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backgateとは 意味・読み方・使い方
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「backgate」を含む例文一覧
該当件数 : 16件
BACKGATE SWITCHING CIRCUIT, CHARGE CONTROL APPARATUS AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
バックゲート切替回路、充電制御装置、電子機器 - 特許庁
Between the drain and the backgate parasitic diode clamps the drain potential to the bias voltage.例文帳に追加
ドレイン−バックゲート間では寄生ダイオードがドレイン電位をバイアス電圧にクランプする。 - 特許庁
The switch comprises an Si-MOSFET6 comprising a drain D, source S, gate G, and backgate BG; a first inductor 28 of which one end is connected to the drain D while the other end is connected to the backgate BG; and a second inductor 29 of which one end is connected to the source S while the other end is connected to the backgate BG.例文帳に追加
ドレインD、ソースS、ゲートG、及びバックゲートBGを有するSi−MOSFET6、一端がドレインDに、他端がバックゲートBGに接続された第1のインダクタ28、及び、一端がソースSに、他端がバックゲートBGに接続された第2のインダクタ29とを備えている。 - 特許庁
Since a bias voltage is applied to the gate and the backgate, the MOSFET (2P) maintains OFF state.例文帳に追加
ゲートとバックゲートとにはバイアス電圧が印加されるので、MOSFET(2P)がオフ状態を維持する。 - 特許庁
Further, a MOS transistor M4 being a short circuit between a gate and a source and connecting a backgate with the source is set to be a backward flow prevention diode circuit 41.例文帳に追加
また、ゲートとソースが短絡され、バックゲートがソースに接続されているMOSトランジスタM4を逆流防止ダイオード回路41としている。 - 特許庁
To improve threshold control performance by a backgate electrode while suppressing deterioration of crystallinity of a semiconductor layer on which a field effect transistor is formed.例文帳に追加
電界効果型トランジスタが形成される半導体層の結晶性の劣化を抑制しつつ、バックゲート電極によるしきい値制御性を向上させる。 - 特許庁
In the semiconductor device, an N-type diffusion layer 6 is formed as a source region so that it is convoluted with a P-type diffusion layer 5 as a backgate region.例文帳に追加
本発明の半導体装置では、バックゲート領域としてのP型の拡散層5と重畳するように、ソース領域としてのN型の拡散層6が形成されている。 - 特許庁
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「backgate」を含む例文一覧
該当件数 : 16件
The MOS transistor 100, 100a, 100b formed on a semiconductor substrate 90, and having a drain region 20 and a backgate region 40 comprising different conductive type diffusion layers 21, 22, 41 and 42 is characterized in that the drain region 20 and the backgate region 40 are arranged adjacent to each other, and have a region with a PN-junction formed on the adjacent surface.例文帳に追加
半導体基板90に形成され、異なる導電型の拡散層21、22、41、42からなるドレイン領域20とバックゲート領域40とを有するMOSトランジスタ100,100a、100bであって、 前記ドレイン領域20と前記バックゲート領域40とが隣接して配置され、隣接面にPN接合が形成された領域を有することを特徴とする。 - 特許庁
A buried oxide film 12 is formed on single crystal semiconductor substrate 11, and a first single crystal semiconductor layer 13 constituting the backgate electrode is formed on the buried oxide film 12.例文帳に追加
単結晶半導体基板11上には埋め込み酸化膜12が形成され、埋め込み酸化膜12上には、バックゲート電極を構成する第1単結晶半導体層13が形成されている。 - 特許庁
Thus, application of a high voltage between the gate and backgate of each of the transistors Pt11-Pt15 can be prevented when the voltage signal EB from the outside is input, irrespective of whether the high operation power source VDE is supplied or not supplied.例文帳に追加
これにより、高電位電源VDEの供給時/非供給時に関わらず、外部からの電圧信号EBの入力時には各トランジスタPt11〜Pt15のゲート−バックゲート間に高電圧が印加されることが防止される - 特許庁
To provide a backgate switching circuit capable of being suitably used for a system in which it is unclear as to which has higher potential among a source or a drain of a field effect transistor, and to provide a charge control apparatus using the same and an electronic device.例文帳に追加
本発明は、電界効果トランジスタのソース・ドレインいずれが高電位となるか不定であるシステムにも好適に用いることが可能なバックゲート切替回路、並びに、これを用いた充電制御装置及び電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁
A selector circuit 53 determines the first/second selection condition under the control of the control signal S50, and selects one out of a B-pad 39 and a node N2 to be connected electrically to a backgate terminal NB of the measuring objective NMOS transistor MT.例文帳に追加
セレクタ回路53は制御信号S50の制御下で第1/第2の選択状態が決定され、Bパッド39及びノードN2のうち、一方を選択して測定対象NMOSトランジスタMTのバックゲート端子NBに電気的に接続する。 - 特許庁
The trigger circuit 8 includes: a PMOS transistor P1 with a gate and a backgate connected to the power source line 4 and a source connected to the thyristor 7; and an NMOS transistor N1 for generating a current in which the current I1 is amplified in response to the current I1 flowing through the PMOS transistor P1.例文帳に追加
トリガ回路8は、ゲート及びバックゲートが電源線4に接続され、ソースがサイリスタ7に接続されたPMOSトランジスタP1と、PMOSトランジスタP1を流れる電流I1に応答して電流I1が増幅された電流を生成するNMOSトランジスタN1とを備えている。 - 特許庁
A diode 44 is formed on a substrate 50, where a semiconductor integrated circuit device having IGBT and NMOS is formed, and the diode 44 is connected between the NMOS source electrode 66 and a backgate electrode 70, and the NMOS source electrode 66 and an emitter electrode 57 of the IGBT in the forward direction.例文帳に追加
IGBTとNMOSとを持つ半導体集積回路装置が形成された基板50上にダイオード44を形成し、NMOSのソース電極66とバックゲート電極70及びIGBTのエミッタ電極57との間に、順方向になるようにダイオード44を接続する。 - 特許庁
The method for radiation monitoring includes: applying a backgate voltage to a radiation monitor, the radiation monitor comprising a field effect transistor (FET); exposing the radiation monitor to radiation; determining a change in a threshold voltage of the radiation monitor; and determining an amount of radiation exposure based on the change in threshold voltage.例文帳に追加
放射線モニタリングのための方法が、電界効果トランジスタ(FET)を含む放射線モニタにバックゲート電圧を印加すること、放射線モニタを放射線に曝露することと、放射線モニタの閾値電圧の変化を求めることと、閾値電圧の変化に基づいて放射線曝露量を求めることとを含む。 - 特許庁
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backgates
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