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chemical vapor deposition methodとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 化学気相析出法
「chemical vapor deposition method」の部分一致の例文検索結果
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PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
プラズマ化学気相堆積装置及びプラズマ化学気相堆積方法 - 特許庁
METHOD FOR VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM COMPOUND BY CHEMICAL VAPOR PHASE METHOD例文帳に追加
化学気相法によるチタン化物の蒸着方法 - 特許庁
Disclosed is a method of forming an oxide film using a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) device.例文帳に追加
プラズマＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)装置を用いて酸化膜を成膜する方法である。 - 特許庁
A diamond-like carbon thin film D is applied onto a sliding face S2 of an outer clutch plate 34b by known methods such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method and an ion vapor deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Ｄを施す。 - 特許庁
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「chemical vapor deposition method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 626件
As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加
蒸着させる方法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）でも化学蒸着法（ＣＶＤ）でもよい。 - 特許庁
METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION WITH THE USE OF HEATING CATALYST BODY, AND APPARATUS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
加熱触媒体を用いた化学気相堆積方法及び化学気相堆積装置 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND HEATING METHOD FOR SUBSTRATE USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
化学気相蒸着装置用サセプタ、化学気相蒸着装置及び化学気相蒸着装置を用いる基板の加熱方法 - 特許庁
FILM FORMING METHOD AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
成膜方法及び化学気相蒸着装置 - 特許庁
METHOD FOR IMPROVING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESSING例文帳に追加
化学的気相堆積処理を改善する方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING COPPER THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
化学蒸着法による銅薄膜の形成方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING METHOD, PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置、プラズマ化学蒸着方法及びプラズマ化学蒸着装置 - 特許庁
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