condition of defectとは 意味・読み方・使い方

Crystal growth is conducted under a condition that the central part of the crystal becomes a defect-free zone, an oxidation inducement stacking defect-formed zone or an infrared scattering defect-formed zone.例文帳に追加

結晶中心部が無欠陥領域、酸化誘起積層欠陥発生領域又は赤外散乱欠陥発生領域となる条件で結晶育成を行う。 - 特許庁

At the time of moving contents from a flash memory 61-1 to a contents database 114, a utilization condition managing program updates a variable seq1, which is stored in the 0th-order defect block of a medium defect list in the flash memory 61-1, into new value seq2.例文帳に追加

フラッシュメモリ６１−１からコンテンツデータベース１１４にコンテンツを移動するとき、利用条件管理プログラムは、フラッシュメモリ６１−１のmedia defect listの０番目のdefect blockに記憶されている変数seq１を、新たな値seq２に更新する。 - 特許庁

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device.例文帳に追加

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。 - 特許庁

To select and apply an optimum defect treatment method to a condition of an individual surface defect occurring in an in-furnace apparatus.例文帳に追加

炉内機器に発生する個々の表面欠陥の状態に対して最適な欠陥処置方法を選択し適用することを可能にする。 - 特許庁

To provide an image defect inspection device, and a defect inspection classification and image defect inspection method, capable of detecting a defect under the optimum defect detecting condition, even when a noise level included in an inspection image depends greatly on the inspection image.例文帳に追加

検査画像に含まれるノイズレベルの検査画像に対する依存性が大きい場合にも、最適な欠陥検出条件で欠陥を検出可能な画像欠陥検査装置、欠陥検査分類、及び画像欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and its device capable of discriminating not only an existence of a defect but also the type of the defect in a surface condition of an inspected article such as a metal member.例文帳に追加

金属部材などの被検物品の表面状態を欠陥の有無のみならずその欠陥の種類まで判別できる検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer and its manufacturing method capable of stably obtaining oxygen deposition without depending on a crystal position and a device process and to provide a method for evaluating the defect area of the silicon wafer whose pulling condition and the defect area are unknown.例文帳に追加

結晶位置やデバイスプロセスに依存せずに安定して酸素析出が得られるシリコンウエーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection condition selection apparatus for a color display device capable of selecting an inspection condition capable of detecting a defect in lighting inspection.例文帳に追加

点灯検査において、欠陥が検出可能な検査条件を選出できるカラー表示デバイスの検査条件選出装置を提供する。 - 特許庁