glow overとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for preventing a glow discharge at a vacuum arc melting time, with which even in the case of using a consumable electrode produced only with an electric furnace, a steel ingot having solidification structure satisfactory over the whole parts can be produced with a VAR process.例文帳に追加

電気炉のみで製造した消耗電極を用いる場合であっても、ＶＡＲ法により凝固組織が全域にわたって良好な鋼塊を製造することができる真空アーク溶解時のグロー放電防止方法を提供する。 - 特許庁

A tip 10 of a center shaft 7 is protruded toward a combustion chamber 4 over a step part 3a on the tip side of a housing, thereby distortion of a heater case 8 of the glow plug due to combustion pressure can be efficiently transmitted to the combustion pressure detection part.例文帳に追加

また、中軸７の先端１０をハウジングの先端側の段部３ａよりも燃焼室４側へ突出させることによって、燃焼圧力によるグロープラグのヒータケース８の歪が効率よく燃焼圧力検出部へ伝わるようにする。 - 特許庁

A deposition gas containing silicon or germanium is introduced from an electrode including a plurality of projecting portions provided in a treatment chamber of a plasma CVD apparatus, glow discharge is caused by supplying high-frequency power, and thereby crystal particles are formed over a substrate, and a microcrystalline semiconductor film is formed over the crystal particles by a plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置の処理室に設けられた複数の凸部を備える電極から、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体を導入し、高周波電力を供給し、グロー放電を発生させて、基板上に結晶粒子を形成し、該結晶粒子上にプラズマＣＶＤ法により微結晶半導体膜を形成する。 - 特許庁

To provide a fluorescent lamp lighting device in which the filament part and vicinity is not over-heated by the glow discharge generated between the filament pins at the time of filament breakage, and the pulse current generated by discharge of electric charge that is charged on the resonance capacitor in one side emitter-less state at the end of life of the lamp.例文帳に追加

フィラメント断線時にフィラメントピン間に発生するグロー放電、及びランプ寿命末期の片エミレス状態時に共振コンデンサに充電された電荷の放電により発生するパルス電流によってフィラメント部近傍が過熱されることのない蛍光灯点灯装置を提供する。 - 特許庁

To form plasma by stable glow discharge or Townsent discharge with high density over a wide range under pressure close to atmospheric pressure to perform highly productive plasma treatment even if an object to be treated is a metallic member with a large area.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で安定したグロー放電またはタウンゼント放電によるプラズマを高密度かつ広範囲に形成し、処理対象が大面積の金属部材であっても、その表面全体を同時に処理可能な生産性の高いプラズマ処理を可能とすること。 - 特許庁

To provide a molding composition which does not ignite with good repeatability (showing no flame over 2 seconds) in IEC60695-2-13GWIT test with various thickness using a glow-wire at a temperature of at least 750°C among a halogen-free flame-retardant thermoplastic polyamide molding composition based on phosphinate-containing flame-retardant.例文帳に追加

ホスフィン酸塩含有難燃剤系をベースとするハロゲンフリーの難燃性熱可塑性ポリアミド成形用組成物であって、温度が少なくとも７５０℃のグローワイヤを用いた様々な肉厚でのＩＥＣ６０６９５−２−１３ＧＷＩＴ試験において再現性よく着火を起こさない（炎が２秒間を超えて見えていない）成形用組成物を提供する。 - 特許庁

Between the end faces of the discharge electrodes 4, glow discharging is triggered through the insulating film 8, which hops over that portion of the insulating film 8 covering the outer surfaces of the discharge electrodes 4, extends in the form of creeping discharge to the parts of the discharge electrodes 4 continued to the outer surfaces, and conducts arc discharging between the base ends of the discharge electrodes 4.例文帳に追加

放電電極４、４の端面間で絶縁膜８を介してグロー放電がトリガされ、この放電は放電電極４、４の外表面を被覆している絶縁膜８の部分を飛び越え、外表面に連続する放電電極４、４の部分に沿面放電の形態で伸展し、放電電極４、４の基端部間でアーク放電することになる。 - 特許庁

After forming a gate insulating film over a gate electrode, in order to improve quality of a microcrystalline semiconductor film formed in an initial stage, glow discharge plasma is generated by supplying high-frequency powers with different frequencies, and a lower part of the film near a gate insulating film interface is formed under a first film formation condition, which is low in film formation rate but results in a good quality film.例文帳に追加

ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成した後、成膜初期に形成される微結晶半導体膜の品質を向上するため、周波数の異なる高周波電力を供給してグロー放電プラズマを生成し、成膜速度は低いが品質のよい第１の成膜条件でゲート絶縁膜界面付近の膜の下部を形成し、その後、高い成膜速度の第２の成膜条件に変えて膜の上部を堆積する。 - 特許庁