formation in depthとは 意味・読み方・使い方

To easily construct a structure having high impervious performance even on the ground, in which there is no impervious stratum in fixed depth, in the case of the land formation of the disposal field of waste.例文帳に追加

廃棄物の処分場を造成するに際し、所定の深度に不透水層がない地盤でも遮水性能の高い構造体を容易に築造できるようにする。 - 特許庁

In groove processing, the depth of a groove 18 immediately after groove-processing with the groove formation means 34 is found by first measuring means 35, and data on the groove depth is output to the control means 38.例文帳に追加

溝加工に際して、溝形成手段３４により溝加工を行なった直後の溝１８の深さを、第１計測手段３５により求めて、その溝深さデータを制御手段３８へ出力する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon substrate that enables formation of a region where p/n type inversion occurs, in a range of depth deeper than the conventional case.例文帳に追加

ｐ／ｎ型反転の起きる領域を従来よりより深々度範囲に形成可能とするシリコン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In addition, a plurality of small grooves 37 have an opening width and depth smaller than the score lines 33 are provided in the face part 15 of the body of the head except for the score line formation area 35.例文帳に追加

そして、スコアライン形成領域３５を除く、ヘッド本体のフェース部１５に、スコアライン３３より小さな開口幅と深さを有する複数本の小溝３７を設けた。 - 特許庁

A recessed groove 54 extended vertically straightly and having depth shallower than that of the recessed part 53 is formed in the lateral part on each right and left side in a burner port formation region on the front face of the combustion plate 5.例文帳に追加

燃焼プレート５の前面の炎孔形成領域の左右各側の側部に、上下方向に真直にのびる、凹部５３より深さが浅い凹溝５４を形成する。 - 特許庁

Then, as the formation depth from the first main surface J of the ion implantation layer 4 for peeling becomes small, a dose rate in ion implantation is set small.例文帳に追加

そして、剥離用イオン注入層４の第一主表面Ｊからの形成深さが小さくなるほど、イオン注入のドーズ量を小さく設定する。 - 特許庁

If an MTF exceeds a predetermined threshold all over the image height in focusing, it is assumed as a situation that performance for a focus is satisfied, and a predetermined spot in image-formation depth exceeding the threshold is set as the image-formation position of the CCD 33.例文帳に追加

ピント調整では、全像高に渡って、ＭＴＦが所定の閾値を超えていればピントに対する性能を満足しているものとし、閾値を超える結像深度の所定箇所をＣＣＤ３３の結像位置と設定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.例文帳に追加

種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁