excimer laser irradiationとは 意味・読み方・使い方

Then, a polysilicon film 7 is formed by carrying out the excimer laser irradiation, while the film thickness of the a-Si 5 remains fixed.例文帳に追加

ａ−Ｓｉ膜厚５を一定としてエキシマレーザー照射を行いポリシリコン膜７を形成する。 - 特許庁

To reduce the change in the refractive index of an irradiated portion of synthetic quartz glass, caused by the irradiation with a high energy light emitted from a light source such as a KrF excimer laser or an ArF excimer laser.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザなどの光源から発せられる高エネルギー光の照射により発生する合成石英ガラスの照射部の屈折率変化量を低減する。 - 特許庁

During the irradiation of the pieces of the KrF excimer laser light 106, 107, oxygen not exceeding 100 Pa is introduced in the vacuum vessel 112.例文帳に追加

KrＦエキシマレーザー光１０６、１０７の照射時には、真空容器１１２内に100Pa程度の酸素を導入する。 - 特許庁

It is possible to detect with ease the fluence when light is scattered most intensely regardless of the irradiation condition of the excimer laser beam.例文帳に追加

エキシマレーザビームの照射状況に関わらず、光が最も散乱する際のフルエンスを容易に発見できる。 - 特許庁

The irradiation is carried out with ultraviolet rays, an excimer laser beam, an electron beam, an ion beam or their combined beam as the energy beam 2.例文帳に追加

エネルギービームとしては、紫外線、エキシマレーザ、電子ビーム、イオンビームまたはこれらを組合せたビームを照射する。 - 特許庁

In case of the excimer laser, the irradiation energy per pulse is preferably 20 to 180 mJ/cm^2, and the frequency of irradiation pulse is preferably 30 to 1,200 times.例文帳に追加

エキシマレーザの場合、パルス当たりの照射エネルギは２０〜１８０ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、照射パルス回数は３０〜１２００回が好ましい。 - 特許庁

To prevent any peeling of an EL light emitting layer and achieve high luminance by performing annealing by irradiation with an excimer laser beam.例文帳に追加

エキシマレーザ光の照射によるアニール処理によって、ＥＬ発光層を剥離することなく、かつ高い輝度を得る。 - 特許庁

Before forming the cover sheet with a film-shaped resin, a surface modifying treatment is carried out on the inner side of a plane of the case by a method such as irradiation with ultraviolet light, irradiation with plasma, irradiation by an excimer laser or the like.例文帳に追加

フィルム状樹脂によってカバーシートを形成する前に、紫外線の照射、プラズマの照射、エキシマレーザー照射などの方法により、ケースの内側に対して表面改質処理を行なう。 - 特許庁