evenness defectsとは 意味・読み方・使い方

To provide a novel abrasive material for the abrasion of glass, quartz bases, ceramic bases, semiconductor bases, bases for memory hard disks, semiconductor devices, etc., which exerts a high abrasion rate and evenness and generates little surface defects such as scratches, etc.例文帳に追加

ガラス、水晶基板、セラミック基板、半導体基板、メモリーハードディスク用基板、半導体デバイス等の研磨において、高い研磨速度と高い平坦性を発揮し、かつスクラッチ等の表面欠陥の発生しにくい新規な研磨材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polyimide film having a higher level of heat resistance, high-frequency adaptability and flexibility, excellent in electric insulation due to reduction in an amount of craters on a surface of the film, defects caused by bubble break and immanent pores, and superior in evenness of mechanical strengths.例文帳に追加

耐熱性、高周波対応、フレキシブル性をより高いレベルで保有しかつフィルムの表面でのクレーターや気泡破裂による欠陥や細孔内在を低減した電気絶縁性等、機械的強度の均一性優れたポリイミドフィルムとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the risk triggered by the handling, especially of a thin wafer, formed of glass at the end of the manufacturing process of a part formed on one side of an electronic component and more specifically, by a thick or stressful treatment which produces defects in the evenness of a wafer surface.例文帳に追加

本発明は、電子部品、及びより具体的には、ウェーハの表面の均一性の欠陥を生じさせる、厚い又はストレス性の処理により片面の上に形成される部品の製造過程の終わりに、とりわけガラスで作られる薄いウェーハの操作により引き起こされるリスクを抑制することを目的とする。 - 特許庁