mass flow controllersとは 意味・読み方・使い方

The dividing system 10 divides a single gas flow into a plurality of secondary flow paths Q1, Q2 by a prescribed ratio, and includes: (pressure type) mass flow controllers 14, 16 respectively arranged in the secondary flow paths Q1, Q2; and a common controller 12 connected to the (pressure type) mass flow controllers 14, 16.例文帳に追加

分流システム１０は、単一のガス流を複数の二次流路Ｑ１，Ｑ２に所定の比率で分流させるもので、二次流路Ｑ１，Ｑ２にそれぞれ（圧力式）マスフローコントローラ１４，１６と、これらの（圧力式）マスフローコントローラ１４，１６に接続された共通のコントローラ１２とを具えている。 - 特許庁

A reference mass flow controller 70 is arranged in a by-pass loop for receiving a gas flow from one controller among a plurality of mass flow controllers 12 - 18 similarly associated with a plurality of gases.例文帳に追加

基準マス・フロー・コントローラ７０は、同様に複数の供給ガスに関連付けられた複数のマス・フロー・コントローラ１２〜１８の１つからガス・フローを受け取るためにバイパス・ループに配設される。 - 特許庁

The control section 40, using the measurement result, controls the mass flow controllers 12 and 13 of the siloxane gas generator 10.例文帳に追加

制御部４０は、その計測結果を用いて、シロキサンガス発生装置１０のマスフローコントローラ１２、１３を制御する。 - 特許庁

Mass flow controllers 82 and 84 including each flow meter is stored in an air chamber 72 composed of resin films having light transmissivity.例文帳に追加

各々流量計を備えたマスフローコントローラ８２、８４は、透光性を有する樹脂製のフィルムから構成される気室７２内に収納されている。 - 特許庁

During the scan film deposition, using two kinds of gases with different sputtering rates as sputtering gases, the gas flow rates of the two gases are controlled by first and second mass flow controllers 4a, 4b, respectively.例文帳に追加

このスキャン成膜中に、スパッタガスとしてスパッタレートの異なる２種類のガスを用いて、２つのガスのガス流量を第１、第２のマスフローコントローラ４ａ、４ｂによってそれぞれ制御する。 - 特許庁

When an injection amount of the mixed gas is increased, a control section 50 transmits a control signal to a mass flow controller 33 to increase a flow rate of a combustible gas to a target flow rate after the increase, and then transmits a control signal to mass flow controllers 23a, 23b to gradually increase a flow rate of a susceptible gas toward a target flow rate after the increase.例文帳に追加

制御部５０は、混合ガスの噴出量を増加するときには、マスフローコントローラ３３に制御信号を送信して可燃性ガスの流量を増加後の目標流量にまで増加させた後に、マスフローコントローラ２３ａ、２３ｂに制御信号を送信して支燃性ガスの流量を増加後の目標流量に向けて徐々に増加させる。 - 特許庁

When the injection amount of the mixed gas is decreased, the control section 50 transmits a control signal to the mass flow controllers 23a, 23b to gradually decrease the flow rate of the susceptible gas toward a target flow rate after the decrease, and then transmits a control signal to the mass flow controller 33 to decrease the flow rate of the combustible gas to a target flow rate after the decrease.例文帳に追加

制御部５０は、混合ガスの噴出量を減少するときには、マスフローコントローラ２３ａ、２３ｂに制御信号を送信して支燃性ガスの流量を減少後の目標流量に向けて徐々に減少させた後に、マスフローコントローラ３３に制御信号を送信して可燃性ガスの流量を減少後の目標流量にまで減少させる。 - 特許庁

To provide a silicon epitaxial wafer manufacturing device capable of manufacturing silicon epitaxial wafers which are products of high resistivity, stabilizing the resistivity of the wafers, and eliminating the necessity of substituting work of dopant gas bumps or mass flow controllers.例文帳に追加

抵抗率を安定させるとともに、ドーパントガス用ボンベやマスフローコントローラの交換作業を要しない高抵抗率品のシリコンエピタキシャルウェハ製造装置を提供する。 - 特許庁