eo-Bとは 意味・読み方・使い方

The general formula (1) is HO-(EO)_a-(PO)_b-(EO)_c-H (where, EO: oxyethylene group; PO: oxypropyrene group; a, b, c: integer of one or more).例文帳に追加

ＨＯ−（ＥＯ）_a−（ＰＯ）_b−（ＥＯ）_c−Ｈ …（１）（式中、ＥＯはオキシエチレン基を示すとともにＰＯはオキシプロピレン基を示し、ａ、ｂ及びｃは１以上の整数を示す。） - 特許庁

This disinfectant for regulating mycobacteria is provided by containing (a) a quaternary ammonium salt, (b) a guanidine derivative, (c) a 10-18C alcohol ethoxylate having a 5-7 EO unit, (d) an alkylamine, (e) maleic acid and/or citric acid and (f) an aromatic alcohol.例文帳に追加

a）第四級アンモニウム塩、b）グアニジン誘導体、c）5〜7 EOユニットを有するC10〜C_18-アルコールエトキシラート、d）アルキルアミン、e）マレイン酸および／またはクエン酸、並びに、f）芳香族アルコールからなるミコバクテリウムを制御するための消毒薬。 - 特許庁

The solid bathing agent composition includes following components (A) and (B): (A) 0.1-18 mass% of a polyoxyethylene nonionic surfactant having an average ethylene oxide addition molar number per ethylene oxide chain (EO addition molar number/EO chain number) of ≥30 and ≤300 and (B) 10-99 mass% of inorganic salts.例文帳に追加

次の成分（Ａ）及び（Ｂ）、（Ａ）エチレンオキサイド鎖１本当たりの平均エチレンオキサイド付加モル数（ＥＯ付加モル数／ＥＯ鎖数）が３０以上３００以下のポリオキシエチレン系非イオン性界面活性剤０．１〜１８質量％、（Ｂ）無機塩類１０〜９９質量％を含有する固体状浴用剤組成物。 - 特許庁

The biofilm-controlling agent composition comprises the following components (A) and (B): (A) A compound represented by general formula (1): RO-(EO)_n-H (1) (wherein R is an 8-14C linear or branched alkyl or alkenyl group; EO is an ethyleneoxy group; and n is an integer of 0-3); and (B) An enzyme.例文帳に追加

次の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）：（Ａ）一般式（１） ＲＯ−（ＥＯ）ｎ−Ｈ （１）（式中、Ｒは炭素数８〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは０〜３の整数を示す。）で表される化合物、及び（Ｂ）酵素を含有するバイオフィルム制御剤組成物。 - 特許庁

The detergent composition comprises following (a) to (d): (a) C_nH_2n+1O(EO)_15H (n=12/14 mixture), (b) potassium carbonate, (c) calcium carbonate and (d) bis(2-hydroxyethyl) palm alkylamine.例文帳に追加

下記ａ）〜ｄ）を含有する洗剤組成物：ａ）Ｃ_nＨ_2n+1Ｏ（ＥＯ）_15Ｈ（ｎ＝１２／１４混合物）；ｂ）炭酸カリウム；ｃ）炭酸カルシウム；及びｄ）ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシアルキルアミン。 - 特許庁

A polishing assistant for a silicon wafer consisting of block polyether expressed by the following general formula: HO-(PO)a-(EO)b-(PO)c-H (in the formula, EO expresses an oxyethylene group, and PO expresses an oxypropylene group, and a, b, and c express numbers of one or over), and a polishing agent composition for a silicon wafer including it are provided.例文帳に追加

本発明は、下記の一般式（１） ＨＯ−（ＰＯ）_a−（ＥＯ）_b−（ＰＯ）_c−Ｈ （１） （式中、ＥＯはオキシエチレン基を表わし、ＰＯはオキシプロピレン基を表わし、ａ、ｂ及びｃは１以上の数を表わす。）で表わされるブロック型ポリエーテルからなるシリコンウェハー用研磨助剤及びこれを含むシリコンウェハー用研磨剤組成物を提供する。 - 特許庁

In the general formula [1], R^1 is one or more functional groups selected from alkyl and alkenyl groups having 14-22 carbon atoms; PO is oxypropylene group; EO is oxyethylene group; a is 1 to 50; b is 0 to 10; and the molar ratio of a and b is 80:20 to 100:0.例文帳に追加

Ｒ^１Ｏ−（ＰＯ）_ａ−（ＥＯ）_ｂ−Ｈ 〔１〕（Ｒ_１は炭素数１４〜２２のアルキル基およびアルケニル基からなる群より選ばれた一種または二種以上の官能基であり、ＰＯはオキシプロピレン基であり、ＥＯはオキシエチレン基であり、ａ＝１〜５０、ｂ＝０〜１０、かつａとｂのモル比は、ａ：ｂ＝８０〜１００：２０〜０である。） - 特許庁