firing baseとは 意味・読み方・使い方

Since the pipes 9, 39 are fixed to the cap 3 and the base 21 by welding, outward inflation of the cap 3 and,the base 21 by gas pressure at firing time can be restrained.例文帳に追加

また、パイプ９、３９をキャップ３とベース２１に溶接で固定するので、発火時のガス圧でキャップ３とベース２１が外に膨れてしまうことを抑制できる。 - 特許庁

The firing bar also includes a thinned tapered base end side part in the form of a strip or a band for facilitating the articulation mechanism.例文帳に追加

発射バーはまた、関節動作機構を容易にするストリップまたはバンドの形態の薄いテーパ状の基端側部分を含む。 - 特許庁

This island was procured by the former Japanese navy for national defense, and also used as a base for firing torpedoes from the Taisho to the Showa period.発音を聞く 例文帳に追加

大正から昭和に掛けては、国防上の要衝として旧海軍に買い上げられ、魚雷発射基地にもなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

As a result, the porous catalyst layer 8 excellent in adhesive strength can be formed easily only by applying a material containing the catalyst component and bismuth oxide to the base material 5 such as stainless steel without pretreating the base material, and firing the base material thus applied at around the melting point.例文帳に追加

このため、触媒層８は、ステンレスなどの基材５に前処理を施すことなく塗布して融点近辺で焼成するだけで、多孔質で密着性に優れた層として簡単に形成することができる。 - 特許庁

The manufacturing method includes a polymerization process for polymerizing methyl trichlorosilane, diaklyl dichlorosilane and bis-trialkyl silyl carbodiimide in the presence of an organic base to obtain polysilyl carbodiimide and a firing process for firing the polysilyl carbodiimide.例文帳に追加

本製造方法は、メチルトリクロロシラン、ジアルキルジクロロシラン及びビストリアルキルシリルカルボジイミドを、有機塩基の存在下に重合してポリシリルカルボジイミドとする重合工程と、このポリシリルカルボジイミドを焼成する焼成工程と、を備える。 - 特許庁

A Bi2212 partially melted layer 4 is formed by applying an oxide superconducting paste 1 having a blending ratio of Bi2212 composition on the base body 3 and after drying and firing, firing at a temperature near the melting point of the paste.例文帳に追加

基体３上に、Ｂｉ２２１２組成の配合比を有する酸化物超電導ペースト１を塗布し、乾燥、焼成の後、当該ペーストの融点近い温度で焼成してＢｉ２２１２部分熔融層４とする。 - 特許庁

The ferroelectric thin film is formed by applying coating of the composition for forming the ferroelectric thin film to a heat- resistant base plate, then calcining and firing.例文帳に追加

この強誘電体薄膜形成用組成物を耐熱性基板に塗布、仮焼し、焼成して強誘電体薄膜を形成する。 - 特許庁

In the method for producing an oxide semiconductor layer, coating of a coating liquid, drying/firing treatment, calender treatment and electromagnetic wave treatment are sequentially performed to a travelling film base material 16.例文帳に追加

走行するフィルム基材１６に対して、塗液の塗布、乾燥・焼成処理、カレンダー処理、電磁波処理が順次行われる。 - 特許庁