dissociation mechanismとは 意味・読み方・使い方

To elucidate the mechanism of the dissociation of a ribosome and to provide an effective and safe method of inhibiting the dissociation of the ribosome without using the conventionally known elongation inhibitors as ribosome dissociation inhibitors.例文帳に追加

本発明の課題は、リボソームの解離の機構を明らかにし、従来から知られた伸長阻害剤をリボソーム解離阻害剤を用いずに、有効で安全なリボソームの解離を阻害する方法を提供することにある。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing apparatus includes a processing bath 11 for processing a semiconductor wafer 13 with use of ozone water 12 and an ozone dissociation mechanism for dissociating ozone's in an waste ozone solution discharged from the bath.例文帳に追加

オゾン水を用いて半導体ウェハを処理する処理槽を有する半導体製造装置において、前記処理槽から排出されたオゾン廃液中のオゾンを分解するためのオゾン分解機構を内設する。 - 特許庁

The ozone dissociation mechanism has a means 15 for measuring an ozone concentration of the waste solution discharged from the bath, a means for capturing the waste ozone solution when a measured result of the ozone concentration measuring means is equal to or larger than a predetermined value, and a means for subjecting the waste ozone solution captured by the waste-solution capturing means to a predetermined ozone dissociation operation and discharging it to outside the apparatus.例文帳に追加

このオゾン分解機構は、前記処理槽から排出されたオゾン廃液中のオゾン濃度を測定するオゾン濃度測定手段１５と、前記オゾン濃度測定手段の測定結果が所定値以上のときに前記オゾン廃液を取り込む廃液取り込み手段１６と、前記廃液取り込み手段を介して取り込まれたオゾン廃液に対し、所定のオゾン分解処理を施して装置外へ排出するオゾン分解処理手段２０とを備えた。 - 特許庁

In this plasma processing apparatus 10, the electronic energy distribution of the plasma generated in the plasma generating chamber 12 can be controlled by just moving the operation bar 171 with the moving mechanism 172 in a longitudinal direction to adjust the distance between the high-frequency antenna 16 and the plasma controlling plate 17; therefore, the plasma processing in accordance with the kind of gas molecules to be dissociated or its dissociation energy can be easily performed.例文帳に追加

このプラズマ処理装置１０では、移動機構１７２により操作棒１７１を長手方向に動かし、高周波アンテナ１６とプラズマ制御板１７の間の距離を調整するだけで、プラズマ生成室１２内で生成されたプラズマの電子エネルギー分布を制御することができるため、解離させるガス分子の種類やその解離エネルギーに応じたプラズマ処理を容易に行うことができる。 - 特許庁