JP2514144B2 - Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法 - Google Patents
Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法Info
- Publication number
- JP2514144B2 JP2514144B2 JP4206135A JP20613592A JP2514144B2 JP 2514144 B2 JP2514144 B2 JP 2514144B2 JP 4206135 A JP4206135 A JP 4206135A JP 20613592 A JP20613592 A JP 20613592A JP 2514144 B2 JP2514144 B2 JP 2514144B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- zeolite
- treatment
- volume
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 title description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 25
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 25
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 13
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 39
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical compound C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000002760 rocket fuel Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＮＦ3 分解ガスの処理
方法に係り、特に酸化性ガスとＮＦ3 を含むガスを金属
酸化物等と接触させながら加熱分解した時に副生するＮ
Ｏ及びＮＯ2を含有するＮＦ3 分解ガスの処理方法に関
する。
方法に係り、特に酸化性ガスとＮＦ3 を含むガスを金属
酸化物等と接触させながら加熱分解した時に副生するＮ
Ｏ及びＮＯ2を含有するＮＦ3 分解ガスの処理方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ＮＦ3 は、ロケット燃料のほか、最近で
は超ＬＳＩのエッチングガスやＣＶＤのクリーニングガ
スとして使用されている。しかしながら、このガスはＴ
ＬＶ値が１０ｐｐｍと低く極めて有害であるにも関わら
ず、常温で安定であると同時に水に対する溶解度も低
く、除去すべきではあるが処理困難な物質の一つであ
る。また、特に酸化性ガスが共存すると、ＮＦ3 分解剤
の消耗や、ＮＯ及びＮＯ2 の発生等の問題があり、この
ことが処理を一層困難なものにしている。酸化性ガス共
存下でのＮＦ3 の処理方法としては、遷移金属の酸化物
と２５０℃以上で接触させ、ＮＦ3 中のフッ素を該金属
のふっ化物として酸化物表面に固定し、窒素は、ＮＯ及
び／又はＮＯ2 に変換して、吸着剤により吸着除去する
方法（特願平１−３２０４７７号）がある。
は超ＬＳＩのエッチングガスやＣＶＤのクリーニングガ
スとして使用されている。しかしながら、このガスはＴ
ＬＶ値が１０ｐｐｍと低く極めて有害であるにも関わら
ず、常温で安定であると同時に水に対する溶解度も低
く、除去すべきではあるが処理困難な物質の一つであ
る。また、特に酸化性ガスが共存すると、ＮＦ3 分解剤
の消耗や、ＮＯ及びＮＯ2 の発生等の問題があり、この
ことが処理を一層困難なものにしている。酸化性ガス共
存下でのＮＦ3 の処理方法としては、遷移金属の酸化物
と２５０℃以上で接触させ、ＮＦ3 中のフッ素を該金属
のふっ化物として酸化物表面に固定し、窒素は、ＮＯ及
び／又はＮＯ2 に変換して、吸着剤により吸着除去する
方法（特願平１−３２０４７７号）がある。
【０００３】この技術を採用したＮＦ3 除去装置では、
発生したＮＯ及びＮＯ2 は、まずゼオライトに通され
る。排ガス中のＯ2 濃度が高い場合には、ここで、ＮＯ
の一部も吸着除去されるが、通常、排ガス中のＯ2 濃度
は１％程度なので、ＮＯはほとんど除去されず、ＮＯ2
のみが吸着除去される。ついで、除去されなかったＮＯ
を含む排ガスは、ゼオライト１容に対して０．５容充填
された金属酸化物に通され、ＮＯが吸着除去される処理
剤構成となっている。
発生したＮＯ及びＮＯ2 は、まずゼオライトに通され
る。排ガス中のＯ2 濃度が高い場合には、ここで、ＮＯ
の一部も吸着除去されるが、通常、排ガス中のＯ2 濃度
は１％程度なので、ＮＯはほとんど除去されず、ＮＯ2
のみが吸着除去される。ついで、除去されなかったＮＯ
を含む排ガスは、ゼオライト１容に対して０．５容充填
された金属酸化物に通され、ＮＯが吸着除去される処理
剤構成となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のＮＦ3 除去方法
では、ＮＦ3 の熱分解で発生するＮＯｘの総量に占める
ＮＯの割合が、１０％程度であることを想定している。
しかし、この割合は、ＮＦ3 を含んだ模擬ガスを単独で
処理した時に得られた実験データを基に算出されたもの
に過ぎない。ところが、本除去装置を、ＮＦ3 を含んだ
実ガスに適用し、評価を行ったところ、この割合が予想
していたよりも高く、５０％程度にもなることがわかっ
た。このように、ＮＯの負荷増大により、従来の処理剤
構成比で、かつ金属酸化物のみでＮＯを除去する方法で
は、処理能がＮＯ負荷増大に追いつかず、ＮＯが設定処
理量以下でリークしてしまう結果となった。そこで、本
発明は、実ガスでの試験データを基に、ＮＯ負荷増大に
対応した処理方法を提供することを課題とする。
では、ＮＦ3 の熱分解で発生するＮＯｘの総量に占める
ＮＯの割合が、１０％程度であることを想定している。
しかし、この割合は、ＮＦ3 を含んだ模擬ガスを単独で
処理した時に得られた実験データを基に算出されたもの
に過ぎない。ところが、本除去装置を、ＮＦ3 を含んだ
実ガスに適用し、評価を行ったところ、この割合が予想
していたよりも高く、５０％程度にもなることがわかっ
た。このように、ＮＯの負荷増大により、従来の処理剤
構成比で、かつ金属酸化物のみでＮＯを除去する方法で
は、処理能がＮＯ負荷増大に追いつかず、ＮＯが設定処
理量以下でリークしてしまう結果となった。そこで、本
発明は、実ガスでの試験データを基に、ＮＯ負荷増大に
対応した処理方法を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、酸化性ガスとＮＦ3 を含むガスを加熱
分解した時に副生するＮＯ及びＮＯ2 を含有する分解ガ
スの処理方法において、該ガス中のＯ2 濃度を４％以上
として該ガスをゼオライト充填層、次に金属酸化物充填
層の順に通して吸着処理するに際し、該吸着剤の充填容
積比をゼオライト１容に対して金属酸化物を０．８〜
１．３容とすることとしたものである。
に、本発明では、酸化性ガスとＮＦ3 を含むガスを加熱
分解した時に副生するＮＯ及びＮＯ2 を含有する分解ガ
スの処理方法において、該ガス中のＯ2 濃度を４％以上
として該ガスをゼオライト充填層、次に金属酸化物充填
層の順に通して吸着処理するに際し、該吸着剤の充填容
積比をゼオライト１容に対して金属酸化物を０．８〜
１．３容とすることとしたものである。
【０００６】本発明では、上記のように、Ｏ2 源として
空気又はＯ2 ガスを混合してＯ2 濃度を４％以上にする
ことにより、ゼオライトにＮＯの吸着除去性能を新たに
賦与するとともに、金属酸化物のＮＯ吸着除去性能をも
高めることができる。また、ゼオライト１容に対する金
属酸化物の充填容積を、従来の０．５容から０．８〜
１．３容に増加することによって、ＮＯの処理容量自体
を増やしている。これら一連の工程により、酸化性ガス
の共存下にあるＮＦ3 を完全に効率よく除去し、かつ外
部環境に対して有害な成分を一切排出しない方法として
いる。
空気又はＯ2 ガスを混合してＯ2 濃度を４％以上にする
ことにより、ゼオライトにＮＯの吸着除去性能を新たに
賦与するとともに、金属酸化物のＮＯ吸着除去性能をも
高めることができる。また、ゼオライト１容に対する金
属酸化物の充填容積を、従来の０．５容から０．８〜
１．３容に増加することによって、ＮＯの処理容量自体
を増やしている。これら一連の工程により、酸化性ガス
の共存下にあるＮＦ3 を完全に効率よく除去し、かつ外
部環境に対して有害な成分を一切排出しない方法として
いる。
【０００７】吸着剤による吸着除去を効率よく行うた
め、ＮＦ3 の加熱分解によって発生したＮＯｘを含むガ
スは、空冷又は水冷方式のガス冷却機を通して、７０℃
以下に冷却した後、吸着剤に導かれることが望ましい。
また、混合するＯ2 源は、コンプレッサー等の空気で
も、ボンベ等で供給される空気又はＯ2 ガスでも良い
が、水分等のゼオライトのＮＯｘ吸着を阻害する成分
を、シリカゲル・ゼオライト等であらかじめ除去した後
に、使用することが望ましい。
め、ＮＦ3 の加熱分解によって発生したＮＯｘを含むガ
スは、空冷又は水冷方式のガス冷却機を通して、７０℃
以下に冷却した後、吸着剤に導かれることが望ましい。
また、混合するＯ2 源は、コンプレッサー等の空気で
も、ボンベ等で供給される空気又はＯ2 ガスでも良い
が、水分等のゼオライトのＮＯｘ吸着を阻害する成分
を、シリカゲル・ゼオライト等であらかじめ除去した後
に、使用することが望ましい。
【０００８】これらのＯ２源は、ＮＦ３熱分解工程の上
流側、下流側の何れで処理ガスに混合されても良いが、
Ｏ２との反応によってＨ２Ｏを生成するような成分が、
ガス中に共存すると、ＮＦ３熱分解過程でＨ２Ｏが生成
し、ゼオライトのＮＯおよびＮＯ２吸着除去が阻害され
るので、このような場合は、Ｏ２源の混合をＮＦ３熱分
解工程より下流側で行い、ここでのＯ２濃度をできるだ
け下げて、Ｈ２Ｏの生成を抑えることが望ましい。ガス
を通す場合、流れの方向は上向流・下向流の何れによる
ものでも差し支えない。
流側、下流側の何れで処理ガスに混合されても良いが、
Ｏ２との反応によってＨ２Ｏを生成するような成分が、
ガス中に共存すると、ＮＦ３熱分解過程でＨ２Ｏが生成
し、ゼオライトのＮＯおよびＮＯ２吸着除去が阻害され
るので、このような場合は、Ｏ２源の混合をＮＦ３熱分
解工程より下流側で行い、ここでのＯ２濃度をできるだ
け下げて、Ｈ２Ｏの生成を抑えることが望ましい。ガス
を通す場合、流れの方向は上向流・下向流の何れによる
ものでも差し支えない。
【０００９】使用するゼオライトは、天然のものでも、
合成されたものでも良いが、有効細孔径は５〜１０Åの
ものが良い。使用する金属酸化物としては、ＣｕＯ、Ｍ
ｎＯ2 、ホプカライト等がよい。ガスとの接触面積を大
きくするため、ゼオライト及び金属酸化物の粒径はでき
る限り小さなものがよいが、排ガスの流量によっては、
通気抵抗が大きくなるので、流量に合わせて選定する必
要がある。
合成されたものでも良いが、有効細孔径は５〜１０Åの
ものが良い。使用する金属酸化物としては、ＣｕＯ、Ｍ
ｎＯ2 、ホプカライト等がよい。ガスとの接触面積を大
きくするため、ゼオライト及び金属酸化物の粒径はでき
る限り小さなものがよいが、排ガスの流量によっては、
通気抵抗が大きくなるので、流量に合わせて選定する必
要がある。
【００１０】
【作用】ＮＦ3 の加熱分解で発生するＮＯ及びＮＯ2 の
うち、ＮＯは吸着剤との反応性が乏しく、除去が困難な
成分である。特に、ガス中のＯ2 濃度が１％以下の場
合、ゼオライトではＮＯを除去することはできない。従
来技術のように、発生したＮＯ・ＮＯ2 をそのままゼオ
ライトに通すと、ＮＯ2 は除去されるものの、ＮＯは全
く除去されずにそのまま通過してしまう。そこで、ＮＦ
3 の熱分解によって発生したＮＯ・ＮＯ2 を含むガス
に、酸素あるいは空気を混合し、Ｏ2 濃度を４％以上に
してゼオライトに導入する。その結果ゼオライトは、Ｎ
Ｏ2 のみならず、ＮＯの一部をも吸着除去することが可
能となる。これは、ＮＯがゼオライト表面で、次式に示
す反応によりＮＯ2 に酸化された後吸着されることによ
ると考えられる。 ＮＯ ＋ 1/2 Ｏ2 → ＮＯ2
うち、ＮＯは吸着剤との反応性が乏しく、除去が困難な
成分である。特に、ガス中のＯ2 濃度が１％以下の場
合、ゼオライトではＮＯを除去することはできない。従
来技術のように、発生したＮＯ・ＮＯ2 をそのままゼオ
ライトに通すと、ＮＯ2 は除去されるものの、ＮＯは全
く除去されずにそのまま通過してしまう。そこで、ＮＦ
3 の熱分解によって発生したＮＯ・ＮＯ2 を含むガス
に、酸素あるいは空気を混合し、Ｏ2 濃度を４％以上に
してゼオライトに導入する。その結果ゼオライトは、Ｎ
Ｏ2 のみならず、ＮＯの一部をも吸着除去することが可
能となる。これは、ＮＯがゼオライト表面で、次式に示
す反応によりＮＯ2 に酸化された後吸着されることによ
ると考えられる。 ＮＯ ＋ 1/2 Ｏ2 → ＮＯ2
【００１１】さらに、ゼオライトの後段にゼオライト１
容にたいして０．８〜１．３容の金属酸化物を置き、ゼ
オライトで取りきれないＮＯを除去する。従来よりＯ２
濃度が高くなっているため、金属酸化物によるＮＯ吸着
除去性能も向上する。これは、ＮＯが金属酸化物に固定
される過程に、ＮＯのＮＯ ３ −イオンへの酸化が含まれ
ており、これを気相中のＯ２が促進することによると考
えられる。また、金属酸化物の充填量を従来よりも増量
し、ＮＯ負荷の増大に対応させている。
容にたいして０．８〜１．３容の金属酸化物を置き、ゼ
オライトで取りきれないＮＯを除去する。従来よりＯ２
濃度が高くなっているため、金属酸化物によるＮＯ吸着
除去性能も向上する。これは、ＮＯが金属酸化物に固定
される過程に、ＮＯのＮＯ ３ −イオンへの酸化が含まれ
ており、これを気相中のＯ２が促進することによると考
えられる。また、金属酸化物の充填量を従来よりも増量
し、ＮＯ負荷の増大に対応させている。
【００１２】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでとな
い。 実施例１ ４０ｍｍφのアクリル製容器を２段に分け、上流側１段
目に層高５０ｍｍになるようにゼオライトを、２段目に
層高５０ｍｍのホプカライトをそれぞれ充填した。この
容器にＮ2 ，Ｏ2 ，ＮＯ2 ，ＮＯの混合ガスを総流量
０．５リットル／ｍｉｎで流した。入口のＮＯ2 及びＮ
Ｏ濃度は、実ガスの分析データと同じく、いずれも１０
０ｐｐｍとした。Ｏ2 濃度は、処理効果を見るため、０
〜１０％の間で変動させた。処理剤はいずれも、粒径７
〜１６ｍｅｓｈの市販品を用いた。容器出口のＮＯおよ
びＮＯ2 濃度を窒素酸化物分離定量用の検知管で測定し
た。ＮＯまたはＮＯ2 が各々のＴＬＶ値（ＮＯ：２５ｐ
ｐｍ、ＮＯ2 ：３ｐｐｍ）を超えるまで処理を行い、そ
れまでに経過した時間を比較した。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでとな
い。 実施例１ ４０ｍｍφのアクリル製容器を２段に分け、上流側１段
目に層高５０ｍｍになるようにゼオライトを、２段目に
層高５０ｍｍのホプカライトをそれぞれ充填した。この
容器にＮ2 ，Ｏ2 ，ＮＯ2 ，ＮＯの混合ガスを総流量
０．５リットル／ｍｉｎで流した。入口のＮＯ2 及びＮ
Ｏ濃度は、実ガスの分析データと同じく、いずれも１０
０ｐｐｍとした。Ｏ2 濃度は、処理効果を見るため、０
〜１０％の間で変動させた。処理剤はいずれも、粒径７
〜１６ｍｅｓｈの市販品を用いた。容器出口のＮＯおよ
びＮＯ2 濃度を窒素酸化物分離定量用の検知管で測定し
た。ＮＯまたはＮＯ2 が各々のＴＬＶ値（ＮＯ：２５ｐ
ｐｍ、ＮＯ2 ：３ｐｐｍ）を超えるまで処理を行い、そ
れまでに経過した時間を比較した。
【００１３】この結果を表１及び図１に示す。
【表１】 上記のように、Ｏ2 を全く混合していない場合は、処理
時間は３０時間に過ぎないが、Ｏ2 濃度の増加ととも
に、直線的に増加し、４％で５９８時間に達した。これ
以上Ｏ2 濃度を増加させても、処理時間はほとんど変わ
らなかった。
時間は３０時間に過ぎないが、Ｏ2 濃度の増加ととも
に、直線的に増加し、４％で５９８時間に達した。これ
以上Ｏ2 濃度を増加させても、処理時間はほとんど変わ
らなかった。
【００１４】実施例２ ４０ｍｍφのアクリル製容器を２段に分け、総充填量の
１２６ｍｌ（層高１００ｍｍ）は一定として、上流側１
段目にゼオライト、２段目にホプカライトの順に充填し
た。両処理剤の充填量の比率による処理量の差を見るた
め、ゼオライト１容に対するホプカライト充填容積を０
〜２容まで変化させた。この容器にＮ2，Ｏ2 ，Ｎ
Ｏ2 ，ＮＯの混合ガスを一定条件で流した。総流量は
０．５リットル／ｍｉｎとし、ＮＯ2 及びＮＯ濃度は実
ガスでの分析データを基にいずれも１００ｐｐｍとし、
Ｏ2 は４％とした。処理剤及び測定法は、実施例１と同
じとした。カラム出口のＮＯ又はＮＯ2 が各々のＴＬＶ
値を超えるまで処理を行い、それまでに経過した時間を
比較した。
１２６ｍｌ（層高１００ｍｍ）は一定として、上流側１
段目にゼオライト、２段目にホプカライトの順に充填し
た。両処理剤の充填量の比率による処理量の差を見るた
め、ゼオライト１容に対するホプカライト充填容積を０
〜２容まで変化させた。この容器にＮ2，Ｏ2 ，Ｎ
Ｏ2 ，ＮＯの混合ガスを一定条件で流した。総流量は
０．５リットル／ｍｉｎとし、ＮＯ2 及びＮＯ濃度は実
ガスでの分析データを基にいずれも１００ｐｐｍとし、
Ｏ2 は４％とした。処理剤及び測定法は、実施例１と同
じとした。カラム出口のＮＯ又はＮＯ2 が各々のＴＬＶ
値を超えるまで処理を行い、それまでに経過した時間を
比較した。
【００１５】この結果を表２及び図２に示す。
【表２】
【００１６】上記のようにホプカライトを充填していな
い場合は、処理時間は２３９時間しかなかった。ホプカ
ライトの充填比が増えるに従って、処理時間は長くな
り、ゼオライトとホプカライトの充填量が等しいとき、
処理時間は最大に達した。これ以上ホプカライトの充填
比を増やすと、処理時間は逆に減少した。ゼオライト１
容に対してホプカライト０．８〜１．３容の範囲の充填
比であれば、最長時間の９０％以上の処理能力が得られ
た。
い場合は、処理時間は２３９時間しかなかった。ホプカ
ライトの充填比が増えるに従って、処理時間は長くな
り、ゼオライトとホプカライトの充填量が等しいとき、
処理時間は最大に達した。これ以上ホプカライトの充填
比を増やすと、処理時間は逆に減少した。ゼオライト１
容に対してホプカライト０．８〜１．３容の範囲の充填
比であれば、最長時間の９０％以上の処理能力が得られ
た。
【００１７】
【発明の効果】本発明を酸化性ガスとＮＦ3 ガスを含む
分解ガスの処理に適用することにより、ＮＦ3 及びＮＯ
ｘを効率よく、環境に無害なレベルまで処理することが
可能である。
分解ガスの処理に適用することにより、ＮＦ3 及びＮＯ
ｘを効率よく、環境に無害なレベルまで処理することが
可能である。
【図１】酸素濃度と有効処理時間の関係を示すグラフ。
【図２】充填材の容積比と有効処理時間の関係を示すグ
ラフ。
ラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 20/06 Ｂ０１Ｄ 53/34 ＺＡＢ 20/18 (56)参考文献 特開 平３−181316（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−155933（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−129695（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 酸化性ガスとＮＦ3 を含むガスを加熱分
解した時に副生するＮＯ及びＮＯ2 を含有する分解ガス
の処理方法において、該ガス中のＯ2 濃度を４％以上と
して該ガスをゼオライト充填層、次に金属酸化物充填層
の順に通して吸着処理するに際し、該吸着剤の充填容積
比をゼオライト１容に対して金属酸化物を０．８〜１．
３容とすることを特徴とするＮＦ3 分解ガスの処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4206135A JP2514144B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4206135A JP2514144B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0647253A JPH0647253A (ja) | 1994-02-22 |
| JP2514144B2 true JP2514144B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=16518365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4206135A Expired - Lifetime JP2514144B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2514144B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100841183B1 (ko) * | 2003-09-23 | 2008-06-24 | 주식회사 효성 | 니켈 및 구리함침 제올라이트 흡착제를 이용한 삼불화질소(ｎｆ₃)의 정제방법 |
-
1992
- 1992-07-10 JP JP4206135A patent/JP2514144B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0647253A (ja) | 1994-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20100247395A1 (en) | Gas purifying process and device | |
| JPH0521007B2 (ja) | ||
| JP2581642B2 (ja) | エッチング排ガス除害剤及び排ガス処理方法 | |
| JP2514144B2 (ja) | Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法 | |
| EP0382986A1 (en) | Method and apparatus for detoxicating halide of nitrogen or carbon | |
| JP2000140576A (ja) | フッ素系ガス含有混合物の無害化処理システム | |
| JP3463873B2 (ja) | パーフルオロコンパウンドのリサイクル利用方法 | |
| JP3260825B2 (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JP4459648B2 (ja) | フッ素含有化合物を含むガスの処理方法及び装置 | |
| JPH07330316A (ja) | 三弗化窒素ガスの精製方法 | |
| JP4265940B2 (ja) | 窒素化合物の除去方法 | |
| JP2001353420A (ja) | 化合物半導体の製造装置から生ずる排気ガスから半導体特殊材料ガスの回収 | |
| WO2024135452A1 (ja) | 排ガス処理方法及び排ガス処理装置 | |
| JPS5869715A (ja) | モノシランの精製方法 | |
| JP3673006B2 (ja) | シラン系ガスの除害方法 | |
| JP6379339B2 (ja) | ガス浄化方法 | |
| WO2024135453A1 (ja) | 排ガス処理方法及び排ガス処理装置 | |
| JP4558233B2 (ja) | ハロゲン含有排ガス処理装置 | |
| JPH0819727A (ja) | 排ガス処理方法 | |
| JP3957521B2 (ja) | 酸化触媒並びにそれを用いた酸化方法及び装置 | |
| KR20260041974A (ko) | 불소 플라즈마 분해 기능을 포함하는 공정 배기가스 내 네온 포집 시스템 및 그 방법 | |
| JP3271783B2 (ja) | 窒素酸化物の除去剤および除去方法 | |
| JP2864642B2 (ja) | ＮＯ▲下ｘ▼ガスの処理方法 | |
| JP2647723B2 (ja) | 有機系半導体排気ガスの無害化方法 | |
| JPH06134256A (ja) | 有害ガスの浄化方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430 Year of fee payment: 15 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430 Year of fee payment: 15 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120430 Year of fee payment: 16 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 17 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 17 |