excimer lasersとは 意味・読み方・使い方

The holes for light transmission are formed by mechanical stamping or multi-beam working with YAG lasers or excimer lasers.例文帳に追加

前記光透過用の孔は、機械的打ち抜き加工や、ＹＡＧレーザまたはエキシマレーザのマルチビーム加工により形成する。 - 特許庁

The photoresist compositions exhibit both acceptable resistance to dry etching processing and light transmittance suitable for use with various light sources such as KrF excimer lasers, ArF excimer lasers or F_2 excimer lasers, in a photolithography process to produce fine photoresist patterns.例文帳に追加

ドライエッチング工程で許容可能な耐性を提供し、微細なフォトレジストパターンを形成するためのフォトリソグラフィ工程において、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、またはＦ_２エキシマーレーザーのように多様な光源の使用に適した光透過度を提供するフォトレジスト組成物。 - 特許庁

An excimer lasers is used to perform processing in which no resin residues are left at the bottom part of the via hole 7.例文帳に追加

エキシマレーザを用いることにより、ビアホール７底部に樹脂残渣のない加工を行なう。 - 特許庁

To facilitate machining of a minute region with a laser beam machine using a plurality of excimer lasers.例文帳に追加

複数のエキシマレーザーを用いたレーザー加工装置において微細領域の加工を容易にする。 - 特許庁

To provide a compound sensitive to radiation such as KrF excimer lasers, extreme ultraviolet rays, electron beams and X-rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition which is superior in transmission of radiation and dry etching resistance and used for far-ultraviolet rays, such as those of KrF and ArF excimer lasers and vacuum ultraviolet rays, such as those of F_2 excimer laser.例文帳に追加

ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線やＦ_2エキシマレーザー等の真空紫外線に対して用いられる、放射線の透過性に優れ、耐ドライエッチング性に優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation light source for use in maskless lithography which has an improved pulse-to-pulse dose reproducibility of excimer lasers, and to provide a lithographic apparatus and a device manufacturing method.例文帳に追加

エキシマ・レーザのパルス−パルス線量再現性を改善したマスクレス・リソグラフのための放射光源、リソグラフ装置及びデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁