made to autorotate.例文帳に追加

４枚の磁気記録ディスク用基板１０に対して４つのヒータ面４４０を対向させた状態で加熱する際、４つのヒータブロック４１０を加熱装置４００の磁気記録ディスク用基板１０との対向面の中心位置を中心に回転させ、かつ、４つのヒータブロック４１０の各々について自転させる。 - 特許庁

The vessel adaptor can put or put off the disposable vessel 20 or 20B in and from the autorotational and revolutionary container of the autorotation and revolution type agitating or defoam agitating apparatus 10 and can autorotate and revolve the disposable vessel 20 or 20B by inserting an adhesive rubber or synthetic resin molding 30 or 30B into the autorotational and revolutionary vessel.例文帳に追加

自転及び公転方式の撹拌又は脱泡撹拌装置の自転及び公転する容器１０内に、使いすて容器２０又は２０Ｂを入脱できるようにした粘着性ゴム・合成樹脂成形体３０又は３０Ｂを嵌入して使いすて容器２０又は２０Ｂに自転及び公転ができるようにしたもの。 - 特許庁

This polishing device is constituted to make a first dresser 8 and a second dresser 9 on the bottom surfaces of which diamond abrasive grains are fixed respectively, autorotate on a polishing pad 5 so as to reproduce and treat the polishing pad 5 before and after polishing and working a wafer by pushing it on the rotating polishing pad 5 by a polishing head 1.例文帳に追加

回転する研磨パッド５にウェハを研磨ヘッド１で押し付けて研磨加工する前後にて研磨パッド５の再生処理の為、底面にダイヤモンド砥粒が底面に固定された第１ドレッサ８および第２ドレッサ９を研磨パッド５上でそれぞれ自転させ、かつ同時に揺動させる構成である。 - 特許庁

To provide technology capable of finishing a wafer of high flatness without a taper shape, outer peripheral sag, etc. without requiring extensive improvement of a double side polishing device especially even in the case of polishing the wafer by using a hard polishing cloth on the both side polishing device furnished with a carrier not to autorotate but to take a circular motion.例文帳に追加

両面研磨装置、特に、自転しない円運動をするキャリアを備える両面研磨装置において硬質研磨布を用いて研磨を行う場合でも、装置の大きな改良を必要とせず、テーパ形状や外周ダレ等のない高平坦度のウエーハに仕上げることができる技術を提供する。 - 特許庁