in tiとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ペルーの通貨の基本単位
「in ti」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1568件
In addition, for making such a texture distribution as this, a solid solution Ti involves, and it is preferable that when Ti: 0.01-0.1%, and Ti*=(Ti%)-3.4×(N%)-1.5×(S%)-4×(C%), it is included within a range satisfying Ti*>0.007.例文帳に追加
さらに、このような集合組織分布とするには、固溶Tiが関与しており、Ti：0.01〜0.1%、かつ、Ti*=（Ti%）−3.4×（N%）−1.5×（S%）−4×（C%）とする時に、Ti*＞0.007を満たす範囲で含有することが好ましい。 - 特許庁
The molar ratio (M/Ti) of the element M to Ti in the active material satisfies the formula (I): 0<M/Ti≤0.5.例文帳に追加
前記活物質中において、Ｔｉに対する元素Ｍのモル比(M/Ti)は式(I)を満たす。 - 特許庁
Further preferably, Ti alone is incorporated into the aluminum alloy or Ti in combination with 0.0001 to 0.2% B or 0.0001 to 0.2% C is incorporated therein at 0.015 to 0.20% in the concentration of Ti.例文帳に追加
さらにTiを単独で、もしくはB量0.0001〜0.2％あるいはC量0.0001〜0.2％と併用してTi濃度を0.015%〜0.20%含有させると好ましい。 - 特許庁
The molar ratio (Nb/Ti) of Nb to Ti in the niobium-titanium complex oxide satisfies the formula (II): 1≤Nb/Ti≤5.例文帳に追加
また、前記ニオブ−チタン複合酸化物中において、Ｔｉに対するＮｂのモル比(Nb/Ti)は式(II)を満たす。 - 特許庁
Further, 0.03 to 0.20% V and further 0.005 to 0.049% Nb and 0.005 to 0.080% Ti may be incorporated in combination so as to satisfy that Nb+Ti is 0.010 to 0.080% and V+Nb+Ti is 0.04 to 0.20%.例文帳に追加
また、Ｖ：0.03〜0.20％と、さらにNb：0.005〜0.049％およびTi：0.005〜0.080％を、Nb＋Tiで0.010〜0.080％、およびＶ＋Nb＋Tiで0.04〜0.20％を満足するように複合含有してもよい。 - 特許庁
Moreover, Ti carbide and Ti carbon nitride having average particle diameter of 5 to 100 nm are dispersed in a surface and the inside.例文帳に追加
又、表面並びに内部に、平均粒径が５〜１００nmであるTi炭化物及びTi炭窒化物を分散させる。 - 特許庁
The coating film containing Ti and O formed on the surface-treated metal sheet preferably contains Ti in an amount of 3 to 200 mg/m^2.例文帳に追加
本発明の表面処理金属板では、TiおよびOを含む皮膜のTi量が3〜200mg/m^2であることが好ましい。 - 特許庁
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「in ti」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1568件
In the method for activating a Ti-MWW precursor, the Ti-MWW precursor contacts with a carboxylic acid or carboxylate.例文帳に追加
Ti-MWW前駆体をカルボン酸もしくはカルボン酸塩と接触させることを特徴とするTi-MWW前駆体の活性化方法。 - 特許庁
The cemented carbide base material is composed of 5.0-<8.0 wt% of Co, 3.0-8.0 wt% of cubic carbide comprising Ti, Ta and Nb satisfying 0.05-0.3 of ratio Ti/(Ti+Ta+Nb), and WC as residual parts having 1.5-3.5 μm of grain diameter in the sintering condition.例文帳に追加
超硬合金基材は、5.0〜<8.0wt％のCo、Ti/(Ti+Ta+Nb)比率が0.05〜0.3のTi、Ta及びNbの3.0〜8.0wt％の立方晶炭化物、焼結状態で1.5〜3.5μｍ粒径の残部WCの組成を有する。 - 特許庁
In the surface-treated metal sheet, the amount of Zn in the coating film containing Ti and ZnO is 0.1-20 mg/m^2 per one side, and the amount of Ti in the coating film containing Ti and ZnO is 3-200 mg/m^2 per one side.例文帳に追加
本発明の表面処理金属板では、TiおよびZnOを含む皮膜のZn量が片面あたり0.1〜20mg/m^2であること、また、TiおよびZnOを含む皮膜のTi量が片面あたり3〜200mg/m^2であることが好ましい。 - 特許庁
The gate electrode 12 preferably comprises a Ti film 2, an Al film 3, and a Ti film 4 successively laminated in this order on the insulating layer substrate 1 for low resistance.例文帳に追加
ゲート電極(12)は、絶縁性基板側からTi膜(2)、Al膜(3)及びTi膜(4)が積層されていると低抵抗となり好ましい。 - 特許庁
Further, in the composition of the steel sheet, the content of Si is controlled to ≤0.3%, P to ≤0.02%, Ti to 0.01 to 0.5%, and Nb to 0.01 to 0.5%.例文帳に追加
さらに鋼板組成をSi：0.3%以下、P：0.02%以下、Ti：0.01〜0.5%、Nb：0.01〜0.5%とする。 - 特許庁
≥0.0005%, in total, of one or more among Ca and metallic REM; and Al in an amount satisfying relations of %Ti/%Al≥5 or Al≤0.010% and %Ti/%Al<5.例文帳に追加
例えば、極低炭素鋼で、0.001％≦Sb≦0.02％、非酸化物Ti（Ti*）を0.5（C／12）≦（Ti*／48）−（N／14＋S／32）≦3（C／12）かつN≧0.2×Ti*-0.006を満足するように含有し、Ca、金属REMのいずれか１種または2種以上を合計で0.0005％以上、Alを％Ti／％Al≧5またはAl≦0.010％かつ％Ti／％Al＜5を満たす範囲で含有する。 - 特許庁
This steel for thin sheet comprises oxide inclusions in the steel, which contain Ti oxide, Al_2O_3, and CaO as main components, wherein Ti oxide is made to be 1-30%, and CaO/Al_2O_3 to be in a range of 0.4-2.3 by weight ratio.例文帳に追加
鋼中の酸化物系介在物をTi酸化物、Al_2O_3 、CaO が主成分で、Ti酸化物を１〜30％含有し、重量比率でCaO ／Al_2O_3 を0.4 〜2.3 の範囲とする。 - 特許庁
In the same ADRIP device, Pb evaporation amount of a Pb evaporation source, Zr evaporation amount of a Zr evaporation source and Ti evaporation amount of a Ti evaporation source are controlled successively so that the composition ratio Pb/(Zr+Ti) of PbZr_xTi_1-xO_3 is 1.2 or less.例文帳に追加
引き続き、同一ADRIP装置において、Pb蒸発源のPb蒸発量、Zr蒸発源のZr蒸発量及びTi蒸発源のTi蒸発量を制御してPbZr_xTi_1-xO_3の組成比Pb/(Zr+Ti)が1.2以下となるようにする。 - 特許庁
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