hdp-aとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of filling narrow-width high-aspect-ratio gaps by an HDP-VCD process.例文帳に追加

ＨＤＰ−ＣＶＤプロセスによる、幅の狭い高アスペクト比のギャップを充填するための方法を提供する。 - 特許庁

The HDP-NSG film 16 which is flat and has little dispersion in a remaining film is subjected to wet etching, dry etching or CMP in good plane uniformity, and the HDP-NSG film 16 is thinned.例文帳に追加

次に、この平坦でかつ残膜ばらつきの少ないＨＤＰ−ＮＳＧ膜１６に、面内均一性のよい条件でウェットエッチング、ドライエッチングまたはＣＭＰを施し、ＨＤＰ−ＮＳＧ膜１６を薄膜化する。 - 特許庁

A second HDP-CVD oxide film 5 is formed so that a void 6 may be formed in a position lower than the aluminum wiring 2 between aluminum wiring 2, by adjusting the position of a semiconductor substrate placed fixedly with a HDP-CVD device at a substrate supporting stand in the chamber in an up-and-down direction.例文帳に追加

ＨＤＰ−ＣＶＤ装置で基板支持台に載置固定された半導体基板のチャンバー内における位置を上下方向に調節して、Ａｌ配線２間に当該Ａｌ配線２よりも低い位置にボイド６が形成されるように、第２のＨＤＰ−ＣＶＤ酸化膜５を成膜する。 - 特許庁

Secondly, the second HDP oxide film 15 is polished by a CMP until the PL-TEOS oxide film 14 is exposed.例文帳に追加

次に、ＰＬ−ＴＥＯＳ酸化膜１４が露出するまでＣＭＰにより第２ＨＤＰ酸化膜１５を研磨する。 - 特許庁

A low-k dielectric layer is deposited on a protective film forming material layer by, preferably, HDP-CVD.例文帳に追加

低−ｋ誘電体層を好ましくは、高密度プラズマ化学堆積法（ＨＤＰ−ＣＶＤ）により保護膜材料層上に堆積する。 - 特許庁

An HDP-NSG film 16 is further deposited and a fine projection in both sides of a trench is let down, and the surface of the film is flattened.例文帳に追加

次に、再びＨＤＰ−ＮＳＧ膜１６を堆積し、トレンチ両側の微小な突起を落とし、表面が平坦な膜にする。 - 特許庁

A liner oxide film 14 is formed by wet-oxidizing the inside of the groove 13, and the groove 13 is filled with a HDP oxide film 16.例文帳に追加

溝１３内をウェット酸化することによりライナー酸化膜１４を形成し、溝１３内をＨＤＰ酸化膜１６で埋める。 - 特許庁

The compressive stress layer 122 may include a high stress silicon nitride deposited using a high density plasma (HDP) deposition method.例文帳に追加

圧縮応力層１２２は、高密度プラズマ（ＨＤＰ）堆積方法を使用して堆積された高応力窒化珪素を含むことができる。 - 特許庁