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etching characteristicsとは 意味・読み方・使い方
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「etching characteristics」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 316件
To obtain uniform etching characteristics on a wafer in an etching apparatus with magnetic fields.例文帳に追加
有磁場エッチング装置においてウェハ上で均一なエッチング特性を得る。 - 特許庁
In the second etching, etching is carried out under the condition where isotropic etching characteristics are strong, and the etching of the tungsten plug is not carried out so that tungsten residues can be completely removed.例文帳に追加
第2の過エッチングでは等方性エッチング特性が強い条件でエッチングし、タングステンプラグはエッチングされず、タングステン残留物を完全に除去する。 - 特許庁
To provide a method for adjusting the characteristics of etching by switching the processing gases during the etching process.例文帳に追加
エッチング処理中に処理用ガスを切り替えて、エッチングの特性を調節する方法を開示する。 - 特許庁
To realize etching characteristics of a hetero-junction capable of being fined.例文帳に追加
微細化が可能なヘテロ接合のエッチング特性を実現する。 - 特許庁
Plural characteristics are etched in the etching layer through the first and second sets of the characteristics in the etching mask stack.例文帳に追加
エッチングマスクスタック内の第1組の特徴および第2組の特徴を通して、複数の特徴がエッチング層内にエッチングされる。 - 特許庁
To provide a wet etching method of high controllability which takes in-plane distribution of etching characteristics and composition change of etching liquid into account.例文帳に追加
エッチング特性の面内分布やエッチング液の組成変化を考慮した、制御性の高いウエットエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method which can prevent a change in etching characteristics due to a memory effect while maintaining the merits of all-in-one etching.例文帳に追加
オール・イン・ワンエッチングの利点を維持しつつ、メモリーエフェクトによるエッチング特性の変動を回避できるエッチング方法を提供する。 - 特許庁
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「etching characteristics」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 316件
By this setup, etching gas is increased or decreased in flow rate, in accordance with an etching time so as to obtain the required etching characteristics.例文帳に追加
これにより、本発明は、エッチングガスの流量をエッチング時間に従い増減させて所望のエッチング特性を得ることができる。 - 特許庁
To provide a dry etching method and a dry etching system without destroying a membrane and lowering etching characteristics at the time of the dry etching of membranes, such as an EB mask.例文帳に追加
EBマスクなどのメンブレンのドライエッチングの際に、メンブレンを破壊することなく、且つエッチング特性を低下することないドライエッチング方法及びドライエッチング装置を提供すること。 - 特許庁
When the glass base board is subjected to etching under an etching environment in which a 10 mass% concentration of hydrogen fluoride exists and the temperature is 22°C, its etching characteristics give an etching rate of at least 3.7 μm/min.例文帳に追加
前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 - 特許庁
A photochemical etching silicon 1 produced by a photochemical etching method has characteristics of maintaining the polarized state of light.例文帳に追加
フォトケミカルエッチング法で作成したフォトケミカルエッチングシリコン1は、光の偏光状態を保存するという特性を持つ。 - 特許庁
Further, there is not etching damage caused by etching of the epitaxial layer and the GaN-HFET 21 has no variation in characteristics.例文帳に追加
また、上記エピタキシャル層のエッチングによるエッチングダメージがなく、GaN‐HFET21に特性にばらつきが生じない。 - 特許庁
To provide a shadow mask material in which irregular etching at etching of piercing is prevented while maintaining low thermal expansion characteristics.例文帳に追加
低熱膨張特性を維持しつつ、かつエッチング穿孔時の不規則エッチングを防止したシャドウマスク材を提供する。 - 特許庁
To provide an aluminum foil for electrolytic capacitor electrodes which has excellent etching characteristics and reliability and by which electroless etching is made possible.例文帳に追加
エッチング性および信頼性に優れ、無電解エッチングが可能な電解コンデンサ電極用アルミニウム箔を提供する。 - 特許庁
PLASMA SYSTEMS WITH MAGNETIC FILTER DEVICES TO ALTER FILM DEPOSITION/ETCHING CHARACTERISTICS例文帳に追加
膜の堆積/エッチング特性を変えるための磁気フィルタ装置を備えたプラズマ・システム - 特許庁
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