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JP2553393B2 - Bonder tool cleaning mechanism - Google Patents
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JP2553393B2 - Bonder tool cleaning mechanism - Google Patents

Bonder tool cleaning mechanism

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JP2553393B2
JP2553393B2 JP1165249A JP16524989A JP2553393B2 JP 2553393 B2 JP2553393 B2 JP 2553393B2 JP 1165249 A JP1165249 A JP 1165249A JP 16524989 A JP16524989 A JP 16524989A JP 2553393 B2 JP2553393 B2 JP 2553393B2
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道夫 岡本
正樹 中西
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    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711Apparatus therefor

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はインナーリードボンダ、アウターリードボン
ダ、バンプ転写ボンダ、ペレットボンダ等に用いるボン
ダ用ツールクリーニング機構に関する。
The present invention relates to a bonder tool cleaning mechanism used for an inner lead bonder, an outer lead bonder, a bump transfer bonder, a pellet bonder, and the like.

[従来の技術] 従来、ボンダ用ツールクリーニング機構として、例え
ば特開昭63−16956号公報に示すものが知られている。
この構造は、ツールをクリーニングする砥石等のクリー
ニング部材の上面にブロアーパイプにより空気を吹き付
け、この空気をダクト手段で吸引することによってクリ
ーニング時に発生する粉塵の飛散を防止している。
[Prior Art] Conventionally, as a tool cleaning mechanism for a bonder, for example, one disclosed in JP-A-63-16956 is known.
With this structure, air is blown onto the upper surface of a cleaning member such as a grindstone for cleaning the tool by a blower pipe, and the air is sucked by the duct means to prevent scattering of dust generated during cleaning.

[発明が解決しようとする課題] 上記従来技術は、クリーニング時はツールを中間にし
て一方側より他方側に空気を吹き付けるので、ツールに
当った空気はツールの横方向に流れ、粉塵がダクト手段
で完全に吸引されないという問題があった。またボンデ
ィングステーシヨン方向に流れた粉塵が半導体の表面に
付着し、ボンデイングされた半導体部品が不良となると
いう問題もあった。
[Problems to be Solved by the Invention] In the above-described conventional technology, since air is blown from one side to the other side with the tool in the middle during cleaning, the air hitting the tool flows in the lateral direction of the tool and dust is generated in the duct means. There was a problem that it was not completely sucked. There is also a problem that dust flowing in the bonding station direction adheres to the surface of the semiconductor and the bonded semiconductor component becomes defective.

本発明の目的は、クリーニング時に発生する粉塵を効
果的に吸引することができるボンダ用ツールクリーニン
グ機構を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a bonder tool cleaning mechanism capable of effectively sucking dust generated during cleaning.

[課題を解決するための手段] 上記目的は、フィルムキヤリアのリードとバンプとを
圧着させるツールをクリーニングする砥石等のクリーニ
ング部材と、クリーニング時に発生する粉塵を吸引する
ダクト手段とを備えたボンダ用ツールクリーニング機構
において、前記ダクト手段は、前記クリーニング部材の
上方に配設され、かつ周囲が密封された吸引路と、前記
ツールの先端が挿入されるツール挿入穴とからなるダク
トとを有する構成により達成される。
[Means for Solving the Problems] The above object is for a bonder provided with a cleaning member such as a grindstone for cleaning a tool for pressure-bonding leads and bumps of a film carrier, and duct means for sucking dust generated during cleaning. In the tool cleaning mechanism, the duct means includes a suction path that is disposed above the cleaning member and has a sealed periphery, and a duct that includes a tool insertion hole into which a tip of the tool is inserted. To be achieved.

[作用] ダクトは、クリーニング時にツールの周りをかこって
いるので、ツールの周囲より粉塵を吸引することができ
る。これにより、粉塵が周囲に飛散することがなく、ダ
クトに効果的に吸引される。
[Operation] Since the duct surrounds the tool at the time of cleaning, dust can be sucked from around the tool. As a result, the dust does not scatter around and is effectively sucked into the duct.

[実施例] 以下、本発明の一実施例を図により説明する。図示し
ない駆動手段でXY方向に駆動される周知構造のXYテーブ
ル1上には、支持ブロック2が固定されている。支持ブ
ロック2には、垂直に配設されたクロスローラ3を介し
て上下動ブロック4が上下動自在に取付けられている。
上下動ブロック4には垂直に配設されたステージ支持軸
5が軸受6を介して回転自在に支承されており、ステー
ジ支持軸5の上面にはボンドステージ7が固定されてい
る。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. A support block 2 is fixed on an XY table 1 having a well-known structure that is driven in the XY direction by driving means (not shown). A vertically movable block 4 is attached to the support block 2 via a vertically arranged cross roller 3 so as to be vertically movable.
A vertically mounted stage support shaft 5 is rotatably supported on the vertical movement block 4 via a bearing 6, and a bond stage 7 is fixed to the upper surface of the stage support shaft 5.

また上下動ブロック4には軸ホルダ10が固定されてお
り、軸ホルダ10には水平に配設された上下調整可能な偏
心軸11が回転自在に支承されている。偏心軸11の端部に
は調整レバー12が固定されており、調整レバー12には縦
溝12aが形成されている。縦溝12aにはロックねじ13の軸
部が挿入されており、ロックねじ13のねじ部はナット14
に螺合されている。ナット14は前記上下動ブロック4に
固定された支持板15の横溝15aに遊嵌されている。また
前記偏心軸11には、カムフオロア16が固定されている。
カムフオロア16は、上面にカム面を有するリニアカム17
に当接しており、リニアカム17はXYテーブル1に固定さ
れたエアシリンダ18で水平動させられる。またリニアカ
ム17に対応したXYテーブル1上にはリニアカム17の底面
をガイドするガイドブロック19が固定され、このガイド
ブロック19上にはリニアカム17の両側側面をガイドする
ガイドローラ20が回転自在に支承されている。
Further, a shaft holder 10 is fixed to the vertical movement block 4, and an eccentric shaft 11, which is disposed horizontally and can be adjusted vertically, is rotatably supported on the shaft holder 10. An adjusting lever 12 is fixed to an end of the eccentric shaft 11, and the adjusting lever 12 is formed with a vertical groove 12a. The shaft of the lock screw 13 is inserted in the vertical groove 12a, and the screw of the lock screw 13 is
It is screwed to. The nut 14 is loosely fitted in a lateral groove 15a of a support plate 15 fixed to the vertically moving block 4. A cam follower 16 is fixed to the eccentric shaft 11.
The cam follower 16 is a linear cam 17 having a cam surface on the upper surface.
The linear cam 17 is horizontally moved by an air cylinder 18 fixed to the XY table 1. A guide block 19 for guiding the bottom surface of the linear cam 17 is fixed on the XY table 1 corresponding to the linear cam 17, and guide rollers 20 for guiding both side surfaces of the linear cam 17 are rotatably supported on the guide block 19. ing.

従って、ロックねじ13を緩めて調整レバー12を回す
と、偏心軸11が回転し、上下動ブロック4と共にステー
ジ支持軸5及びボンドステージ7が上下動するので、ボ
ンドステージ7の上下位置を調整することができる。ま
たエアシリンダ18を作動させると、リニアカム17のカム
面に従ってカムフオロア16と共に上下動ブロック4が上
下動し、ボンドステージ7が上下動する。
Therefore, when the lock screw 13 is loosened and the adjustment lever 12 is rotated, the eccentric shaft 11 rotates and the stage support shaft 5 and the bond stage 7 move up and down together with the up-and-down moving block 4, so that the vertical position of the bond stage 7 is adjusted. be able to. When the air cylinder 18 is operated, the vertical moving block 4 moves up and down together with the cam follower 16 according to the cam surface of the linear cam 17, and the bond stage 7 moves up and down.

前記ステージ支持軸5の上方側及びボンドステージ7
にはペレット25を真空吸着する吸着孔5a、7aが形成され
ており、吸着孔5aには図示しない真空源により真空引き
されるパイプ26が固定されている。また前記ステージ支
持軸5にはペレット25の回転方向を調整する調整レバー
27が固定されており、この調整レバー27の端部側の底面
には垂直に下方に伸びた軸28が固定され、この軸28の下
端側にはローラ29が回転自在に支承されている。
The upper side of the stage support shaft 5 and the bond stage 7
Are formed with suction holes 5a and 7a for vacuum-sucking the pellet 25, and a pipe 26 which is evacuated by a vacuum source (not shown) is fixed to the suction hole 5a. The stage support shaft 5 has an adjusting lever for adjusting the rotation direction of the pellet 25.
A shaft 28 that extends vertically downward is fixed to the bottom surface of the adjustment lever 27 on the end side, and a roller 29 is rotatably supported at the lower end of the shaft 28.

一方、上下動ブロック4にはモータブラケット30が固
定されており、このモータブラケット30にはモータ31が
固定されている。モータ31の出力軸にはブロック32が固
定されており、このブロック32には前記ローラ29を挟持
する形で2個のローラ33(第1図には一方のみ図示)が
回転自在に支承されている。また調整レバー27の端部上
面にはスリット34aを有する検出板34が固定されてい
る。またこの検出板34、即ち調整レバー27の回転範囲を
規制するために、前記モータブラケット30には前記検出
板34のスリット34aを検出する2個のホトセンサー35、3
6が固定されている。
On the other hand, a motor bracket 30 is fixed to the vertical movement block 4, and a motor 31 is fixed to the motor bracket 30. A block 32 is fixed to the output shaft of the motor 31. Two rollers 33 (only one is shown in FIG. 1) are rotatably supported on the block 32 so as to sandwich the roller 29. I have. A detection plate 34 having a slit 34a is fixed to the upper surface of the end portion of the adjusting lever 27. Further, in order to regulate the rotation range of the detection plate 34, that is, the rotation range of the adjustment lever 27, the motor bracket 30 has two photo sensors 35, 3 for detecting the slit 34a of the detection plate 34.
6 is fixed.

従って、モータ31を回転させると、ブロック32、ロー
ラ33を介してローラ29、軸28及び調整レバー27がステー
ジ支持軸5の軸心を中心として回動し、ステージ支持軸
5が回動させられ、ペレット25の回転方向の位置を補正
することができる。
Accordingly, when the motor 31 is rotated, the roller 29, the shaft 28, and the adjustment lever 27 rotate about the axis of the stage support shaft 5 via the block 32 and the roller 33, and the stage support shaft 5 is rotated. The position of the pellet 25 in the rotation direction can be corrected.

そこで、接合動作は、ボンドステージ7にペレット25
が図示しない手段で載置されると、吸着孔7aが真空引き
されてペレット25はボンドステージ7に保持される。そ
して、ペレット25の位置が図示しないカメラで検出さ
れ、図示しないフイルムキヤリアに設けられたリード40
に対するペレット25の回転方向の位置が前記したように
モータ31が回転させられて補正される。またXYテーブル
1がXY方向に駆動され、リード40に対するペレット25の
XY方向の位置が補正される。次に図示しない駆動手段で
上下動及びXY方向に移動させられるツール41が下降させ
られ、またエアシリンダ18が作動して前記のようにボン
ドステージ7が上昇してリード40をペレット25のバンプ
に接合する。その後ツール41は上昇、ボンドステージ7
は下降する。
Therefore, the bonding operation is performed by the pellet 25 on the bond stage 7.
Is placed by means not shown, the suction holes 7a are evacuated, and the pellets 25 are held on the bond stage 7. Then, the position of the pellet 25 is detected by a camera (not shown) and a lead 40 provided on a film carrier (not shown).
As described above, the position of the pellet 25 in the rotation direction is corrected by rotating the motor 31 as described above. In addition, the XY table 1 is driven in the XY direction, and the pellet 25 for the lead 40 is
The position in the XY direction is corrected. Next, the tool 41, which is moved up and down and moved in the XY direction by a driving means (not shown), is lowered, and the air cylinder 18 is operated to raise the bond stage 7 as described above so that the lead 40 becomes a bump of the pellet 25. Join. After that, the tool 41 moved up, bond stage 7
Goes down.

次に本発明の特徴とするツールクリーニング機構につ
いて説明する。前記上下動ブロック4は前記ステージ支
持軸5の側方にクリーニング部4aを有し、このクリーニ
ング部4a上にはクリーニング台50が固定されている。ク
リーニング台50上には、例えばシリコンカーバイトのよ
うな粒度の粗い粗砥石51と、例えばセラミックのように
粒度の細かい仕上砥石52と、ワイヤブラシ53とが固定さ
れている。またクリーニング部4aの下面に対応して前記
XYテーブル1上にはシリンダ54が固定されている。
Next, a tool cleaning mechanism which is a feature of the present invention will be described. The vertically moving block 4 has a cleaning section 4a on the side of the stage support shaft 5, and a cleaning table 50 is fixed on the cleaning section 4a. On the cleaning table 50, a coarse grindstone 51 having a coarse particle size such as silicon carbide, a finishing grindstone 52 having a fine particle size such as ceramic, and a wire brush 53 are fixed. Also, corresponding to the lower surface of the cleaning section 4a,
A cylinder 54 is fixed on the XY table 1.

前記粗砥石51、仕上砥石52、ワイヤブラシ53の上方に
は周囲が密閉された吸引路60aを有するダクト60が配設
されている。ダクト60には、ツール41の先端側が挿入さ
れるように貫通したツール挿入穴60bと、吸引路60aに連
通した開口穴60cとが形成されている。開口穴60cの部分
には連結ブロック61を介してホース接続用パイプ62が固
定されており、ホース接続用パイプ62は図示しないドレ
ンホースを介して真空装置に接続されている。前記ダク
ト60はダクト支持板63に固定されており、ダクト支持板
63はクロスローラ64を介して固定板65に上下動自在に設
けられている。そして、ダクト支持板63はスプリング66
で上方に付勢されている。またダクト支持板63は前記支
持ブロック2に固定されている。
Above the coarse grindstone 51, the finishing grindstone 52, and the wire brush 53, a duct 60 having a suction path 60a whose periphery is sealed is provided. The duct 60 is formed with a tool insertion hole 60b that penetrates so that the tip side of the tool 41 is inserted, and an opening hole 60c that communicates with the suction path 60a. A hose connecting pipe 62 is fixed to the opening 60c via a connecting block 61, and the hose connecting pipe 62 is connected to a vacuum device via a drain hose (not shown). The duct 60 is fixed to a duct support plate 63, and the duct support plate
63 is provided on a fixed plate 65 via a cross roller 64 so as to be vertically movable. And the duct support plate 63 is a spring 66
Is biased upwards. The duct support plate 63 is fixed to the support block 2.

次に作用について説明する。前記したようにフイルム
キヤリアのリード40をペレット25のバンプに接合する動
作を一定回数行った後、ツール41をダクト60のツール挿
入穴60bの上方に位置させ、またXYテーブル1を駆動し
て粗砥石51を前記ツール挿入穴60bの下方に位置させ
る。次にシリンダ54が作動して上下動ブロック4のクリ
ーニング部4aをわずかに押上げる。またツール41が下降
してツール41の下端は粗砥石51に当接する。このツール
41が下降する時に、ツール41を保持しているツールホル
ダ42によってダクト支持板63、即ちダクト60は押し下げ
ら、ダクト60の下面は粗砥石51とわずかな隙間を保つ。
この状態でXYテーブル1がXY方向に一定時間往復駆動さ
れ、ツール41の下面に付着している酸化物の目詰りを防
ぐ。
Next, the operation will be described. After the operation of bonding the film carrier lead 40 to the pellet 25 bumps is performed a certain number of times as described above, the tool 41 is positioned above the tool insertion hole 60b of the duct 60, and the XY table 1 is driven to roughly move the tool. The grindstone 51 is positioned below the tool insertion hole 60b. Next, the cylinder 54 is operated to slightly push up the cleaning portion 4a of the vertically moving block 4. Further, the tool 41 descends, and the lower end of the tool 41 comes into contact with the coarse grinding stone 51. This tool
When the tool 41 is lowered, the tool holder 42 holding the tool 41 pushes down the duct support plate 63, that is, the duct 60, and the lower surface of the duct 60 maintains a slight gap with the rough grindstone 51.
In this state, the XY table 1 is reciprocally driven in the XY direction for a certain period of time to prevent the oxide attached to the lower surface of the tool 41 from being clogged.

次にツール41は上昇し、またXYテーブル1が駆動され
て仕上砥石52がツール挿入穴60bの下方に位置させられ
る。そして、再びツール41が下降させられ、前記したと
同様にXYテーブル1がXY方向に一定時間往復駆動され、
ツール41の下面に仕上げクリーニングが行われる。その
後、再びツール41は上昇、XYテーブル1が駆動されてワ
イヤブラシ53がツール挿入穴60bの下方に位置され、そ
してツール41が下降させられる。そしてXYテーブル1が
XY方向に一定時間往復駆動され、前記した粗砥石51及び
仕上砥石52のクリーニングによってツール41の側面に付
着した酸化物が除去される。その後、ツール41は上昇及
びXY方向に駆動されてボンディングステーションの上方
に位置させられる。またシリンダ54の作動ロツドが引込
み、上下動ブロック4は下降させられ、またXYテーブル
1が駆動してボンドステージ7はボンデイングステーシ
ョンに位置させられる。
Next, the tool 41 is raised, and the XY table 1 is driven to position the finishing grindstone 52 below the tool insertion hole 60b. Then, the tool 41 is lowered again, and the XY table 1 is reciprocally driven in the XY direction for a predetermined time in the same manner as described above.
Finish cleaning is performed on the lower surface of the tool 41. Thereafter, the tool 41 is raised again, the XY table 1 is driven, the wire brush 53 is positioned below the tool insertion hole 60b, and the tool 41 is lowered. And XY table 1
It is reciprocally driven for a fixed time in the XY directions, and the oxide adhered to the side surface of the tool 41 is removed by cleaning the rough grindstone 51 and the finishing grindstone 52 described above. Then, the tool 41 is raised and driven in the XY directions to be positioned above the bonding station. Further, the operating rod of the cylinder 54 is retracted, the vertically moving block 4 is lowered, and the XY table 1 is driven to position the bond stage 7 at the bonding station.

ところで、前記のように粗砥石51、仕上砥石52、ワイ
ヤブラシ53で除去された異物の粉塵は、ダクト60によっ
て吸引されるので、粉塵の飛散が防止される。この場
合、ダクト60はツール41の周りをかこっているので、粉
塵は有効にダクト60によって吸引される。
By the way, the dust of the foreign matter removed by the coarse grindstone 51, the finishing grindstone 52, and the wire brush 53 as described above is sucked by the duct 60, so that the scattering of the dust is prevented. In this case, since the duct 60 surrounds the tool 41, dust is effectively sucked by the duct 60.

なお、上記実施例は、クリーニング部4aは上下動ブロ
ック4に設けたが、クリーニング部4aは上下動ブロック
4と別体で構成し、前記XYテーブル1と別のXYテーブル
で駆動するようにしてもよい。また上記実施例は、内部
リード接合に適用した場合について説明したが、外部リ
ード接合、転写バンプ接合等にも同様に適用できること
はいうまでもない。
Although the cleaning unit 4a is provided in the vertical moving block 4 in the above embodiment, the cleaning unit 4a is formed separately from the vertical moving block 4 and is driven by an XY table different from the XY table 1. Good. Although the above embodiment has been described with respect to the case where the present invention is applied to internal lead bonding, it is needless to say that the present invention can be similarly applied to external lead bonding and transfer bump bonding.

また上記実施例は、2個の砥石51、52とワイヤブラシ
53とを設けたが、いずれか1つ又は2つ以上の場合にも
適用できる。
In the above embodiment, two grindstones 51 and 52 and a wire brush are used.
Although 53 and 53 are provided, they can be applied to the case of any one or two or more.

[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ダ
クトは、クリーニング時にツールの周りをかこっている
ので、ツールの周囲より粉塵を吸引することができる。
これにより、粉塵が周囲に飛散することがなく、ダクト
に効果的に吸引され、半導体部品が不良となるというこ
ともない。
[Advantages of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, since the duct surrounds the tool during cleaning, dust can be sucked from the periphery of the tool.
As a result, the dust does not scatter to the surroundings, is effectively sucked into the duct, and the semiconductor component does not become defective.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す一部断面正面図、第2
図は第1図の平面図、第3図は第1図のA−A線断面図
である。 4:上下動ブロック、4a:クリーニング部、 5:ステージ支持軸、7:ボンドステージ、 25:ペレット、40:リード、 41:ツール、50:クリーニング台、 51:粗砥石、52:仕上砥石、 53:ワイヤブラシ、60:ダクト、 60a:吸引路、60b:ツール挿入穴、 61:連結ブロック、62:ホース接続用パイプ。
FIG. 1 is a partially sectional front view showing an embodiment of the present invention, and FIG.
1 is a plan view of FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 4: Vertical movement block, 4a: Cleaning part, 5: Stage support shaft, 7: Bond stage, 25: Pellet, 40: Lead, 41: Tool, 50: Cleaning stand, 51: Coarse whetstone, 52: Finishing whetstone, 53 : Wire brush, 60: Duct, 60a: Suction path, 60b: Tool insertion hole, 61: Connection block, 62: Hose connection pipe.

フロントページの続き (72)発明者 佐藤 公治 東京都武蔵村山市伊奈平2丁目51番地の 1 株式会社新川内 (72)発明者 岡本 道夫 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株式会社日立製作所武蔵工場内 (72)発明者 中西 正樹 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株式会社日立製作所武蔵工場内 (56)参考文献 特開 平1−144638(JP,A) 特開 昭61−97934(JP,A) 特開 平1−144639(JP,A) 特開 昭63−250829(JP,A) 特公 平4−55532(JP,B2)Front page continuation (72) Inventor Koji Sato 1 51-51 Inahira 2-chome, Musashimurayama City, Tokyo Shinkawauchi Co., Ltd. (72) Inventor Michio Okamoto 5-20 1 Kamimizumotocho, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi, Ltd. Musashi Plant (72) Inventor Masaki Nakanishi 5-20-1, Kamisuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi Ltd. Musashi Plant (56) Reference JP-A-1-144638 (JP, A) 61-97934 (JP, A) JP-A 1-144639 (JP, A) JP-A 63-250829 (JP, A) JP-B 4-55532 (JP, B2)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】フイルムキヤリアのリードとバンプとを圧
着させるツールをクリーニングする砥石等のクリーニン
グ部材と、クリーニング時に発生する粉塵を吸引するダ
クト手段とを備えたボンダ用ツールクリーニング機構に
おいて、前記ダクト手段は、前記クリーニング部材の上
方に配設され、かつ周囲が密封された吸引路と、前記ツ
ールの先端が挿入されるツール挿入穴とからなるダクト
とを有することを特徴とするボンダ用ツールクリーニン
グ機構。
1. A tool cleaning mechanism for a bonder, comprising: a cleaning member such as a grindstone for cleaning a tool for crimping a lead and a bump of a film carrier; and a duct means for sucking dust generated during cleaning. Has a suction passage disposed above the cleaning member and having a sealed periphery, and a duct including a tool insertion hole into which a tip of the tool is inserted, and a tool cleaning mechanism for a bonder. .
JP1165249A 1989-06-29 1989-06-29 Bonder tool cleaning mechanism Expired - Lifetime JP2553393B2 (en)

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