dhfとは 意味・読み方・使い方

In the cleaning device 2, a natural oxide film on the surface of the wafer is removed by chemical cleaning which can remove the natural oxide film such as DHF and BHF, for example.例文帳に追加

洗浄装置２では、例えば、ＤＨＦやＢＨＦといった自然酸化膜を除去可能な薬液洗浄によって、ウエハ表面の自然酸化膜が除去される。 - 特許庁

The DHF mode ferroelectric liquid crystal is characterized by utilizing a most suitable driving method for the liquid crystal printer and further by providing a driving circuit to restore the alignment condition in the case the alignment condition is deteriorated as an adjunct.例文帳に追加

ＤＨＦ型強誘電性液晶を液晶プリンターに最適な駆動方法を用い、さらに配向状態が劣化した場合に配向状態を回復させるための駆動回路が付設することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing an epitaxial wafer is characterized by having a step of forming impurities regions 18, 22 on a part of a silicon wafer 10, a step of cleaning the silicon wafer 10 with a DHF/HNO_3 solution, and a step of forming a silicon layer 24 on the silicon wafer 10 by an epitaxial growth.例文帳に追加

シリコンウェーハ１０上の一部に不純物領域１８、２２を形成するステップと、シリコンウェーハ１０をＤＨＦ／ＨＮＯ_３溶液で洗浄するステップと、シリコンウェーハ１０上にシリコン層２４をエピタキシャル成長により形成するステップを有することを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁

To provide a liquid crystal printer utilizing a DHF(deformed hulix ferroelectric) mode ferroelectric liquid crystal element as a shutter head, which is provided with functions to shorten its write-in time compared with that for the conventional printers and to restore it to the same excellent alignment condition as the initial condition when deterioration of the alignment condition takes place.例文帳に追加

ＤＨＦ型強誘電性液晶素子をシャッターヘッドとして用いたプリンターにおいて、従来のプリンターに比べて書き込み時間を短縮し、配向状態の劣化が起きた場合でも、再度初期状態と同じ良好な配向状態に戻す機能を有する液晶プリンターを提供する。 - 特許庁

To provide an element isolation film forming method of a semiconductor memory element capable of minimizing the depth of a moat formed on an element isolation film by shortening a cleaning process time using a DHF solution in which processes from trench formation to element isolation film formation take place during the process of forming the element isolation film of the semiconductor memory element.例文帳に追加

本発明は、半導体メモリ素子の素子分離膜形成工程時にトレンチ形成工程から素子分離膜形成工程まで行われる、ＤＨＦ溶液を用いた洗浄工程時間を短縮させて、素子分離膜に形成されるモウトの深さを最小化することが可能な半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁