DE1935318B2 - Zerstörungsfrei auslesbare Speicherzelle mit vier Feldeffekttransistoren - Google Patents
Zerstörungsfrei auslesbare Speicherzelle mit vier FeldeffekttransistorenInfo
- Publication number
- DE1935318B2 DE1935318B2 DE1935318A DE1935318A DE1935318B2 DE 1935318 B2 DE1935318 B2 DE 1935318B2 DE 1935318 A DE1935318 A DE 1935318A DE 1935318 A DE1935318 A DE 1935318A DE 1935318 B2 DE1935318 B2 DE 1935318B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- transistors
- field effect
- memory cell
- diodes
- effect transistors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000015654 memory Effects 0.000 title claims description 49
- 230000005669 field effect Effects 0.000 title claims description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 210000000352 storage cell Anatomy 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000006266 hibernation Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000013642 negative control Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 210000003296 saliva Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/353—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of field-effect transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/356—Bistable circuits
- H03K3/356017—Bistable circuits using additional transistors in the input circuit
- H03K3/356052—Bistable circuits using additional transistors in the input circuit using pass gates
- H03K3/35606—Bistable circuits using additional transistors in the input circuit using pass gates with synchronous operation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/412—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger using field-effect transistors only
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine zerstörungsfrei auslesbare Speicherzelle mit zwei kreuzgekoppelten, eine;
bistabile Kippschaltung bildenden Feldeffekttransistoren und zwei der Ansteuerung dieser Kippschaltung
dienenden Treibertransistoren, und mit einer Nachladeschaltung für die Steuerelektrodenkapazität
der zwei kreuzgekoppelten Feldeffekttransistoren.
Seit der Entdeckung des Prinzips des Feldeffekttransistors (FET) und der Vervollkommung dieser
unipolaren, aktiven Bauelemente wurde eine Reihe von Schaltungen bekannt, die sich zur Informationsspeicherung
dieser Bauelemente bedienen, wobei in den meisten Fällen auf bekannte Grundschaltuncen,
irrt wesentlichen auf bistabile Kippschaltungen, die auch kürzer als Flip-Flop-Schaltungen bezeichnet
werden, zurückgegriffen wurde. Derartige Schaltungen benutzen meistens 6 bis 8 Transistoren in Verbindung
mit weiteren Schaltelementen. Diesen Speicherzellen ist gemeinsam, daß eine große Zahl der
insgesamt verwendeten Transistoren für Hilfsschaltungen benutzt werden, die dafür sorgen, daß im Ruhezustand
die Ladung der Steuerelektrodenkapa/ität der Transistoren der Flip-Flop-Schaltung der Zelle
erhalten bleibt. Die Hilfsschallungen liefern einem über einen hohen Widerstand fließenden Strom, der
zur Kompensation des an den Kapazitäten der Steucrdektroden stets vorhandenen Entladungsstromes be-Ohne
eine solche Maßnahme wurden sich die gers^nntc-n
Kapazitäten in einer endlichen Zeit entladen, und die eingespeicherte Information wäre nicht mehr
eindeutig verfügbar. Ei versteht sich somit von seli-st.
daß die "Aufrochterhaltung dor Ladung der Steuerelektrodenkapazitäten
eine für die Skiherstellung guter Speichereigenschaften sowie eines zerstörungsfreien
Auslesens unabdingbare Voraussetzung darstellt. Da allgemein in der Halbleitertechnik. iru>besondere
jedoch in der Technik der Halbleiterspeicher, das Erfordernis eines platzsparenden Aufbaus mit an
erster Stelle steht, zielt ein großer Teil der Anstrengungen darauf ab. zu diesem Zweck entweder mit einer
kleineren Anzahl von Schaltelementen die gleiche Schaltaufgabe zu lösen oder die Schaltelemente selbst
an sich kleiner auszulegen.
Es wurde bereits verbucht, mittels sehr hochohmiger FET- und Widerstandsanordnungen das Problem
der Ladungs- bzw. Informationserhaltung zu lösen
ao Wie sich z.B. aus dem Aufsatz von J. A. Reichmann
in Scientific American, Juli 1967, Seite 27 und 28, ergibt, ist dort eine aus vier FETs bestehende
J Speicherzelle offenbart, bei der weitere sechs FETs für die Ansteuerung benötigt werden. In einem Aufsatz
von John D. Schmidt aus »Solid-State Design«,
Januar 1965, Seite 21 bis 25, ist eine Speicherzelle mit sechs FETs (onne Ansteuerung) bekanntgeworden,
bei der zwei FETs mit niedriger Leitfähigkeit als Lastwiderstände (V40 der Leitfähigkeit der
Haupt-FETs) geschaltet und benutzt. Man hat auch schon spezielle Nachladeschaltungen vorgesehen, wie
sie beispielsweise in den deutschen Offenlegungsschriften 1 816 356 und 1 817 510 vorgeschlagen sind.
Bei den dort beschriebenen Speicherzellen erfolgt die Nachladung der Steuerelektrodenkapazität impulsförmig
von einer besonderen Impulsquelle aus. FET-Speicherzellen mit hohen Lastwiderständen, die nur
in Hybridtechnik vernünftig darstellbar sind oder aber mit als Dioden geschalteten FETs als Ersatz für diese
«o Widerstände, haben immer noch sehr hohe Leistungsverluste, die bei einer aus über 1000 oder 2000 FETs
autgebauten Speicherschaltung zu untragbaren Verhältnissen führen würde. Insbesondere sind aber die
aus den beiden Offenlegungsschriften bekannten Speicherzellen insofern noch ungünstig, da sie für die
impulsförmige Nachladung zusätzliche Schaltelemente benötigen. Die Verwendung von hochohmigen
FET's oder Widerstandsanordnungen ist außerdem ungünstig wegen der nicht mehr leicht zu beherrsehenden
Streuung der Betriebsparameter und der Toleranzen bei der Massenfertigung.
Die in den alteren Offenlegungsschriften 1 816 356
und !817 510 offenbarten Speicherzellen benutzen komplementäre, unipolare aktive Elemente, nämlich
komplementäre Feldeffekttransistoren. Bei der Verwirklichung solcher Schaltungen mit komplementären
Transistoren ist es jedoch erforderlich, daß bei der Herstellung der monolithischen Schaltungen zwei zusätzliche
Diffusionsschritte durchgeführt werden müssen, mit all den hierzu zusätzlich nötigen Maskicrungs-,
Ätz- und sonstigen Problemen.
Ferner ist in diesem Zusammenhang noch zu erwähnen, daß auch bereits Speicherzellen mit nur vier
Feldeffekttransistoren bekanntgeworden sind. So beschreibt z.B. IBM Technical Disclosure Bulletin,
Band 8, Nr. 12 vom Mai 1966 auf den Seiten 1838, 1839 eine Speicherzelle mit zwei kreuzgekoppelten
Feldeffekttransistoren, die über hohe Lastwider-
ί 935 318
stände an eine Spuiinungsqudle angeschlossen sind.
Die Ansteuerung erfolgt übei zwei weitere Feldeffekttransistoren,
die so angeschlossen sind, daß die beiden hochohrnigen Widerstände die Schaltzeit der
/lelic nicht beeinflussen. Das der Eifindung zugrunde
liegende Problem ist in dieser Veröffentlichung nicht angesprochen. Weiterhin ist aus IBM Technical Disclosure
Bulletin, Band H)1Nr. 1 vom Juni 1967, Seiten 85 und 86, eine aus vier Feldeffekttransistoren bestehende
Speicherzelle bekanntgeworden, wobei die eigentliche Speicherzelle aus zwei kreuzgekoppelten
Feldeffekttransistoren besteht und die Lastwiderstände aus als in Durchlaßrichtung gepolte Dioden geschaltete
Feldeffekttransistoren bestehen. Selbstverständlich könnten diese Dioden durch einen hochohmigen
Widerstand wie in der vorhergegangenen Veröffentlichung ersetzt werden. Bei dieser zweiten
bekannten Schaltung erfolgt die Ansteuerung durch Schreib- oder Leseimpulse mit gleicher Polung, die
»ich nur durch ihre Amplitude und ihre zeitliche Dauer unterscheiden. Auch in dieser Schaltung ist das der
Erfindung zugrunde liegende Problem der Nachladung der Steuerelektrodenkapazität nicht erwähnt.
Da für eine impulsmäßig betriebene Nachladeschaltung einerseits ein beträchtlicher Schaltungsaufwand
erforderlich ist, da außerdem bei Verwendung von komplementären Feldeffekttransistoren fertigungstechnische
Schwierigkeiten auftreten, wenn etwa 1000 oder 2000 aktive Schaltelemente auf einem
Halbleiterplättchen aufgebracht werden sollen und wenn die hohen Leistungsverluste im Ruhestand vermieden
werden sollen, wie sie in den bekannten, zum Stande der Technik erwähnten Schaltungen noch vorkommen,
muß man andere Wege gehen.
Der vorliegenden Erfindung liegt also die Aufgabe zugrunde, eine Schaltung für eine zerstörungsfrei aus lesbare
monolithische Speicherzelle mit Feldeffekttransistoren (FET) anzugeben, bei der die Steuerelektrodenkapazität
automatisch nachgeladen wird und zu deren Herstellung lediglich ein zusätzlicher Diffusionsschritt
erforderlich ist, und die dabei insbesondere nur eine minimale Anzahl von unipolaren Transistoren
benötigt. Die Zelle soll im Ruhezustand lediglich einen gelingen Energieverbrauch aufweisen,
und sie soll sich nicht zu schwierig in großen Stückzahlen auf einem Halbleiterplättchen herstellen lassen.
Dies wird gemäß der vorliegenden Erfindung dadurch erreicht, daß die eine oistabile Kippschaltung bilden
den Feldeffekttransistoren bezüglich ihrer Senkenelektroden mit je einer, in Sperrichtung angeordneten,
als Arbeitswiderstand wirkenden Diode in Reihe geschaltet sind, und daß die bei vorgegebener Spannung
fließenden Leckstrome dieser Dioden wesentlich höher, vorzugsweise doppelt so hoch gewählt sind wie
die Leckströme der als Dioden wirkenden Senken-Substratübergänge der beiden zugehörigen Transistoren
und daß die Betriebsspannungen so gewählt sind, daß sich der die Dioden durchfließende Strom etwa
Iu gleichen Teilen über den als Diode wirkenden Senken-Substratübergang
und den als Diode wirkenden Senken-Substratübergang des zugehörigen Treibertransistors
aufteilt. Von besonderem Vorteil ist es, wenn die Einstellung des gewünschten Leckstromverhiiltnisses
durch unte1 schiedliche Dotierung und/oder
ieometrische Abmessungen der den nichtlinearen pannungsteiler bildenden Dioden erzielt ist. Vorteilliaftcrwcise
wählt man dabei die Arbeitsteilheit der «lic bistahüe Kippschaltung bildenden Transistoren zu
etwa 2 mA/'V und diejenige der Treibertransistoren 7uetvva 1 m.A/V. Daraus ergeben sich im wesentlichen
drei Vorteile.
1. Infolge der extrem niedrigen Leckströme wird der Leistungsverbrauch der Speicherzelle im
Ruhezustand auf einem minimalen Wert gehalten.
2. Infolge der dauernden Nachladung der Steuerelcktrodenkapazität
des im eingeschalteten Zustand befindlichen Transistors bleibt die eingespeicherte
Information über beliebig iang dauernde Ruhezustände erhalten.
3. Die über den nichtlinearen Spannungsteiler bestehend
aus der Lastdiode und aus der dem Quellen-Substrat-Übergang des Transistors entsprechenden
Diode-erfolgende Nachladung der Steuerelektrodenkapazität ermöglicht die Abnahme
stärkerer Steuerimpulse für den Lesuvorgang, ohne daß eine Zerstörung der Information
ao durch den Lesevorgang a.a befürchten wäre.
Die Erfindung wird an Hand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Zeichnungen näher
beschrieben. Dabei zeigt
Fig. IA Die Prinzipschaltung einer Speicherzelle
a5 gemäß der Erfindung,
Fig. IB einen Teilbereich der Schaltung von Fig. IA zur Erläuterung des Verlaufs der Leckströme
und der zugehörigen Sparmungsabfälle im Ruhezustand der Speicherzelle,
Fig. IC eine Darstellung der Strom-Spannungs-Uennlinien
einer in Sperrichtung betriebenen, als Lastwiderstand arbeitenden Diode und eines ebenfalls
in Sperrichtung vorgespannten PN-Überganges eines auf diese Lastdiode arbeitenden Feldeffekttransistors
(FET),
Fig. 2 ein Impulsdiagramm zur Erläuterung der
Arbeitsweise der Schaltung,
Fig. 3 eine Speichermatrix, die aus einer größeren
Anzahl von Speicherzellen nach Fig. 1 aufgebaut ist. Die Gesamtanordnung der Speicherzelle ist in
Fig. IA mit 1 bezeichnet. Die Schaltung der Zelle enthält vier Feldeffekttransistoren (FET), die in der
sogenannten Anreicherungsbetriebsart betrieben werden. Die beiden, möglichst die gleichen Betriebseigenschaften
aufweisenden Feldeffekttransistoren (FET) 2 und 3 liegen mit ihren z. B. P-Ieitenden Quellenelektroden
gemeinsam an Erdpotential, die N-!eitenden
Kanal- oder Substratzonen 6 und 7 der Feldeffekttransistoren (FET) 2 und 3 sind an ein mit Kw;),
bezeichnetes Potential angeschlossen. Beide Transistoren 2 und 3 sind kreuzgekoppelt, wobei die Senkenelektrode
jedes der Feldeffekttransistoren (FET) mit der Steuer- oder Torelektrode des jeweils anderen
Feldeffekttransistors gekoppelt ist, wobei die Knoten-5;
punkte A und B entstehen. Diese Krcuzkopplung ist typisch für Kippschaltungen.
Die als Treiber arbeitenden Feldeffekttransistorer (FET) 12 und 13 dienen zum Einschreiben bzw. zun
Auslesen der Information in die bzw. aus der Spei chcrzelle. Die Feldeffekttransistoren (FET) J2 vine
13 sind im wesentlichen mit den Feldeffekttransisto
ren (FET) 2 und 3 gleichartig. Jedoch wählt man di< Steilheit der kreuzgekoppelten Feldeffekttransistorei
(FET) 2, 3 größer als die der Treibertransi -toren 12 13. Hierdurch erreicht man einen ungleichmäßigei
Spannungsabfall über Treiber- und Flip-Flop-Transi stören während des Auslescvorgangcs.
Durch diese Maßnahme sorgt man für eine mög
liehst niedrige Spannungsschwankung an den Knotenpunkten
A oder B, so daß die Gefahr der unerwünschten Umschaltung der Flip-Flop-Schaltung
durch Störimpulse klein gehalten ist.
In Fig. IA sind die Senkenelektroden 8, 10 der
Transistoren 2,3 mit den Dioden Dl, D2 verbunden; beide Dioden liegen an einer gemeinsamen Spannungsquelle,
die mit — V bezeichnet ist. Die Polarität der Dioden Dl, Dl ist so gewählt, daß die Dioden
in Spcrrichtung vorgespannt sind, wobei in diesem Falle lediglich Leckströme fließen können. Bei der
Auslegung einer dieser Schaltung entsprechenden integrierten Schaltung können die Dioden Dl, D2 meist
als PN-Übergänge in das Substrat im gleichen Arbeitsgang eindiffundiert werden, in dem die PN-Ubergange
der Transistoren 2 und 3 erzeugt werden. In manchen Fällen kann es jedoch für die Gcsamtauslegung
nützlich sein, zur Erzeugung dieser Dioden einen weiteren Diffusionsschritt vorzusehen.
Wie aus der Fig. IA hervorgeht, sind die Quellenelektroden
14, 15 der Treibertransistoren 12, 13 mit den Knotenpunkten A, B verbunden. Die Senkenelektroden
16, 17 der Transistoren 12, 13 liegen an den Bitleitungen 18,19, die ihrerseits zu den Impulsquellen
20, 21 führen, die Spannungsimpulse für die Umschaltung der Transistoren 2, 3 der Flip-Flop-Schaltung
von einem Zustand in den anderen liefern. Die Bitleitung 19 führt über den Schalter 22 an die
Impulsquelle 21, der während eines Lesezyklus den Leseverstärker 23 an die Bitleitung anlegt. Dieser hat
die Aufgabe, einen Stromfluß durch den Feldeffekttransistor (FET) 3 nach Erdpotential festzustellen,
sofern dieser Transistor 3 eingeschaltet ist. Zu allen anderen Zeiten ist die Bitleitung 19 über den Schalter
22 mit der Impulsquelle 21 verbunden.
Die Steuerelektroden 24, 25 der als Treiber arbeitenden Feldeffekttransistoren (FET) 12, 13 sind über
die Leitung 26 mit der Impulsquelle 27 verbunden, während die Substrate 28, 29 der Treibertransistoren
12, 13 an einer Substratspannung liegen, die mit V!ub
bezeichnet ist. An der gleichen Spannung Hegen ebenfalls die Substrate 6, 7 der Transistoren 2, 3.
Leitet einer der Feldeffekttransistoren (FET) 3, so wird eine als gestrichelter Kondensator 30 eingezeichnete
Kapazität zwischen Steuerelektrode und der Quellenelektrode des Transistors 3 eine bestimmte
Ladung enthalten.
Damit die gespeicherte Information nicht durch Leckströme verloren geht, oder anders ausgedrückt,
damit eine unerwünschte Umschaltung des Flip-Flops vermieden wird, muß dafür gesorgt werden, daß die
in der Steuerelektrodenkapazität enthaltene Ladung und damit das an der Steuerelektrode liegende Potential
erhalten bleibt.
Zum Einschreiben und Auslesen der Information aus bzw. in die Speicherzelle 1 der Fig. IA dienen
Impulszüge, wie sie in F i g. 2 für einen Lese- und für
einen Schreibzyklus dargestellt sind.
Es sei angenommen, daß der Transistor 2 leitet und gesperrt werden soll.
Die Umschaltung der Speicherzelle 1 wird durch eine Schreiboperation bewirkt. Durch einen positiven
' Spannungsimpuls auf einer der Bitleitungen 18, 19 und durch gleichzeitiges Anlegen eines Impulses über
die Wortleitung 26 wird die Umschaltung eingeleitet. Dieser Impuls wird von der Impulsquelle 27 an die
Steuerelektroden 24 und 25 der Treibertransistoren 12, 13 angelegt.
Weil Transistor 2 leitet, liegt an der Steuerelektrode 9 des Transistors 3 eine Spannung von etwa
0 Volt, so daß der Transistor 3 gesperrt bleibt. Um den Transistor 2 zu sperren und den Transistor 3 leitend
zu machen, werden die in der Fig. 2 gezeigten Impulse der Speicherzelle 1 zugeführt, und zwar über die
Wortlcitung 26 und über die Bitleitungen 18. 19. PNP-Feldeffckttransistoren (FET) der in Fig. 1 A
benutzten Art können dadurch entsperrt werden, daß eine Spannung an die Steuerelektrode gelegt wird,
welche stärker negativ als das Potential der Quellenelektrode des Transistors ist.
Somit liefert die Impulsquelle 27 über die Wortleitung 26 eine negative Spannung von etwa — Vw an
die Steuerelektroden 24, 25 der Treibertransistoren 12, 13. Dieser Impuls ist in Fig. 2 mit 31 bezeichnet
und bewirkt den Übergang der Treibertransistoren 12. 13 in den leitenden Zustand. Gleichzeitig mit dem
Anlegen des Wortimpulses liefert auch die Impuls-
ao quelle 21 einen Spannungsimpuls 32 über die Bitleitung
19 sowie über den Transistor 13 an den Knotenpunkt B der Speicherzelle 1. Die an den Knotenpunkt
gelegte Spannung entspricht dem Erdpoiential. In der Zwischenzeit liefert die Impulsquelle 20 keinen Im-
»5 puls, während eine unter 33 in Fig. 2 gezeigte Spannung
— V über die Bitleitung 18 und den Transistor 12 und damit an den Knotenpunkt A der Speicherzelle
1 gelangt. Insgesamt wird so ein negatives Potential — Kam Knotenpunkt A erscheinen, während der
Knotenpunkt B im wesentlichen auf Null-Potential verbleibt. Das am Knotenpunkt A liegende negative
Potential wird ebenfalls an dei Torelektrode oder Steuerelektrode 9 des Transistors 3 wirksam, wodurch
dieser Transistor eingeschaltet wird. Das Erdpotential am Knotenpunkt B wird gleichzeitig wirksam
an der Steuerelektrode 11 des Transistors 2, wodurch dieser gesperrt wird. Die Zustände der beiden
kreuzgekoppelten Feldeffekttransistoren (FET) 2, 3 haben so ihre Rolle unter der Wirkung
geeigneter, an die Knotenpunkte A, B angelegter Spannungen vertauscht, wobei gleichzeitig eine Aufladung
der Steuerelektrodenkapazität 30 auf eine Spannung erfolgte, welche derjenigen an dem Knotenpunkt
A entspricht.
♦5 Zur Feststellung des Zustandes der Speicherzelle 1
ist ein Lesevorgang durchzuführen. Zu diesem Zweck wird lediglich aus der Impulsquelle 27 ein negativer
Impuls auf die Wortleitung 26 gegeben.
Dieser bei 34 in F i g. 2 gezeigte Impuls schaltet die Treibertransistoren 12,13 ein, so daß ein Strom übei
den leitenden Flip-Flop-Transistor 3, den Treiber transistor 13 sowie über die Bitleitung 19 fließt. Diesci
in Fi g. 2 unter 35 dargestellte Stromimpuls wird mit tels des Leseverstärkers 23 abgefühlt, der mit der Bit
leitung 19 über den Schalter 22 verbunden ist. Di< Umschaltung des Treibertransistors 12 durch den im
puls 34 in den leitenden Zustand läßt eine Spannua — V, wie sie bei 33 in Fi g. 2 gezeigt ist, an dem Kno
tenpunkt A und damit gleichzeitig an der Steuerelek trode 9 des Transistors 3 wirksam werden, wobei di
Ladung der Steuerelektrodenkapazität 30 auf eine höchstmöglichen Wert gebracht wird. Es handelt sie
daher bei dem Auslesevorgang um eine zerstörung; freie Auslesung, d. h., eine Beeinträchtigung des Spe
cherinhalts erfolgt durch die Auslesung nicht.
Eine Umschaltung des Feldeffekttransisto
(FET) 2 zurück in den leitenden Zustand wird im w< sentlichen in der gleichen Weise bewirkt, wie dies i
Vorstehenden im Zusammenhang mit der Umschaltung des Feldeffekttransistors (FEiT) 3 in den leitenden
Zustand beschrieben wurde. Die einzige Ausnahme
bestellt darin, daß der Schaltimpuls aus der Impulsquelle 20 über die Bitlcilung 18 an den Knoten^nkt
A und infolgedessen auch an die Steuerelektrode 9 des Feldeffekttransistors (FET) 3 angelegt
wird. Für diese Umschaltung werden die Impulse 36 und 37 in Fig. 2 von den Impulsqiiellen 27 und
20 geliefert.
Bezüglich F i g. 2 ist zu ergänzen, daß die Spannungen,
welche an jede der Bitleitungen 18, 19 angelegt werden, während des eigentlichen Schaltvorganges
auf den erforderlichen Spatinungspcgein gehalten werden, und zwar geschieht dies längere Zeit, als das »5
Spannungsniveau der Wortleitung 26 auf konstantern Wert gehalten wird. Hiermit wird erreicht, daß die
Steuerelektroden 9, 11 der Transistoren 3. 2 mit Sicherheit
keiner Spannungsänderung ausgesetzt sind, bevor die Feldeffekttransistoren (FET) 12, 13 infolge '"
spannungsloser Wortleitung 26 ausgeschaltet sind.
Wie bereits erwähnt, kommt der Erhaltung der elektrischen Ladung der Stcuerelektrodcnkapazität
desjenigen Flip-Flop-Transistors, der gerade leitend ist, eine wesentliche Bedeutung zu. Insbesondere muß 2S
dafür gesorgt werden, daß während des Ruhezustände«
der Speicherzustand der Speicherzelle aufrechterhalten bleibt. Wie ebenfalls bereits erwähnt, sollten
beim Lesevorgang Spannungen angewendet werden, die eine Aufrechterhaltung der Ladung der Steuer- 3»
elektrodenkapazität des leitenden Transistors sichersteilen,
ts ist jedoch klar, aaß Fälle auftreten können,
in denen ein Lesevorgang durchgeführt werden soll, nachdem die in der Steuerelektrodenkapazität gespeicherte
Ladung bereits durcii Leckströme abgeflossen ist. Um derartigen Schwierigkeiten zu beg?anen. svird
die Ladung - dem Stande der Technik entsprechend - konstant gehalten, indem man zusätzlich Feldeffekttransistoren (FET) in die Schaltungsfunktion einbezieht.
Hierdurch ergeben sich jedoch naturgemäß beträchtliche zusätzliche Ströme und ein höherer
Energieverbrauch.
Die Schaltung gemäß der vorliegenden Erfindung benötigt keinerlei zusätzliche aktive Schaltelemente,
da. wie im folgenden an Hand der Fig. i B gezeigt wird, durch eine besondere Dimensionierung der
Leckströme in den Lastdioden und in den Senken-Substrat-Übergängen der Flip-Flop-Transistoren eine
Konstanthaltung der Ladung der Steuerelektrodenkapazitäten
erzielt werden kann.
Fig. IB zeigt schematisch den Flip-Flop-Transistor
3, den Treibertransistor 13 und die Lastdiode Dl, wobei diejenigen PN-Übergänge, die aus FET-Transistoren
bestehen, hier als Dioden dargestellt sind. Es sei nun angenommen, daß der Transistor 3 sich im
nichtleitenden Zustand befindet und daß gerade ein Schreibzyklus abgeschlossen ist, bei dem eine Spannung
— V an der Steuerelektrode 11 des leitenden
Transistors 2 angelegen hat. In Fig. 1 B ist diese Spannung mit — Vn bezeichnet. Die Lastdiode Dl
ist in Fig. 1 B in gleicher Weise wie in der Fig. IA
dargestellt. Dagegen ist der Flip-Flop-Transistor 3 in die Dioden a, b und der Treibertransistor 13 in die
Dioden c. d aufgeteilt, wobei die Transistordioden geaensinnig gepolt sind. Das Substrat 7 des Transi- «5
stors 3 wird auf einem Potential Vsub gehallen, das positiv
sein soll. Diese in Fig. IB herausgezeichnete Teilschaltung stellt nun im wesentlichen ei.ie SerienschalHing
dar. die aus der Sparmungsquelle — V. aus der in Sperrichtung vorgespannten Diode Dl. aus der
in Sperrichtung vorgespannten Diode a, aus dem Substrat 7 sowie aus der die Spannung K111,, liefernden
Substratspannungsquellc bestellt. Der über diese Schaltelemente fließende Strom ist natürlich ein
Leckstrom, dessen Wert durch die Leckwiderstände der in Sperrichtung vorgespannter·. Dioden Dl und
α festgelegt wird. Da es erwünscht ist, die Spannung
— K11 auf einem definierten festen Niveau zu halten,
und da die Gesamtspannung — K über den obengenannten Serienweg nach Maßgabe der Einzelwiderslände
der in Sperrichtung vorgespannten Dioden D und α abfällt, besteht die Möglichkeit, die von den
Diodenstrecken bewirkte Sparinungsteilung so einzurichten, daß die Gesamtspannung — V im wesentli
chen über der Diode α abfällt. Hierzu wird der Leckstrom
der Diode α so gewählt, daß er wesentlich niedriger liegt als der Leckst.rom der Diode Dl. Diescr
Abgleich der Leckströme kann während der Herstellung der integrierten Schaltung durch Wahl des
Flächenbereiches der PN-Übergänge oder durch Steuerung des Doticrungsniveaus während der Diffusion
vorgenommen werden. Der Gesamtstrom durch die oben angegebene Serienschaltung wird dann fast
ausschließlich durch den Leckstrom der Diode α festgelegt. Die Strom-Spannungscharakteristik der Diode
Dl sollte so beschaffen sein, daß bei einem durch die Diode α festgelegten Stromweri nur ein sehr kleiner
Anteil der Spannung über der Diode Dl abfällt, oder mit anderen Worten, daß fast die gesamte Spannung
— K über der Diode α abfällt. Für praktische Zwecke
sollte der Strom durch die Diode Dl etwa doppelt so groß sein wie der durch die Diode α fließende
Strom, da ein gleicher Leckstromweg parallel zur Diode α durch den in Spexrichtung vorgespannten
PN-Übergang c des Treibertransistors 13 gegeben ist. Dieser Stromweg setzt sich fort durch das Substrat
29 und verläuft weiter zur Stromquelle Vsuh. Durch
diese Bedingung für die Stromverzweigung und die Spannungsteilung am Knotenpunkt B erhält man an
diesem Punkt im Ruhezustand eine Spannung, welche einen konstanten Ladungszustand der Steuerelektrodenkapazität
sicherstellt.
Fig. IC zeigt typische Verläufe von Spannungs-Stromkennlinien
von Dioden, wie sie sich für die Dioden D1, α und c in Verbindung mit der Schaltung
nach Fig. IA eignen. Die mit Diode α bezeichnete
Kurve stellt einen Strom dar, der im wesentlichen füi einen Spannungsbereich, der nicht in unmittelbare!
Nähe des Nullpunkts verläuft, von der Spannung unabhängig ist. Die Kennlinie, die die Bezeichnung
Lastdiode Dl trägt, weist ebenfalls einen im wesentlichen unabhängig von der Spannung verlaufenden Bereich
auf. wenn man von einem kleinen Anlaufbereich absieht. Die an zweiter Stelle genannte Diodenkennli
nie ist bezüglich der Spannungsachse in umgekehrte! Richtung aufgetragen, um so einen Schnittpunkt zwi
sehen dem Anlaufbereich der Kennlinie der Diode D und dem geradlinigen Bereich der Diode α und dami
eine günstigere Darstellung für die Spannungsverhält nisse zu bekommen.
Da der Strom la entsprechend dem Verlauf dei Kennlinie der Diode α viel geringer ist als der vor
der Diode Dl erreichbare Strom, so ist der Span nungsabfall - K32 über der Diode Dl sehr klein in
Vergleich mit der abfallenden Gesamtspannung — V Der Spannungsabfall über der Diode α ist in Fi g. IC
1 935 310
ίο
mit - V11 bezeichnet. Dieser Wert ist im wesentlichen
gleich - V. Infolgedessen steht an der Stcuerelektrodenkapazitat des jeweils eingeschalteten Flip-Flop-Transistors
wahrend des Ruhezustandes die Spannung
- V11 zur Verfügung. Hierdurch wird im Ruhezustand
die Ladung der Stcuerelektrodenkapazität des jeweils
leitenden Transistors im wesentlichen konstant bleiben.
Es sei darauf hingewiesen, daß der Leckstrom irn Ruhezustand der einzige Strom ist, der durch den leitenden
Transistor der Flip-Flop-Schaltung der Speicherzelle fließt. Unter der Annahme, daß in Fig. IB
der Transistor 3 leitend ist, ergibt sich ein im wesentlichen als Kurzschluß zu bezeichnender Stromweg nach
Erdpotential. Somit wird der Leckstrom durch den in Sperrichtung vorgespannten PN-Übergang der
Diode D2 festgelegt, die ihrerseits zwischen die Spannungsqucllc — V und Erdpotential eingefügt ist.
Es wurde eine Versuchsschaltung gemäß der Erfindung gebaut, wobei handelsübliche Feldeffekttransistoren
(FET) benutzt wurden. Die kreuzgekoppelten Transistoren besaßen Arbeitssteilheiten von etwa
2 niA/V. während die als Treiber benutzten Feldeffekttransistoren (FET) eine Steilheit von etwa I mA/V
aufwiesen. Für den Betrieb erforderte die Versuchsschaltung eine negative Amplitudenänderung
von 8 bis K) Volt zwischen Erdpotential und Wortleitung, während eine positive Amplitudenänderung bezüglich
des Erdpotentials von etwa 6 Volt auf den BitleiTungen erforderlich war. Eine Substratspannung
von +6 bis +8 Volt war hierbei an die Substrate der Feldeffekttransistoren angelegt.
In Fig. IA ist lediglich ein Abfühlverstärker 23
eingezeichnet, der über den Schalter 22 mit der Bitleitung 19 in Verbindung steht. Es versteht sich jedoch,
daß ein gleichartiger Leseverstärker mit der Bitleitung 18 verbunden werden kann, wie dies auf der rechten
Seite der Fig. 1 A für den Leseverstärker 23 dargestellt
ist. Die in der Zeichnung dargestellte Anordnung kommt mit der Hälfte der Leseverstärker aus, wobei
die Gesamtarbeitsweise der Schaltung keinerlei Beeinträchtigung erfährt, da das Fehlen eines Ausgangssignals
auf der Bitleitung 19 die gleiche Bedeutung besitzt wie das Vorliegen eines Ausgangssignals auf
der Bitleitung 18. Es sei jedoch bemerkt, daß, wie in der Technik der Informationsspeicherung bekannt,
ein Differentialverstärker zur Abfühlung der Bitleitungen der Speicherzelle benutzt werden kann. Hierbei
erhält man den Vorteil, daß der Stör- oder Rauschpegel herabgesetzt wird.
Zur Beschreibung der Arbeitsweise der in F i g. IA
dargestellten Speicherzelle sei von der Wirkungsweise der Treibertransistoren 12 und 13 abgesehen, bzw.
von der Wirkung dieser Transistoren nur die Tatsache berücksichtigt, daß zur Umschaltung der bistabilen
Schaltung an den Knotenpunkten A oder B jeweils ein negativer Impuls vorhanden sein muß, wie er gestrichelt
als - Vp angedeutet ist. Ist der Transistor 3
gesperrt, so bewirkt das Anlegen eines Impulses — Vp
an den Knotenpunkt A, daß der Transistor 3 eingeschaltet wird. Während des Ruhezustandes verbleibt
die Flip-Flop-Schaltung auch über längere Zeiten in ihrem Zustand, was weitgehend auf die Wirkung des
nichtlinearen Spannungsteilers aus der Diode Dl und der Diode α zurückzuführen ist, wie dies in der
Fig. IB gesondert herausgezeichnet ist und bereits eingehend beschrieben wurde. Ein negativer Impuls
— Va an dem Knotenpunkt B schaltet den Transistor
2 in der gleichen Weise. Der Zustand, in dem sich die Flip-Flop-Schaltung befindet, kann durch
Messung der Spannung an den Knotenpunkten /I und.Oder B mit einem Spannungsmesser festgestellt
werden. Andererseits kann man auch die an den Knotenpunkten
A bzw. B liegende Spannung auf Torschalt ungen oder auf nicht dargestellte Kippschaltungen
einwirken lassen, die an ihrem Ausgang eine Anzeige für das Vorhanden- oder Nichtvorhandensein
einer Spannung an ihrem Eingang liefern. Eine in F i g. IA gestrichelt dargestellte Diode 38 kann benutzt
werden, um sicherzustellen, daß nur negative Steuerimpulse an die Knotenpunkte gelangen. Der
gestrichelt gezeichnete Bogen 38 soll andeuten, daß
'5 am Punkt B ebenfalls eine entsprechende Diode angeordnet
werden kann.
Fig. 3 zeigt schematisch eine Anzahl von Speicherzellen
nach Fig. 1. die in Form einer Matrix angeordnet
sind. Die einzelnen Speicherzellen sind in Form einer Vicrpolschaltung eingezeichnet, die nur die nach
außen führenden Anschlüsse erkennen läßt. Die die Speicherzellen darstellenden Rechtecke sind mit der
Bezugsziffer 1 bezeichnet, womit angedeutet ist. daß der innere Aufbau der als Rechtecke gezeichneten
Vierpole jeweils der im Zusammenhang mit Fig. 1 beschriebenen Schaltanordnung entspricht.
Die Organisation der Speichermatrix kann auf verschiedene Weise, je nach den jeweils vorliegenden Erfordernissen,
vorgenommen werden. In jedem Falle
wird von einer Speicherzelle ein Bit gespeichert und es können z. B. eine Anzahl von Bits bzw. von Speicherzellen
über eine gemeinsame Wortleitung WL zusammengefaßt und die aus einer Anzahl von Bits
besiehenden Wörter eingeschrieben oder ausgelesen werden. Wie im Zusammenhang mit Fig. 1 beschrieben
wurde, kann jede Zelle für eine binäre Informationsspeicherung selektiv angesteuert werden.
Wie Fig. 3 zeigt, ist jede Speicherzelle 1 in jeder Spalte über die Bitleitungen 18 und 19 mit den Impulsquellen
20 und 21 während eines Schreibzyklus verbunden und die Bitleitung 19 ist während eines
Lesezyklus über den Schalter 22 mit dem Leseverstärker 23, der auch mit SA bezeichnet ist, verbunden.
Die Leseleitung 19 ist in Fig. 3 als BSI angegeben.
wodurch zum Ausdruck kommt, daß die gespeicherte Information auf der Leitung 19 einer binären »1« entspricht,
während die Bitleitung 18 mit BSQ bezeichnet ist, um auszudrücken, daß die über diese Leitung gespeicherte
Information einer binären »0« entspricht.
Die Impulsquellen 27 sind in F i g. 3 über die Wortleitungen
26 mit einer Anzahl von Speicherzellenspalter verbunden, wobei jede Spalte eine Anzahl von Speicherzellen
1 enthält. Die Impulsquellen 27 werder von einem nicht gezeigten Decoder über die Leitungen
39 angesteuert, wobei beim Einschreiben odei beim Auslesen einer Information nur eine der Wort
leitungen 26 mit einem Impuls beaufschlagt wird. Is ein Wort der Information einzuschreiben, so wird ein<
der Impulsquellen 20 oder 21 über ein Registe oder eine ähnliche, nicht gezeigte Vorrichtung übe
die Verbindungen 40 oder 41 angesteuert. Gleich zeitig erfolgt die Ansteuerung einer der Tmpulsquel
len 39.
Um so z.B. eine Information in die obere Zeil· einzuschreiben, wird demnach die fmpulsquelle 27
die über die Wortleitung 26 die obere Zeile versorgt und gleichzeitig eine der einzuschreibenden Informa
tion entsprechende Kombination von Impulsquelle
J(I oder ?Λ angesteuert, um die binären »Einsen« oder »Nullen« in eine jede Speichel zelle 1 der oberen Zeile
einzuschreiben. Sollen z.B. alle Zellen der oberen teile in den Zustand einer binären »1« versetzt werden,
so sind demnach alle Impulsquellen 21 anzusteuern, wobei die Information bei gleichzeitiger An-•teuerung
der Wortleitung 26 über die der Zeile lugehörige Impulsquelle 27 über die Leitungen 19 in
die einzelnen Zellen der oberen Speicherzeile gelangt. Sollen dahingegen die Zellen der oberen Zeile alle
in den Zustand einer binären »0« gebracht werden, so erfolgt eine Ansteuerung der einzelnen Zellen
durch Aussteuerung der Impulsquellen 20, wobei die Information über die Leitungen 18, die auch mit BSO
bezeichnet sind, bei gleichzeitiger Ansteuerung der Wortleitung 26 der oberen Zeile mittels der zugehörigen
Impulsquelle 27 in die einzelnen Zellen gelangt. Die wie vorstehend beschrieben in die Zellen der oberen
Speicherzelle eingespeicherte Information hätte ähnlich in jede andere Reihe eingespeichert werden
können, indem einfach eine andere Impulsquelle 27 angesteuert worden wäre, und zwar jeweils die, die
der Zeile zugeordnet ist, in die die Information eingespeichert werden soll. Zum Auslesen der in den Zellen
1 einer jeden Reihe eingespeicherten Information werden die Zellen 1 der gewünschten Reihe von der
Impulsquelle 27 der auszulesenden Reihe angesteuert, was über die jeweils zugehörige Wortleitung 26
geschieht, und es wird festgestellt, ob ein Stromfluß oder kein Stromfluß in den Ableseverstärkern angezeigt
wird. Dies hängt von dem gerade vorhandenen Zustand einer jeden Zelle der ausgelesenen Zeile ab.
Der Vorgang des Einspeicherns, des Auslesens und dei Aufrechterhaltung der jeweils vorhandenen Information
geschieht in allen Zellen in der Weise, wie es in Verbindung mit der Fig. 1 oben beschrieben
wurde.
Die Erfindung wurde im vorstenenden unter Zugrundclegung
von PNP-Feldeffekttransistorcn (FEI) beschrieben. Es ist für den Fachmann selbstverständlich,
daß auch NPN-FETs zum Aufbau der Speicherzelle benutzt werden können, und zwar sowoM füi
die aktiven Elemente der Flip-Flop-Schallung als aiii l·
i(j für die Treibertransistoren. Bei Umkehr der Ζοικ-η-folge
sind selbstverständlich die als Lastwidcrstiinik wirkenden Dioden Dl und Dl bezüglich ihrer Polnri
tat umzukehren. Das gleiche gilt auch für die in F i t: '
dargestellten Impulsverläufe, wobei die Wurtimpulv von einer Spannung 0 aus positiv und die BitimpuK
negativ sein müssen.
Im vorstehenden wurde weiterhin vom aktiven um vom Ruhezustand der Speicherzelle gesprochen
Hiermit ist selbstverständlich gemeint, daß die Ein schreib- und Ausleseoperationen in den Bereich ik
aktiven Zustandcs fallen und daß die übrige Zeit al: Ruhezustand zu betrachten ist.
Die im vorstehenden beschriebene Speicher/eil· weist bei ihrem Betrieb einen sehr geringen Lei
stungsbedarf auf, sie kommt mit einer minimalen An zahl von Feldeffekttransistoren (FET) aus im Vcr
gleich mit bisher bekannten ähnlichen Speicherzeller. Vor allem wird die eingespeicherte Ladung lediglu!
durch die ohnehin vorhandenen Leckströme auf rechterhalten. Bei der Herstellung der Speicherzelle!
bzw. Speicherzeüenrr.atrizen wird zusätzlich zu den fü die Herstellung der Feldeffekttransistoren (FFT) oh
nchin erforderlichen Diffusionsschritten lediglich ei: einziger zusätzlicher Diffusionsschritt benötigt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Zerstörungsfrei auslesbare Speicherzelle mit
zwei k.reuzgekoppelten, eine bistabile Kippschaltung bildenden Feldeffekttransistoren und zwei
üe. Ansteuerung dieser Kippschaltung dienenden Treibertransistoren, und mit einer Nachladeschaltung
für die Steuerelektrodenkapazität der zwei kreuzgekoppelten Feldeffekttransistoren, d adurch
gekennzeichnet, daß die eine bistabile Kippschaltung bildenden Feldeffekttransistoren
(2, 3) bezüglich ihrer Senker.eiektroden (8,
10) mit je einer, in Sperrichtung angeordneten, als Arbeitswiderstand wirkenden Diode (D1, D2)
in Reihe geschaltet sind, und daß die bei vorgegebener Spannung fließenden Leckströme dieser
Dioden wesentlich höher, vorzugsweise doppelt so hoch gewählt sind v-.ie die Leckströme der als Dioden
wirkenden Senken-Substratübergänge («) der beiden zugehörigen Transistoren (2, 3) und daß
die Betriebsspannungen so gewählt sind, daß sich der die Dioden (D1, D2) durchfließende Strom
etwa zu gleichen Teilen über den als Diode wirkenden Senken-Substratübergang (α) und den als
Diode wirkenden Senken-Substratübergang (L) des zugehörigen Treibertransistors aufteilt.
2. Speicherzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellung des gewünschten
Leckstrom-Verhältnisses durch unterschiedliche Dotierung und/oder gsometpsche Abmessungen
der den nichtlinear^n Spannungsteiler bildenden Dioden erzielt ist.
3. Speicherzelle nach den Ansprüchen 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Arbeitssteilheit
der die bistabile Kippschaltung bildenden Transistoren (2, 3) 2 mA/V und diejenige der Treibertransistoren
(12, 13) 1 mA/V beträgt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74490368A | 1968-07-15 | 1968-07-15 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1935318A1 DE1935318A1 (de) | 1970-01-22 |
| DE1935318B2 true DE1935318B2 (de) | 1974-02-07 |
| DE1935318C3 DE1935318C3 (de) | 1974-09-12 |
Family
ID=24994405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1935318A Expired DE1935318C3 (de) | 1968-07-15 | 1969-07-11 | Zerstörungsfrei auslesbare Speicherzelle mit vier Feldeffekttransistoren |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3573505A (de) |
| JP (1) | JPS5545995B1 (de) |
| DE (1) | DE1935318C3 (de) |
| FR (1) | FR2014598A1 (de) |
| GB (1) | GB1224938A (de) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH519251A (de) * | 1970-07-01 | 1972-02-15 | Ibm | Integrierte Halbleiterschaltung zur Speicherung von Daten |
| US3702943A (en) * | 1971-11-05 | 1972-11-14 | Rca Corp | Field-effect transistor circuit for detecting changes in voltage level |
| JP4805655B2 (ja) * | 2005-10-28 | 2011-11-02 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| US10832774B2 (en) * | 2019-03-01 | 2020-11-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Variation resistant 3T3R binary weight cell with low output current and high on/off ratio |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB883757A (en) * | 1958-06-05 | 1961-12-06 | Roe A V & Co Ltd | Improvements relating to the storage of digital information |
| US3471712A (en) * | 1964-12-28 | 1969-10-07 | Nippon Electric Co | Logical circuit comprising field-effect transistors |
| US3490007A (en) * | 1965-12-24 | 1970-01-13 | Nippon Electric Co | Associative memory elements using field-effect transistors |
-
1968
- 1968-07-15 US US744903A patent/US3573505A/en not_active Expired - Lifetime
-
1969
- 1969-06-25 FR FR6921601A patent/FR2014598A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-07-01 GB GB33046/69A patent/GB1224938A/en not_active Expired
- 1969-07-10 JP JP5418469A patent/JPS5545995B1/ja active Pending
- 1969-07-11 DE DE1935318A patent/DE1935318C3/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3573505A (en) | 1971-04-06 |
| JPS5545995B1 (de) | 1980-11-20 |
| GB1224938A (en) | 1971-03-10 |
| DE1935318A1 (de) | 1970-01-22 |
| DE1935318C3 (de) | 1974-09-12 |
| FR2014598A1 (de) | 1970-04-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1817510C3 (de) | Monolithischer Halbleiterspeicher mit Speicherzellen aus Transistoren | |
| DE2525225A1 (de) | Schaltungsanordnung zur anzeige der verschiebung elektrischer ladung | |
| DE2458848C2 (de) | Speicheranordnung | |
| DE3521480A1 (de) | Speichervorrichtung | |
| DE3802363A1 (de) | Halbleiterspeicher | |
| DE4337499A1 (de) | Ringoszillator und Konstantspannungserzeugungsschaltung | |
| DE1499843B2 (de) | Anordnung mit mindestens einer Speicherzelle mit mehreren Transistoren | |
| DE2556832B2 (de) | Speicheranordnung und Verfahren zum Betrieb einer derartigen Speicheranordnung | |
| DE2721851A1 (de) | Verriegelnder leseverstaerker fuer halbleiterspeicheranordnungen | |
| DE2621654C3 (de) | Speicheranordnung mit Feldeffekt- Transistoren | |
| DE1474457B2 (de) | Speicher mit mindestens einem binaerspeicherelement in form einer bistabilen schaltung | |
| DE2300186A1 (de) | Mos-pufferschaltung, insbesondere fuer ein mos-speichersystem | |
| DE1774708B2 (de) | ||
| DE3038641C2 (de) | Halbleiter-Speicherschaltung | |
| DE1910777A1 (de) | Impulsgespeister monolithischer Datenspeicher | |
| DE2655999A1 (de) | Speicherzelle mit transistoren, die mit verschiedenen schwellenwertspannungen arbeiten | |
| DE2646653C3 (de) | ||
| DE2855118B1 (de) | Dynamischer FET-Speicher | |
| DE2424858A1 (de) | Integrierte treiberschaltung | |
| DE2309616C2 (de) | Halbleiterspeicherschaltung | |
| DE2351554C2 (de) | Speicher für direkten Zugriff mit dynamischen Speicherzellen | |
| DE2049076A1 (de) | Kreuzpunkt Matnxgedachtnis | |
| DE2754987A1 (de) | Leistungslose halbleiter-speichervorrichtung | |
| DE2855866B2 (de) | Verfahren und Schaltungsanordnung zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers | |
| DE2842690C2 (de) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 | ||
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |