deflection aberrationとは 意味・読み方・使い方

To correct a deflection chromatic aberration of a primary electron beam by an E×B separator in an electron beam device.例文帳に追加

電子線装置において、Ｅ×Ｂ分離器による一次電子線の偏向色収差を補正する。 - 特許庁

To provide a light beam deflector in which a wavefront aberration is properly corrected corresponding to the direction of the generation of a random wavefront aberration and the quantity of the random wavefront aberration generated due to a factor arising in the manufacturing process of a deflection member.例文帳に追加

偏向部材の製作時の要因で発生するランダムな波面収差の発生方向とランダムな波面収差の量とに対応して、波面収差を適正に補正できる光ビーム偏向器を提供する。 - 特許庁

The E×B separators can work with such intensity as to set the deflection chromatic aberration by the electrostatic deflector 10 nearly equal to the chromatic aberration by the electromagnetic deflector 9.例文帳に追加

Ｅ×Ｂ分離器は、静電偏向器１０による偏向色収差と電磁偏向器９による色収差とをほぼ等しくさせるような強度で動作可能である。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner wherein blur and distortion of an image caused by deflection aberration is suppressed for large deflection amount even when an aperture half angle of electron beam is large.例文帳に追加

電子線の開き半角を大きめにとった場合でも、偏向収差による像のぼけ、歪みを小さく押さえ、大きな偏向量のとれる電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide charged beam equipment which has further improved resolution by a simple structure while suppressing deflection aberration on a sample.例文帳に追加

簡易な構成で試料上での偏向収差を抑制しながら分解能をさらに高めた荷電ビーム装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical deflection device which can reduce the aberration due to the difference in optical path length, by the constitution in which the deflection directions of the light in the optical detection operation are made symmetrical with respect to the incident optical axis and in which the deflection angles agree.例文帳に追加

光偏向動作における光の偏向方向を入射光軸と対称にし、かつ偏向角を一致させるような構成とすることで、光路長差による収差を少なくすることができる光偏向素子を提供する。 - 特許庁

A charged particle beam deflection device D is arranged in front of the aberration correction device C, and it is made possible to change an incident direction of the charged particle beam against a multipole at a first step of the aberration correction device C.例文帳に追加

収差補正装置Ｃの前方に荷電粒子線の偏向器Ｄを設け、収差補正装置Ｃの一段目の多極子に対する荷電粒子線の入射方向を変えることを可能とする。 - 特許庁

To reduce influence of space charge and generation of deflection aberration by reducing optical path length of an electron optical system.例文帳に追加

空間電荷効果の影響を電子光学系の光路長を短くして、空間電荷の影響及び偏向収差の発生を低減する - 特許庁