gap Dとは 意味・読み方・使い方

This densification operation is conducted by setting an approach angle θ of the protruding portion 11 to 10° to 20° and a sizing gap D-d1 at 0.05 to 0.15 mm.例文帳に追加

この緻密化は、突起部11のアプローチ角θを10°以上20°以下、サイジング代:D-d1を0.05mm以上0.15mm以下として行う。 - 特許庁

The insulation film 10 is disposed so as to form a gap d with the flange part 12.例文帳に追加

絶縁膜１０は、フランジ部１２と間隔ｄを空けて配置されている。 - 特許庁

The piece part 47 can be elastically moved by a minute gap distance (d).例文帳に追加

第１の片部４７が微小な隙間量ｄだけ弾力的に可動する。 - 特許庁

Here, while the cell gap is reduced (from a cell gap G1 to a cell gap G2), the epoxy beads 81 are hardened while accumulating strain inside as an elastic body (figure (d)).例文帳に追加

ここで、エポキシビーズ８１は、セルギャップを小さくしながらも（セルギャップＧ１→セルギャップＧ２）、弾性体として内部に歪を蓄積して硬化する（図５（ｄ））。 - 特許庁

The skirt 12 is separated from the inner periphery part 14 through a gap D at the upper part of the piston forming a piston crown surface 18 and an absorption ring 30 for absorbing the change of the diameter direction width of the piston in the gap D is interposed in this ring shape gap D.例文帳に追加

ピストン冠面１８を形成するピストン上部で、スカート部１２と内周部１４とを間隙Ｄを介して分離し、この環状の間隙Ｄに、該間隙Ｄのピストン径方向幅の変化を吸収する吸収リング３０を介装する。 - 特許庁

Desirably, the size (d) of a circumferential mouthpiece gap and the thickness (t) of the film satisfy the relationship: t<d<20t.例文帳に追加

前記円周状の口金間隙（ｄ）とフィルム厚（ｔ）はｔ＜ｄ＜２０ｔなる関係を満足することが望ましい。 - 特許庁

Moreover, when the thickness of the electrodes 12a and 12b is defined as H and the gap is defined as D, it is satisfied to be 0.1<H/D<1.例文帳に追加

また、電極１２ａ，１２ｂの電極厚みをＨとし、セルギャップをＤとしたときに、０．１＜Ｈ／Ｄ＜１である。 - 特許庁

The method for implanting ions comprises the steps of detecting the gap (d) between each chip region and the mask member 21 each time each chip on the wafer W is aligned with the mask member, and regulating the gap (d) to a prescribed value.例文帳に追加

ウェーハＷ上の各チップ領域をマスク部材２１と位置合わせする毎に、これらの間の間隙ｄを検出し、間隙ｄを所定値へ調整する。 - 特許庁